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公开(公告)号:KR100634501B1
公开(公告)日:2006-10-13
申请号:KR1020040005641
申请日:2004-01-29
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G11C11/15
CPC classification number: H01L43/12 , B82Y10/00 , G11C11/161 , H01L27/228 , H01L43/08
Abstract: 자기 메모리 소자 및 그 제조방법에 관해 개시되어 있다. 개시된 본 발명은 스위칭 소자와 이에 연결된 MTJ셀을 구비하고 상기 MTJ 셀이 비트라인 아래에 구비된 자기 메모리 소자에 있어서, 상기 MTJ셀은 상기 스위칭 소자에 연결된 하부전극 및 상기 하부전극 상에 순차적으로 적층된 하부 자성층, 불소 함유 터널링막, 상부 자성층 및 캡핑층을 포함하되, 상기 불소 함유 터널링막에서 불소는 표층에 분포된 것을 특징으로 하는 자기 메모리 소자를 제공하고, 그 제조 방법을 제공한다. 또한, 상기 제조 방법에 사용된 플라즈마 반응챔버를 제공한다.
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公开(公告)号:KR1020050078265A
公开(公告)日:2005-08-05
申请号:KR1020040005641
申请日:2004-01-29
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G11C11/15
CPC classification number: H01L43/12 , B82Y10/00 , G11C11/161 , H01L27/228 , H01L43/08 , G11C11/15 , H01L43/10
Abstract: In a magnetic memory device, and a method of manufacturing the same, the magnetic memory device includes a switching device, and a magnetic tunneling junction (MTJ) cell connected to the switching device, the MTJ cell including a lower electrode connected to the switching device and a lower magnetic layer, a tunneling film containing fluorine, an upper magnetic layer, and a capping layer, sequentially stacked on the lower electrode.
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