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公开(公告)号：KR1020060001141A
公开(公告)日：2006-01-06
申请号：KR1020040050175
申请日：2004-06-30
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 조연하
IPC: H01L21/265 , H01L21/68
CPC classification number: H01L21/681
Abstract: 본 발명은 생산 수율을 증대 또는 극대화 할 수 있는 웨이퍼 정렬장치에 관한 것으로, 그의 장치는, 각종 구동부를 구비하는 몸체; 상기 몸체의 상부로 돌출되어 상기 웨이퍼를 회전시키는 오리엔트 척; 상기 웨이퍼의 외주면을 슬라이드시켜 상기 웨이퍼의 중심이 상기 오리엔트 척 상에 위치되도록 하기 위해 승하강되는 가이드 플레이트; 상기 오리엔트 척 상에서 회전되는 웨이퍼의 플렛 존을 감지하는 복수개의 센서; 상기 센서 및 오리엔트 척에 의해 일방향으로 정렬된 웨이퍼를 탑재하기 위해 상기 오리엔트 척 상부에 형성되고, 상기 몸체의 각 모서리에 형성된 복수개의 프레임에 의해 지지되는 웨이퍼 카세트; 및 상기 웨이퍼 카세트와 상기 몸체 사이에 위치되는 상기 오리엔트 척 및 센서주위의 상기 프레임 둘레를 둘러싸고, 상기 센서에 입사되는 외부광을 차광시키는 패널 벽을 포함함에 의해 상기 센서가 외부광에 의해 오동작되는 것을 방지할 수 있기 때문에 생산 수율을 향상시킬 수 있다.
플랫존(flat zone), 패널 벽(panel wall), 몸체(body), 웨이퍼 카세트(wafer carrier cassette), 오리엔트 척(orient chuck)-
公开(公告)号：KR1020040001041A
公开(公告)日：2004-01-07
申请号：KR1020020036101
申请日：2002-06-26
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 조연하
IPC: H01L21/265
CPC classification number: H01J37/3171
Abstract: PURPOSE: An apparatus and method of interlocking lens power supply of an ion implantation equipment are provided to automatically shut down the equipment when an abnormal state is detected by comparing the positive and negative voltages supplied from a positive and a negative power supply equipment. CONSTITUTION: A positive and a negative power supply equipment(21,23) supply a lens assembly(10) with focusing voltages in accordance with a control signal of a power supply interfacing device(25). The lens assembly(10) is adapted to focus a positive ion beam passing through the assembly by the application of focusing voltages supplied by the positive and negative power supply equipment. A comparator(51) compares the positive voltage with the negative voltage of the positive and negative power supply. In response to the output signal of the comparator(51), the operating mode of the positive and negative power supply equipment is changed by a switch(53). If the output signal of the comparator(51) indicates an abnormal state, a shut down signal is generated by a signaling device(55).
Abstract translation: 目的：提供一种离子注入设备互锁透镜电源的装置和方法，通过比较从正负电源设备提供的正电压和负电压来检测异常状态时，自动关闭设备。 构成：正电源和负电源设备（21,23）根据电源接口设备（25）的控制信号提供具有聚焦电压的镜头组件（10）。 透镜组件（10）适于通过施加由正和负电源设备提供的聚焦电压来聚焦通过组件的正离子束。 比较器（51）将正电压与正电源和负电源的负电压进行比较。 响应于比较器（51）的输出信号，通过开关（53）改变正电源设备和负电源设备的工作模式。 如果比较器（51）的输出信号指示异常状态，则信号装置（55）产生关闭信号。
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公开(公告)号：KR1020030078441A
公开(公告)日：2003-10-08
申请号：KR1020020017494
申请日：2002-03-29
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 조연하
IPC: H01L21/265
Abstract: PURPOSE: An ion-implantation apparatus is provided to be capable of easily controlling ion-beam and generating alarm signal by sensing abnormal state. CONSTITUTION: An ion-implantation apparatus comprises an ion implanting chamber(210) having a substrate supporter(218), an ion supply source(202) connected to the ion implanting chamber, an ion current measurement part for measuring ion current of ion-beam, a location control part for controlling the ion current measurement part, and an alarm part(240,242) for generating an alarm signal. The alarm part(240,242) controls the operation of the ion supply source(202) according to the location control state of the ion current measurement part and generates the alarm signal.
Abstract translation: 目的：提供离子注入装置，能够容易地控制离子束并通过感测异常状态产生报警信号。 构成：离子注入装置包括具有衬底支撑件（218）的离子注入室（210），连接到离子注入室的离子供应源（202），用于测量离子束离子流的离子电流测量部件 ，用于控制离子电流测量部件的位置控制部分，以及用于产生报警信号的报警部件（240,242）。 报警部件（240,242）根据离子电流测量部件的位置控制状态来控制离子供给源（202）的操作，并产生报警信号。
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公开(公告)号：KR1019980069638A
公开(公告)日：1998-10-26
申请号：KR1019970006798
申请日：1997-02-28
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
Abstract: 반도체장치 제조설비의 전면에 설치되는 로드록의 구성부를 커버하는 반도체장치 제조설비 로드록의 구성부 커버용 판넬 관한 것이다.
본 발명은 단위 공정을 수행하는 반도체장치 제조설비의 전면 부위에 위치되어 웨이퍼의 로딩 및 언로딩 등의 동작을 수행하는 로드록의 구성부를 커버하는 반도체장치 제조설비 로드록의 구성부 커버용 판넬 있어서, 상기 로드록의 구성부 부위만을 선택적으로 개방하도록 형성됨을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 의하면 반도체장치 제조설비 로드록의 구성부 부위만을 개방 가능하게 판넬 형성 설치함으로써 로드록의 구성부 내에 설치되는 각종 장치의 고장 등의 문제가 발생될 경우 판넬의 분해 조립이 용이하여 분해 조립시 일인 작업이 가능한 효과가 있다.-
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100587684B1
公开(公告)日：2006-06-08
申请号：KR1020040050175
申请日：2004-06-30
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 조연하
IPC: H01L21/265 , H01L21/68
CPC classification number: H01L21/681
Abstract: 본 발명은 생산 수율을 증대 또는 극대화 할 수 있는 웨이퍼 정렬장치에 관한 것으로, 그의 장치는, 각종 구동부를 구비하는 몸체; 상기 몸체의 상부로 돌출되어 상기 웨이퍼를 회전시키는 오리엔트 척; 상기 웨이퍼의 외주면을 슬라이드시켜 상기 웨이퍼의 중심이 상기 오리엔트 척 상에 위치되도록 하기 위해 승하강되는 가이드 플레이트; 상기 오리엔트 척 상에서 회전되는 웨이퍼의 플렛 존을 감지하는 복수개의 센서; 상기 센서 및 오리엔트 척에 의해 일방향으로 정렬된 웨이퍼를 탑재하기 위해 상기 오리엔트 척 상부에 형성되고, 상기 몸체의 각 모서리에 형성된 복수개의 프레임에 의해 지지되는 웨이퍼 카세트; 및 상기 웨이퍼 카세트와 상기 몸체 사이에 위치되는 상기 오리엔트 척 및 센서주위의 상기 프레임 둘레를 둘러싸고, 상기 센서에 입사되는 외부광을 차광시키는 패널 벽을 포함함에 의해 상기 센서가 외부광에 의해 오동작되는 것을 방지할 수 있기 때문에 생산 수율을 향상시킬 수 있다.
플랫존(flat zone), 패널 벽(panel wall), 몸체(body), 웨이퍼 카세트(wafer carrier cassette), 오리엔트 척(orient chuck)-
公开(公告)号：KR1020030024346A
公开(公告)日：2003-03-26
申请号：KR1020010057457
申请日：2001-09-18
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
Abstract: PURPOSE: An apparatus and a method for sensing a mapping error of a wafer of semiconductor fabrication equipment are provided to prevent the collision between wafers and a loss of wafer due to the collision by checking correctly a time for detecting a gap between wafers. CONSTITUTION: A plurality of wafers are loaded into slots of a cassette(12). A light emitting sensor is installed at an open side of the cassette(12). A light receiving sensor is installed at the other open side of the cassette(12). An optical sensor(22) is used for detecting a loading state of the wafer within the cassette(12). A controller(24) is used for generating a matching error signal or a matching error alarm signal or an interlock by comparing a gap detection time between the wafers with a mean detection time between the wafers when a mapping process is performed. An alarm generation portion(26) generates alarm sound according to an alarm generation control signal.
Abstract translation: 目的：提供一种用于感测半导体制造设备的晶片的映射误差的装置和方法，用于通过正确检查晶片之间的间隙的时间来防止晶片之间的碰撞和由于冲突导致的晶片损失。 构成：将多个晶片装载到盒（12）的槽中。 发光传感器安装在盒（12）的开口侧。 光接收传感器安装在盒（12）的另一开口侧。 光学传感器（22）用于检测盒（12）内的晶片的装载状态。 当执行映射处理时，控制器（24）用于通过将晶片之间的间隙检测时间与晶片之间的平均检测时间进行比较来产生匹配误差信号或匹配误差报警信号或互锁。 报警产生部分26根据报警发生控制信号产生报警声。
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公开(公告)号：KR1020010086513A
公开(公告)日：2001-09-13
申请号：KR1020000010437
申请日：2000-03-02
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 조연하
IPC: H01L21/68
Abstract: PURPOSE: A wafer transfer apparatus is provided to prevent processing defects from occurring in loading or unloading of the wafer by sensing the wafer placed inaccurately on the arm spoon. CONSTITUTION: An arm spoon(110) is arranged on a robot arm for transferring a wafer(200). The arm spoon(110) comprises a groove(112) for placing the wafer, the first and the second sensing unit(120) for sensing the wafer(200) on the groove(112). The first and the second sensing unit(120) are arranged on the left side and the right side of the arm spoon(110) to correspond to each other. The first and the second sensing unit(120) sense the wafer(200) protruded from the groove(112), and comprises a receiving sensor(124) and an emitting sensor(122).
Abstract translation: 目的：提供晶片传送装置，以通过感测不正确地放置在手臂勺上的晶片来防止在加载或卸载晶片时发生加工缺陷。 构成：在机器人臂上布置有勺子（110），用于传送晶片（200）。 臂勺（110）包括用于放置晶片的凹槽（112），用于感测晶片（200）在凹槽（112）上的第一和第二感测单元（120）。 第一和第二感测单元（120）布置在臂勺（110）的左侧和右侧以彼此对应。 第一和第二感测单元（120）感测从凹槽（112）突出的晶片（200），并且包括接收传感器（124）和发射传感器（122）。
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公开(公告)号：KR200127182Y1
公开(公告)日：1999-02-18
申请号：KR2019950034426
申请日：1995-11-20
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 조연하
IPC: H01L21/265
Abstract: 본 고안은 디스크의 빔 전류가 역류되는 것을 방지하는 디스크 빔 전류 역류 방지회로를 구비한 디스크 빔 전류 감지라인에 관한 것으로, 본 고안 디스크 빔 역류 방지회로를 구비한 디스크 빔 전류 감지라인은 반도체 웨이퍼에 이온을 주입하는 이온주입장치내의 디스크 빔 전류 감지라인에 있어서, 상기 디스크 빔 전류 감지라인과 접지사이에 정전압수단이 구비되어 커넥터가 빠지거나 접속불량 상태가 되더라도 디스크 빔 전류가 이온주입장치내의 회로로 역류되는 것을 방지하여 관련회로의 손상을 방지하는 이점이 있다.
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公开(公告)号：KR1019980074186A
公开(公告)日：1998-11-05
申请号：KR1019970009879
申请日：1997-03-21
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/265
Abstract: 본 발명은 고온상태에서 공정이 진행되는 이온주입설비를 냉각시키기 위한 냉각장치에서 냉매가 고갈되는 것을 예방토록 하여 이온주입설비가 과열되는 것을 방지하는 반도체 공정용 이온주입설비의 냉각장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반도체 공정용 이온주입설비의 냉각장치는, 냉매공급원에서 공급되는 냉매를 일시적으로 저수하면서 고전압이 인가되는 이온주입설비 내부로 상기 냉매를 공급하는 저장조가 구비된 반도체 공정용 이온주입설비의 냉각장치에 있어서, 상기 저장조 내부에 담긴 냉매의 양을 감지하는 센싱수단과 상기 센싱수단의 출력에 의하여 상기 저장조내의 수위를 조절하는 중앙제어장치를 포함하여 이루어짐을 특징으로 한다.
따라서, 냉각장치 중의 저장조내의 냉매고갈을 예방하고, 냉매가 이온주입설비에로 원활히 공급되도록 하여 이온주입설비가 과열되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.
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