公开(公告)号：KR1020170020147A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：KR1020150114964

申请日：2015-08-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김기현 ,  구경하 ,  이우람 ,  이창형 ,  김지혜 ,  김지홍 ,  노윤정 ,  박세호 ,  선금종 ,  이주향 ,  하민철 ,  황보상무

IPC: H02J7/02 ,  H05K7/20 ,  H01F38/14 ,  H02J17/00

CPC classification number: H02J7/025 ,  H02J7/0029 ,  H02J50/80

Abstract: 본발명의다양한실시예는전자장치에있어서, 하우징; 상기하우징내에배치된무선충전코일; 상기하우징내에, 상기코일근처에배치된팬; 상기하우징내에, 상기코일근처에배치된온도센서; 상기코일을포함하며, 상기코일을통하여외부장치로무선으로전력을송신하도록구성된무선충전회로; 상기팬, 상기온도센서, 및상기무선충전회로와전기적으로연결된제어회로를포함하며, 상기제어회로는, 상기외부장치로부터의신호를수신하고, 상기온도센서로부터상기코일의온도와관련된데이터를수신하고, 상기신호및/또는상기데이터에적어도일부기초하여, 상기팬을제어하도록구성될수 있다.

Abstract translation: 提供电子设备。 电子设备包括壳体，设置在壳体内部的无线充电线圈，设置在壳体内并且靠近线圈的风扇，设置在壳体内部并且靠近线圈的温度传感器，具有线圈的无线充电电路 并被配置为经由线圈向外部设备无线地发送电力，以及电连接到风扇，温度传感器和无线充电电路的控制电路。 控制电路可以被配置为从外部设备接收信号，从温度传感器接收与线圈温度有关的数据，并且至少部分地基于信号和数据中的至少一个来控​​制风扇。

公开(公告)号：KR1020050013349A

公开(公告)日：2005-02-04

申请号：KR1020030051971

申请日：2003-07-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이창형

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A method for removing particles on the upper surface of a chuck in semiconductor equipment is provided to reduce the downtime by adhering particles to a cleaning plate without opening the upper part of a chamber. CONSTITUTION: A supply pressure of the cooling gas that is supplied to a wafer seating unit is checked. If a checked pressure value is lower than a predetermined value, the operation of a chamber that made an error on the cooling gas is stopped. A previously supplied wafer into the chamber is unloaded. A cleaning plate that was seated in a robotic blade is loaded into the chamber, the bottom surface of the cleaning plate is already coated with an adhering material. Within the chamber, the cleaning plate is put on the wafer seating unit, subsequently adheres residual particles on the wafer seating unit. The cleaning plate containing particles is unloaded. The chamber that made an error on the cooling gas is restarted.

Abstract translation: 目的：提供一种用于在半导体设备中去除卡盘上表面的颗粒的方法，以通过将颗粒附着在清洁板上而不打开室的上部来减少停机时间。 构成：检查供应到晶片座位单元的冷却气体的供应压力。 如果检查压力值低于预定值，则停止对冷却气体产生误差的室的操作。 先前提供的进入腔室的晶片被卸载。 坐在机器人叶片中的清洁板被装载到室中，清洁板的底表面已经被粘附材料涂覆。 在室内，将清洁板放在晶片座位单元上，随后将残留的颗粒粘附在晶片座位单元上。 卸载含有颗粒的清洁板。 重新启动冷却气体发生错误的室。

公开(公告)号：KR1020040038547A

公开(公告)日：2004-05-08

申请号：KR1020020067546

申请日：2002-11-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이창형

IPC: H01L21/66

Abstract: PURPOSE: An inner diameter measuring apparatus of a confinement ring and a using method thereof are provided to prevent an etching apparatus from being abruptly stopped in operation due to the pressure change of the inner portion of a chamber and efficiently replacing the confinement ring with another. CONSTITUTION: An inner diameter measuring apparatus(200) of a confinement ring is provided with a supporting plate(210) and a plurality of discs(220) installed on the supporting plate for measuring the inner diameter of the confinement ring. At this time, the plurality of discs are formed into a pyramid type structure. Preferably, 3 or 5 discs are stacked for forming the pyramid type structure. Preferably, the diameter of the uppermost disc is in the range of 223.815-224.185 mm and those of the next discs are increased as much as 0.4-0.6 mm.

Abstract translation: 目的：提供一种限制环的内径测量装置及其使用方法，以防止由于室内部的压力变化而使蚀刻装置在操作中突然停止，并且有效地用另一个更换限制环。 构成：限制环的内径测量装置（200）设置有支撑板（210）和安装在支撑板上用于测量限制环的内径的多个盘（220）。 此时，多个盘形成为棱锥型结构。 优选地，3或5个盘被堆叠以形成金字塔型结构。 优选地，最上面的盘的直径在223.815-224.185mm的范围内，并且下一个盘的直径增加了大约0.4-0.6mm。

公开(公告)号：KR102241991B1

公开(公告)日：2021-04-19

申请号：KR1020150114964

申请日：2015-08-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김기현 ,  구경하 ,  이우람 ,  이창형 ,  김지혜 ,  김지홍 ,  노윤정 ,  박세호 ,  선금종 ,  이주향 ,  하민철 ,  황보상무

IPC: H02J50/80 ,  H01F38/14 ,  H01F27/08 ,  H02J7/00 ,  H02J7/02 ,  H05K7/20

Abstract: 본발명의다양한실시예는전자장치에있어서, 하우징; 상기하우징내에배치된무선충전코일; 상기하우징내에, 상기코일근처에배치된팬; 상기하우징내에, 상기코일근처에배치된온도센서; 상기코일을포함하며, 상기코일을통하여외부장치로무선으로전력을송신하도록구성된무선충전회로; 상기팬, 상기온도센서, 및상기무선충전회로와전기적으로연결된제어회로를포함하며, 상기제어회로는, 상기외부장치로부터의신호를수신하고, 상기온도센서로부터상기코일의온도와관련된데이터를수신하고, 상기신호및/또는상기데이터에적어도일부기초하여, 상기팬을제어하도록구성될수 있다.

公开(公告)号：KR1020050088533A

公开(公告)日：2005-09-07

申请号：KR1020040013897

申请日：2004-03-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이창형

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67276 ,  G05B19/4183 ,  G05B19/4184

Abstract: 반도체 소자 제조설비에서 발생되는 백업 데이터를 엔지니어에게 실시간으로 전달하여 반도체 제조공정을 원활하게 진행하도록 하는 반도체 소자 제조설비의 관리 시스템 및 방법에 관한 것이다. 본 발명 반도체 소자 제조설비 관리 시스템은, 각종 설비와 온라인 연결된 호스트에서 각각의 데이터 베이스를 모두 관리토록 하고, 데이터 베이스의 데이터를 등록된 엔지니어에게 실시간 전송해 주는 데이터 전송 시스템을 포함한다. 본 발명에 의하면, 반도체 소자 제조설비의 각종 데이터를 엔지니어가 원거리에서도 실시간으로 전송받고 분석하여 신속한 조치를 취할 수 있다.