公开(公告)号：KR100713209B1

公开(公告)日：2007-05-02

申请号：KR1020070012374

申请日：2007-02-06

Applicant: 서강대학교산학협력단

Inventor： 한갑수 ,  유기풍 ,  임종성 ,  권영훈

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 공정이 간소화되고 소요시간이 단축되면서도 효과가 우수한 세정장치에 사용되는 고압세정기를 위하여, (i) 세정될 웨이퍼가 장착될, 돌출부를 구비하는 웨이퍼 장착기, (ii) 혼합물 등이 하측으로 주입될 수 있도록 하는 주입구와, 상기 웨이퍼 장착기의 돌출부가 삽입되어 상기 웨이퍼 장착기가 고정될 수 있도록 하는 웨이퍼 장착기 고정부와, 측면으로부터 슬라이딩되어 들어오는 공압실린더가 삽입될 수 있는 공압실린더 삽입부를 갖는 상부요소, (iii) 상기 상부요소를 상하로 이동시키는 승하강 공압실린더, (iv) 측면으로부터 슬라이딩되어 들어오는 공압실린더가 삽입될 수 있는 공압실린더 삽입부와, 혼합물 등이 배출될 수 있는 배출구를 가지며, 상기 상부요소와의 사이에 상기 웨이퍼 장착기가 배치될 수 있는 공간을 형성하는 하부요소, (v) 상기 상부요소가 하강하여 상기 하부요소와 맞물리면 상기 상부요소의 공압실린더 삽입부와 상기 하부요소의 공압실린더 삽입부 내로 슬라이딩되어 상기 상부요소와 상기 하부요소를 결합시키는 부착형 공압실린더를 구비하는 것을 특징으로 하는 고압세정기를 제공한다.

Abstract translation: 在下部侧到高压涤气器的发明，其中所述过程被简化和时间，同时在良好的清洁装置的效果被用来缩短，（i）具有一个凸出部分，是将被清洁安装晶片装载晶片，（ⅱ）的混合物 一种晶片安装固定装置，用于通过插入晶片安装架的突起和气缸插入部分来固定晶片安装架，气缸插入部分可插入从侧面可滑动地插入的气缸， ，（iii）具有出口，该出口是升降气缸，（ⅳ）从气压缸在未来一个侧滑动是可以插入到混合物的各部分的气动缸的插入等，可以为上下，其中移动所述上部元件被排出 下部限定晶片安装件可以设置在上部元件和下部元件之间的空间 小，（V），其中，所述上部元件降低与下部元件接合滑入气压缸插入部的气动缸插入部和上元件的下元件，其安装气动缸联接所述上部元件及所述下部元件 还有一个高压洗涤器。

公开(公告)号：KR100753493B1

公开(公告)日：2007-08-31

申请号：KR1020060006590

申请日：2006-01-21

Applicant: 서강대학교산학협력단

Inventor： 한갑수 ,  유기풍 ,  임종성 ,  권영훈

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67023 ,  G03F7/422 ,  H01L21/02071 ,  H01L21/02101 ,  H01L21/31133

Abstract: 본 발명은 공정이 간소화되고 소요시간이 단축되면서도 효과가 우수한 세정장치를 위하여, (i) 액체 이산화탄소 공급원 및 기체 이산화탄소 공급원과, (ii) 상기 액체 이산화탄소 공급원으로부터 공급되는 이산화탄소를 고압의 이산화탄소로 만드는 고압펌프와, (iii) 세정용 첨가제 공급원 및 헹굼용 첨가제 공급원과, (iv) 상기 세정용 첨가제 공급원으로부터 공급되는 세정용 첨가제와 상기 액체 이산화탄소 공급원으로부터 공급되는 초임계 상태의 이산화탄소(supercritical dioxide)를 혼합하여 초임계 상태의 균질 투명상 혼합물을 형성하거나, 상기 헹굼용 첨가제 공급원으로부터 공급되는 헹굼용 첨가제와 상기 액체 이산화탄소 공급원으로부터 공급되는 초임계 상태의 이산화탄소를 혼합하여 초임계 상태의 헹굼용 혼합물을 형성하는 균질 투명상 혼합기와, (iv) 상기 균질 투명상 혼합기로부터 공급되는 초임계 상태의 균질 투명상 혼합물을 이용하여 세정하고, 상기 균질 투명상 혼합기로부터 공급되는 초임계 상태의 헹굼용 혼합물을 이용하여 헹굼을 수행하는 고압세정기와, (v) 상기 고압세정기로부터 배출되는 혼합물로부터 기체상의 이산화탄소를 분리하는 분리기와, (vi) 상기 분리된 이산화탄소를 응축하는 이산화탄소 응축용기를 구비하는 것을 특징으로 하는 세정장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR1020070076992A

公开(公告)日：2007-07-25

申请号：KR1020060006590

申请日：2006-01-21

Applicant: 서강대학교산학협력단

Inventor： 한갑수 ,  유기풍 ,  임종성 ,  권영훈

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67023 ,  G03F7/422 ,  H01L21/02071 ,  H01L21/02101 ,  H01L21/31133

Abstract: A cleaning apparatus is provided to reduce the cleaning process and cleaning time and to improve cleaning effect by using a homogeneous transparent phase mixer for forming a supercritical rinsing mixture. The cleaning apparatus includes a liquid carbon dioxide supply source(21), a gaseous carbon dioxide supply source(20), a high pressure pump(24), a cleaning additive supply source(25), a rinsing additive supply source(26), a homogeneous transparent phase mixture(70), a high pressure cleaner, a separator, and a carbon dioxide condenser. The homogeneous transparent phase mixer mixes a cleaning additive supplied from the cleaning additive supply source with a supercritical carbon dioxide supplied from the liquid carbon dioxide supply source to form a supercritical homogeneous transparent phase mixture, or mixes a rinsing additive with the supercritical carbon dioxide to form a supercritical rinsing mixture.

Abstract translation: 提供清洁装置以减少清洁过程和清洁时间，并通过使用用于形成超临界冲洗混合物的均匀透明相混合器来改善清洗效果。 清洁装置包括液体二氧化碳供应源（21），气态二氧化碳供应源（20），高压泵（24），清洁添加剂供应源（25），漂洗添加剂供应源（26） 均匀的透明相混合物（70），高压清洁剂，分离器和二氧化碳冷凝器。 均匀的透明相混合器将从清洁添加剂供应源提供的清洁添加剂与从液体二氧化碳供应源供应的超临界二氧化碳混合以形成超临界均相透明相混合物，或将漂洗添加剂与超临界二氧化碳混合形成 超临界冲洗混合物。

公开(公告)号：KR100708773B1

公开(公告)日：2007-04-17

申请号：KR1020060006591

申请日：2006-01-21

Applicant: 서강대학교산학협력단

Inventor： 한갑수 ,  유기풍 ,  임종성 ,  권영훈

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 공정이 간소화되고 소요시간이 단축되면서도 효과가 우수한 세정공정을 위하여, 고압세정기에 웨이퍼를 장착하는 단계와, 상기 고압세정기 내에 저압의 고순도 기체 이산화탄소를 주입하는 단계와, 상기 고압세정기 내에 초임계 세정압력보다 낮은 압력의 이산화탄소를 주입하는 단계와, 상기 고압세정기 내에 세정용 첨가제와 초임계 상태의 이산화탄소가 혼합된 초임계 상태의 균질 투명상 혼합물을 초임계 세정압력으로 주입하여 상기 웨이퍼를 세정하는 단계와, 상기 고압세정기 내에 헹굼용 첨가제와 초임계 상태의 이산화탄소가 혼합된 초임계 상태의 헹굼용 혼합물을 주입하여 상기 웨이퍼를 헹구는 단계와, 상기 고압세정기의 혼합물로부터 이산화탄소를 분리하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 세정공정을 제공한다.

Abstract translation: 用于该方法的本发明被简化，同时具有极好的效果的清洁工艺，其包括以下步骤的时间被缩短：安装在高压清洁晶片，和第二在高压涤气器注入的低压纯净气体的二氧化碳的步骤中，高压涤气器 注入的低压二氧化碳大于阈值的清洁压力，而在高压添加剂注入混合超临界二氧化碳的均匀透明相混合物在晶片的超临界清洁压力清洗在洗衣机中的洗涤和超临界状态， 包括从漂洗添加剂和超临界状态，进入注入超临界混合物的漂洗混合物高压涤气器的二氧化碳的步骤中分离二氧化碳的步骤来冲洗该晶片，该高压涤气器的混合物，其 以及清洁基材的清洁步骤。