公开(公告)号：KR100543361B1

公开(公告)日：2006-01-20

申请号：KR1019990032953

申请日：1999-08-11

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김대식 ,  이성호 ,  홍영선 ,  송유경

IPC: H01L21/68

Abstract: 챔버 본체 입구면에서 커버의 소정 부분과의 접촉을 방지하는 접촉방지 구조를 포함하는 로드록 챔버가 개시된다. 더욱 상세하게, 접촉방지 구조로는 챔버 본체 입구면에서 O-링의 내측부를 따라 소정의 깊이의 단차가 형성되거나, O-링의 외측부를 따라 소정의 두께의 스페이서판이 설치되는 구조를 포함하는 로드록 챔버가 제공된다.

公开(公告)号：KR1020010017441A

公开(公告)日：2001-03-05

申请号：KR1019990032953

申请日：1999-08-11

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김대식 ,  이성호 ,  홍영선 ,  송유경

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A load lock chamber is provided to increase yield and to prevent damage to an equipment, by preventing a metal particle from being induced into a process chamber. CONSTITUTION: A load lock chamber includes a chamber body(1), a cover(2) and an apparatus for loading/unloading a substrate, connected to a process chamber and a vacuum unit. A structure for preventing a contact with the cover is installed on an entrance surface of the chamber body. The structure for preventing a contact with the cover is a step(21) of a predetermined depth formed on an inner portion of an O-ring(8) of an entrance surface.

Abstract translation: 目的：通过防止金属颗粒被引入处理室，提供一个负载锁定室以提高产量并防止对设备的损坏。 构成：负载锁定室包括室主体（1），盖子（2）以及连接到处理室和真空单元的用于装载/卸载基板的装置。 用于防止与盖接触的结构安装在室主体的入口表面上。 用于防止与盖接触的结构是形成在入口表面的O形环（8）的内部上的预定深度的台阶（21）。

公开(公告)号：KR100619581B1

公开(公告)日：2006-09-01

申请号：KR1019990030726

申请日：1999-07-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김대식 ,  이성호 ,  홍영선 ,  송유경

IPC: H05F3/02

Abstract: 반도체 또는 액정디스플레이를 제조하는 공정에 적용되는 플라즈마 공정챔버에서 하부전극과 그 위에 위치한 기판에 대전되는 정전기를 제거하는 장치가 개시된다. 접지선을 개재하여 공정챔버내 하부전극과 접지면을 연결하거나 절단하기 위한 릴레이 스위치와, 반응가스 박스로부터 공정챔버에 공급되는 반응가스의 개폐에 대응하는 신호를 수신받아 릴레이 스위치를 제어하는 컨트롤러로 이루어지는 플라즈마 공정챔버의 정전기 제거장치가 제공된다.

公开(公告)号：KR1020010011384A

公开(公告)日：2001-02-15

申请号：KR1019990030726

申请日：1999-07-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김대식 ,  이성호 ,  홍영선 ,  송유경

IPC: H05F3/02

Abstract: PURPOSE: An electrostatic eliminator for plasma processing chamber is provided to easily unload the substrate from the lower electrode after completion of etching process by allowing the electrostatic electricity generated from the substrate and lower electrode to be grounded to the ground surface during etching process. CONSTITUTION: An electrostatic eliminator comprises a relay switch(5) having a ground wire(4) and which connects or disconnects a lower electrode(3) disposed within a processing chamber(1) and a ground surface(6); and a controller(8) for receiving a signal corresponding to opening/closure of reactive gas being supplied from a reactive gas box(9) to the processing chamber and controlling the relay switch. The relay switch is connected to the controller and switched on/off by being controlled by the controller. The controller has a timer(7) so as to adjust on/off time of the relay switch.

Abstract translation: 目的：提供等离子体处理室的静电消除器，用于在蚀刻过程完成之后通过允许从衬底和下电极产生的静电与接地表面接地而容易地从下电极卸载衬底。 构成：静电消除器包括具有接地线（4）并且连接或断开设置在处理室（1）和地表面（6）内的下电极（3）的继电器开关（5）。 以及控制器（8），用于接收对应于从反应式气体箱（9）供应到处理室的反应气体的打开/关闭的信号，并控制继电器开关。 继电器开关连接到控制器，并由控制器控制开关。 控制器具有定时器（7），用于调节继电器开关的开/关时间。