公开(公告)号：KR1020060003190A

公开(公告)日：2006-01-10

申请号：KR1020040051993

申请日：2004-07-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 심준보 ,  홍정민 ,  임관택

IPC: G02F1/13

Abstract: 마스크의 열팽창을 완화할 수 있는 마스크 스테이지 및 이를 포함하는 노광 장치를 제공하고자 하는 것이다. 마스크 스테이지는 투광 영역, 투광 영역을 둘러싸는 차광 영역, 투광 영역 둘레의 차광 영역을 따라 위치한 적어도 한쌍의 송풍 수단 및 송풍 수단을 제어하기 위한 조절 수단을 포함하고, 노광 장치는 이러한 마스크 스테이지를 포함한다.
노광 장치, 광원, 조도, 마스크 스테이지

公开(公告)号：KR1020050118432A

公开(公告)日：2005-12-19

申请号：KR1020040043557

申请日：2004-06-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 심준보 ,  진용석 ,  박명재 ,  임관택 ,  홍정민

IPC: G02F1/13

Abstract: 포토레지스트막의 베이킹을 수행하는데 있어서 피처리체 전체에 대하여 처리 온도가 균일하게 유지될 수 있는 열처리 장치를 제공한다. 열처리 장치는 상하부로 이루어진 케이스, 케이스 내부에서 피처리체를 지지하기 위한 열판 및 열판을 통하여 피처리체를 가열하기 위해 열판에 열을 전달하는 가열기를 포함하고, 케이스 내부는 가열된 피처리체의 중앙부와 가장자리의 온도 프로파일의 편차가 5℃ 이하가 되도록 하는 크기인 것을 특징으로 한다.