公开(公告)号：KR1020070068760A

公开(公告)日：2007-07-02

申请号：KR1020050130729

申请日：2005-12-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정실근

IPC: H01L21/20 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67253 ,  G03F7/70483 ,  H01L21/68

Abstract: A method for managing a semiconductor process is provided to prevent the generation of accidents in a processing and to improve productivity and yield by applying simultaneously interlock to deposition equipment and photo equipment in case of the generation of an abnormal CD(Critical Dimension) using a merged management for the thickness of a deposited layer and the CD after development. The difference of a skew between an efficient thickness of a predetermined layer and the CD of a predetermined pattern is checked(S600). When failure exists in the skew difference checking process, a first and a second processes are simultaneously applied with interlock, so that the failure of the CD of the predetermined pattern is restrained(S700). The first process includes an oxide depositing process and the second process includes a photo process.

Abstract translation: 提供了一种用于管理半导体工艺的方法，以防止在处理中产生事故并且通过在使用合并的情况下产生异常CD（临界尺寸）的情况下同时联锁到沉积设备和照相设备来提高生产率和产量 管理沉积层的厚度和开发后的CD。 检查预定层的有效厚度与预定图案的CD之间的偏差的差异（S600）。 当在偏差差异检验处理中存在故障时，通过互锁同时施加第一和第二处理，从而抑制预定图案的CD的故障（S700）。 第一工艺包括氧化物沉积工艺，第二工艺包括光刻工艺。

公开(公告)号：KR1020060117032A

公开(公告)日：2006-11-16

申请号：KR1020050039737

申请日：2005-05-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정실근

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G03F7/7065 ,  H01L22/12

Abstract: A wafer defect detecting method is provided to improve the reliability of a wafer defect detecting process by using two-step defect detecting processes. A first defect detecting process is performed on a plurality of wafers(S100). At this time, wafer defects are mechanically detected. A second defect detecting process is performed on defective wafers in order to check the kind and the degree of defect. The second defect detecting process is composed of first to third steps. The wafer defects are sorted by using a first predetermined reference in the first step(S200). The degree of defect is quantified in the second step(S300). The quantified defect is compared with a second predetermined reference(S400).

Abstract translation: 提供了通过使用两步缺陷检测处理来提高晶片缺陷检测处理的可靠性的晶片缺陷检测方法。 对多个晶片执行第一缺陷检测处理（S100）。 此时，机械地检测晶片缺陷。 对缺陷晶片执行第二缺陷检测处理，以便检查缺陷的种类和程度。 第二缺陷检测处理由第一到第三步骤组成。 在第一步骤中通过使用第一预定参考来对晶片缺陷进行分类（S200）。 在第二步骤中量化缺陷程度（S300）。 将量化的缺陷与第二预定参考值进行比较（S400）。

公开(公告)号：KR1020060061010A

公开(公告)日：2006-06-07

申请号：KR1020040099855

申请日：2004-12-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정실근

IPC: H01L23/544

CPC classification number: H01L23/544 ,  H01L21/67294 ,  H01L2223/54493

Abstract: 본 발명은 생산 수율을 증대 또는 극대화할 수 있는 웨이퍼 라벨링 방법 대하여 개시한다. 그의 방법은, 포토 공정에서 웨이퍼의 외주면을 따라 감광막이 제거되는 사이드 린스영역에 웨이퍼 식별 부호를 형성함으로서 다수의 반도체 제조 공정으로 인한 상기 웨이퍼 식별 부호가 손상되지 않도록 할 수 있기 때문에 생산 수율을 향상시킬 수 있다.

웨이퍼(wafer), 라벨(label), 식별 부호(identification), 감광막, 사이드 린스영역(side rinse region)

公开(公告)号：KR1020060039549A

公开(公告)日：2006-05-09

申请号：KR1020040088667

申请日：2004-11-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정실근

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F9/7096 ,  G03F7/3057 ,  G03F7/70925 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67028

Abstract: 본 발명은 반도체 제조공정 중 코팅공정과 정렬 및 현상공정을 수행하는 인라인 설비에 관한 것이다.
이와 같은 본 발명은 코팅공정 후 웨이퍼 뒷면에 도포된 포토레지스트(오염물질)를 제거하여 노광 시 웨이퍼 표면에 국부적인 포커스 불량을 방지할 수 있는 인라인 설비에 관한 것으로써, 코팅공정을 수행하는 트랙장비와, 정렬 및 노광공정을 수행하는 노광장치와, 상기 트랙장비와 노광장치 사이에 위치하고, 코팅공정을 마친 웨이퍼를 노광장치로 이송하기 전에 세척하는 세정부 포함한다. 여기서, 상기 세정부는 웨이퍼가 안착되는 고정가이드와, 상기 고정가이드 하부에 설치되고 웨이퍼 뒷면으로 압축공기를 분사하는 에어건(air gun)과, 상기 고정가이드 하부 일측에 설치되고 오염물질을 뽑아내는 흡입부를 구비한다.

트랙장비, 노광장치, 세정부, 에어건, 흡입부

公开(公告)号：KR1020060008444A

公开(公告)日：2006-01-27

申请号：KR1020040056182

申请日：2004-07-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정실근

IPC: G03F1/64 ,  G03F7/20

Abstract: 본 발명에서는 네크부의 한쪽이 로봇에 연결되어 지지되며 상기 네크부의 다른 한쪽에는 핑거부가 연장되어 형성되어 상기 레티클의 저면 가장자리 부위를 받쳐 지지하고 상기 핑거부 상면에는 진공 흡착을 하기 위한 진공홀이 구비된 레티클 로봇 암과, 상기 핑거부의 상면 중 상기 레티클과 접촉하는 부위에 장착되는 적어도 하나 이상의 돌기 형태의 포지션 가이드와, 상기 레티클 로봇 암에 안착되어지며, 상기 레티클의 상기 포지션 가이드와 접촉되는 부위에 상기 포지션 가이드가 삽입되어지기 위한 적어도 하나 이상의 레티클 홈이 구비된 레티클을 포함함을 특징으로 하는 포토리소그래피 설비를 제공한다. 본 발명은 포지션 가이드와 레티클 홈이 구비됨으로써, 레티클이 레티클 로봇 암에 안착될 시, 무게 중심의 흐트러짐 또는 진공의 약함에 의한 레티클 로드 오류 발생 또는 이로 인한 고가의 레티클의 파손 문제를 최소화할 수 있다.

포토리소그래피, 레티클(reticle), 포지션 가이드, 진공(vacuum)

公开(公告)号：KR1020040046003A

公开(公告)日：2004-06-05

申请号：KR1020020073800

申请日：2002-11-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정실근

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A cassette for a wafer is provided to discriminate the lot ID(IDentification) displayed on the wafer from the outside by forming a predetermined portion of the cassette using transparent material. CONSTITUTION: A cassette(20) for a wafer is used for storing a plurality of wafers(22). At this time, the cassette has a plurality of grooves for easily loading the wafers. The cassette further includes a lot ID discrimination part(23) for discriminating a lot ID(A) displayed on the wafer. Preferably, the lot ID discrimination part is made of transparent material, so that the lot ID is capable of being checked by using naked eyes of a worker.

Abstract translation: 目的：提供用于晶片的盒子，以通过使用透明材料形成盒的预定部分来从外部区分显示在晶片上的批号（识别）。 构成：用于晶片的盒（20）用于存储多个晶片（22）。 此时，盒具有用于容易地加载晶片的多个槽。 盒子还包括用于区分显示在晶片上的批号（A）的批号识别部分（23）。 优选地，批次ID识别部分由透明材料制成，使得能够通过工人的肉眼检查批次ID。

公开(公告)号：KR1020030082206A

公开(公告)日：2003-10-22

申请号：KR1020020020827

申请日：2002-04-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정실근

IPC: H01L21/66

Abstract: PURPOSE: An apparatus for detecting open state of a door in laser marking equipment is provided to improve yield by eliminating the particles induced from the outside in a wafer lot identification(ID) marking process. CONSTITUTION: A door(14,16) is installed in a cassette plate to isolate a space for a cassette from the outside. A sensor(18,20) is installed in a side of the door to detect the open state of the door. The first relay driver unit receives a door openness detection signal from the sensor and outputs a relay drive signal. The first relay is driven by a drive signal outputted from the first relay driver unit and outputs an alarm generating control signal.

Abstract translation: 目的：提供一种用于检测激光打标设备中的门的打开状态的装置，以通过在晶片批识别（ID）标记过程中消除从外部引起的颗粒来提高产量。 构成：门（14,16）安装在盒式磁盘中，以将磁带盒的空间与外部隔离。 传感器（18,20）安装在门的侧面以检测门的打开状态。 第一继电器驱动器单元接收来自传感器的门开启检测信号并输出​​继电器驱动信号。 第一继电器由从第一继电器驱动单元输出的驱动信号驱动，并输出报警产生控制信号。

公开(公告)号：KR1020000040213A

公开(公告)日：2000-07-05

申请号：KR1019980055788

申请日：1998-12-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정실근 ,  유기만

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A marking apparatus is provided to automatically cut off a power supply of a lamp in the apparatus. CONSTITUTION: A marking apparatus includes an exposing section where a wafer is exposed to a light source and relevant information is recorded on the wafer. Moreover, the exposing section has a lamp(30) used as the light source, a lamp house(A) containing the lamp(30), an exposing stage on which the wafer to be exposed is placed, and a projection lens. The lamp(30) in the lamp house(A) is connected with a power supplying unit(34) via a switch(32) such as a toggle or micro switch. The switch(32) is controlled by a cover which is equipped on a top of the lamp house(A) and vertically opened and closed. That is, when the cover is down and closed, the switch(32) is turned on by pressure of the cover, whereas when the cover is up and opened, the switch(32) is turned off by release of the cover. Therefore, a power supply of the lamp is automatically cut off when the cover of the lamp house(A) is opened during an exposing process.

Abstract translation: 目的：提供一种标记装置，用于自动切断装置中的灯的电源。 构成：标记装置包括曝光部分，其中晶片暴露于光源并且相关信息被记录在晶片上。 此外，曝光部具有用作光源的灯（30），包含灯（30）的灯室（A），放置待曝光晶片的曝光台和投影透镜。 灯室（A）中的灯（30）经由诸如肘节或微动开关的开关（32）与供电单元（34）连接。 开关（32）由安装在灯室（A）顶部并垂直打开和关闭的盖子控制。 也就是说，当盖子向下并关闭时，开关（32）被盖的压力打开，而当盖子向上并打开时，开关（32）通过盖子释放被关闭。 因此，在曝光过程中，当灯室（A）的盖打开时，灯的电源被自动切断。

公开(公告)号：KR1020000026641A

公开(公告)日：2000-05-15

申请号：KR1019980044268

申请日：1998-10-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정실근 ,  윤종순

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A device which provides oil to the needle surface is provided to enhance the production ratio of the wafer which is treated at the photo step by preventing mis align and the short focusing defect of the exposing equipment. CONSTITUTION: A device comprises an X-stage(10), a Y-stage(20), a needle surface(12, 22), a motor(14, 24), signal treating unit, a control unit for providing oil, a vibration detecting signal, and a shutter driving signal. The signal treating unit manages the shutter driving signal along with the vibration detecting signal of the X-stage(10). The shutter driving signal lubricates the needle surface(12) only when the vibration of the stage makes the focusing defect or mis align. The control unit for providing oil controls the air supply according to the output signal of the signal treating unit.

Abstract translation: 目的：提供向针表面提供油的装置，以通过防止曝光设备的错误对准和短聚焦缺陷来提高在光刻步骤处理的晶片的生产率。 构成：装置包括X级（10），Y级（20），针表面（12,22），马达（14,24），信号处理单元，用于提供油的控制单元 振动检测信号和快门驱动信号。 信号处理单元与X级（10）的振动检测信号一起管理快门驱动信号。 快门驱动信号仅在舞台振动导致聚焦缺陷或不对准时才润滑针表面（12）。 用于提供油的控制单元根据信号处理单元的输出信号控制空气供应。

公开(公告)号：KR100217339B1

公开(公告)日：1999-09-01

申请号：KR1019960062080

申请日：1996-12-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정실근

IPC: H01L21/027

Abstract: 웨이퍼를 공정챔버 내부로 로딩하기 전에 플랫존을 기준하여 정렬시키도록 하는 반도체 웨이퍼 정렬장치 및 그 방법에 관한 것이다.
본 발명은 잘려진 형상의 웨이퍼 플랫존이 일 방향에 대하여 평행하게 위치되도록 받쳐 지지하는 지지부와, 상기 웨이퍼를 상기 지지부 방향으로 이동시키는 밀대 및 상기 지지부의 소정 위치에 설치되어 상기 웨이퍼 측부의 접촉에 의해 웨이퍼가 위치됨을 감지하는 위치 감지센서를 포함하여 구성된 반도체 웨이퍼 정렬장치 및 그 방법에 있어서, 상기 지지부는 상기 플랫존의 양측 부위에 각각 분리하여 설치하고, 상기 지지부 사이에 위치 감지센서를 복수개 설치하여 위치 감지센서 전부에 접촉되었을 때 웨이퍼가 정렬됨을 확인하는 단계를 구비하여 이루어짐을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 의하면 웨이퍼의 플랫존에 접촉되는 지지부의 접촉 면적을 줄이도록 함으로써 충돌에 의한 반동을 줄이고, 접촉면적의 저항에 의한 반발력을 줄임으로써 플랫존 위치가 일 방향에 위치되기 용이하며, 위치 감지센서를 복수개 설치함으로써 정확히 정렬된 상태를 확인하게 되어 공정 불량을 방지하게 되는 효과가 있다.