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公开(公告)号:KR1020160118116A
公开(公告)日:2016-10-11
申请号:KR1020150095307
申请日:2015-07-03
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/203 , H01L21/324 , H01L21/02
Abstract: 본발명은박막제조설비를개시한다. 그의설비는챔버내에기판을수납하는서셉터와, 챔버외부에배치된반사하우징및 반사하우징내에배치된열원들을포함하는가열모듈과, 열원들및 챔버사이의반사하우징내에배치된반사제어모듈을포함한다. 반사제어모듈은반사하우징에의해기판의중심으로제공되는열원들의광을기판의가장자리로반사하여기판을균일한온도로가열시킬수 있다.