公开(公告)号：KR101567186B1

公开(公告)日：2015-11-06

申请号：KR1020140001112

申请日：2014-01-06

Applicant: 서울대학교산학협력단

Inventor： 김호영 ,  김승호

IPC: B41J2/01 ,  B41J29/38

Abstract: 본발명에따른마이크로액체패터닝방법및 장치는패턴이형성된기판에친수성액체의액적을분사하여패터닝하는것에관한것이다. 이에따르면, 마이크로액체의패터닝을정밀하고용이하게수행할수 있으며, 액체렌즈의형성및 붕괴현상을이용하여밀폐된루프형상의패턴도신뢰성높게패터닝할수 있다. 또한, 액체렌즈의붕괴가신속하게이루어지도록할 수있어, 마이크로액체의패터닝을빠른속도로수행할수 있다. 이로써, 대량생산에적용되어, 정밀도높은마이크로액체패터닝을신속하게처리할수 있다.

公开(公告)号：KR1020150081531A

公开(公告)日：2015-07-15

申请号：KR1020140001112

申请日：2014-01-06

Applicant: 서울대학교산학협력단

Inventor： 김호영 ,  김승호

IPC: B41J2/01 ,  B41J29/38

CPC classification number: H01L21/02 ,  B41J2/1652 ,  H01L51/0005

Abstract: 본발명에따른마이크로액체패터닝방법및 장치는패턴이형성된기판에친수성액체의액적을분사하여패터닝하는것에관한것이다. 이에따르면, 마이크로액체의패터닝을정밀하고용이하게수행할수 있으며, 액체렌즈의형성및 붕괴현상을이용하여밀폐된루프형상의패턴도신뢰성높게패터닝할수 있다. 또한, 액체렌즈의붕괴가신속하게이루어지도록할 수있어, 마이크로액체의패터닝을빠른속도로수행할수 있다. 이로써, 대량생산에적용되어, 정밀도높은마이크로액체패터닝을신속하게처리할수 있다.

Abstract translation: 根据本发明，用于使微流体图案化的方法及其装置将亲水流体的液滴注入到具有用于对流体进行图案化的图案的基板。 因此，本发明能够精确且容易地进行微流体的图案化，并且可以通过液晶透镜的形成和分解以高可靠性图案化密封的环状图案。 另外，本发明能够使液晶快速分解，从而使微流体快速成型。 因此，本发明应用于批量生产以快速图案化具有高精度的微流体。

公开(公告)号：KR1020170049962A

公开(公告)日：2017-05-11

申请号：KR1020150150921

申请日：2015-10-29

Applicant: 세메스 주식회사 ,  서울대학교산학협력단

Inventor： 이수연 ,  김호영 ,  김승호 ,  이재홍 ,  김준오 ,  김진규 ,  강병만 ,  정인일

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683

Abstract: 본발명은기판처리장치에관한것이다. 본발명에의한기판처리장치는, 기판을처리하는공간을제공하는챔버와; 상기챔버내부에제공되어기판을지지하는지지유닛과; 상기지지유닛에지지된기판으로세정매체를공급하는노즐을포함하되, 상기노즐은, 상기세정매체가유입되는유입구를가지며상기유입구로부터멀어질수록단면적이감소하는수축부와; 상기세정매체가분사되는분사구를가지며상기분사구에가까워질수록단면적이증가하는팽창부와; 상기수축부와상기팽창부사이에위치하는오리피스를포함하되, 상기수축부로유입되는세정매체는단일의가스이다.

Abstract translation: 基板处理装置技术领域本发明涉及基板处理装置 根据本发明的基板处理设备包括：用于提供用于处理基板的空间的腔室; 提供在腔室内以支撑衬底的支撑单元; 收缩所述支撑包括：用于供应清洁介质，以支持的单元，所述喷嘴在所述基板和具有所述清洁介质流动远离所述入口减小了横截面面积和入口的喷嘴; 具有喷射清洁介质的喷射口并且当喷射口接近喷射口时其横截面积增大的扩展部分; 并且孔口位于收缩部分和扩张部分之间，其中流入收缩部分的清洁介质是单一气体。

公开(公告)号：KR101949407B1

公开(公告)日：2019-03-05

申请号：KR1020170017000

申请日：2017-02-07

Applicant: 세메스 주식회사 ,  서울대학교산학협력단

Inventor： 김진규 ,  주윤종 ,  김호영 ,  김승호 ,  이재홍

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/66 ,  G01N3/32

公开(公告)号：KR1020170128189A

公开(公告)日：2017-11-22

申请号：KR1020170149753

申请日：2017-11-10

Applicant: 세메스 주식회사 ,  서울대학교산학협력단

Inventor： 이수연 ,  김호영 ,  김승호 ,  이재홍 ,  김준오 ,  김진규 ,  강병만 ,  정인일

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683

Abstract: 본발명은기판처리장치에관한것이다. 본발명에의한기판처리장치는, 기판을처리하는공간을제공하는챔버와; 상기챔버내부에제공되어기판을지지하는지지유닛과; 상기지지유닛에지지된기판으로세정매체를공급하는노즐을포함하되, 상기노즐은, 상기세정매체가유입되는유입구를가지며상기유입구로부터멀어질수록단면적이감소하는수축부와; 상기세정매체가분사되는분사구를가지며상기분사구에가까워질수록단면적이증가하는팽창부와; 상기수축부와상기팽창부사이에위치하는오리피스를포함하되, 상기수축부로유입되는세정매체는단일의가스이다.