멀티 스텝형 티 게이트 제조방법
    1.
    发明授权
    멀티 스텝형 티 게이트 제조방법 有权
    具有多步的T门的制作方​​法

    公开(公告)号:KR101140285B1

    公开(公告)日:2012-04-27

    申请号:KR1020100008569

    申请日:2010-01-29

    Inventor: 서광석 김종욱

    Abstract: 본 발명은 고전자 이동도 트랜지스터를 제조하는 것에 관한 것으로 더욱 자세하게는 소스와 드레인 사이의 전류를 조절하기 위한 티 게이트를 형성하는 것에 관한 것이다.
    본 발명은 소스 및 드레인이 형성된 기판 상부에 희생층을 형성하는 단계; 상기 희생층 상부에 복수의 감광층을 형성하는 단계; 상기 복수의 감광층에 게이트 헤드 패턴과 제1게이트 풋 패턴을 형성하고 상기 희생층을 노출시키는 단계; 상기 희생층을 식각하여 경사면이 형성된 제2게이트 풋 패턴을 형성하는 단계; 상기 제1게이트 풋 패턴의 입구를 확장하는 단계; 상기 기판 전면에 전극물질을 증착하는 단계; 및 상기 복수의 감광층을 제거하는 단계를 포함함에 기술적 특징이 있다.

    골 재생용 실크/하이드록시아파타이트 복합 나노섬유 지지체의 제조방법
    2.
    发明授权
    골 재생용 실크/하이드록시아파타이트 복합 나노섬유 지지체의 제조방법 有权
    制造丝/羟基磷灰石复合纳米纤维支撑骨再生的方法

    公开(公告)号:KR101053118B1

    公开(公告)日:2011-08-01

    申请号:KR1020090097627

    申请日:2009-10-14

    Abstract: 본 발명은 골 재생용 실크/하이드록시아파타이트 복합 나노섬유 지지체의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 구체적으로는 실크 방사원액을 준비하는 단계(단계 1); 상기 단계 1에서 준비된 실크 방사원액을 전기방사하는 단계(단계 2); 상기 단계 2에서 방사된 실크 나노섬유를 분산시키는 단계(단계 3); 상기 단계 3에서 분산된 실크 나노섬유를 소정의 용기에 담아 동결 건조하여 3차원적으로 분산된 스펀지 형태의 실크 나노섬유를 제조하는 단계(단계 4); 상기 단계 4에서 제조된 3차원적으로 분산된 스펀지 형태의 실크 나노섬유를 5배 내지 15배 농도의 인체유사 용액(simulated body fluid, SBF)에 침지하여 하이드록시아파타이트로 복합화 코팅하는 단계(단계 5); 및 상기 단계 5에서 하이드록시아파타이트로 복합화 코팅된 실크 나노섬유에 공극을 형성하는 단계(단계 6)를 포함하여 이루어지는 골 재생용 실크/하이드록시아파타이트 복합 나노섬유 지지체의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 5배 내지 15배 농도의 인체유사 용액을 사용함으로써 상온과 상압 조건에서 실크 단백질의 손상 없이 짧은 시간에 플라즈마 처리나 표면처리 같은 추가적인 공정을 수행하지 않고 하이드록시아파타이트를 실크 나노섬유 지지체에 효율적으로 코팅할 수 있으며, 하이드록시아파타이트에 비하여 결정화도가 낮아 천연의 뼈와 비슷한 실크/하이드록시아파타이트 복합 나노섬유 지지체를 제조할 수 있다.

    Abstract translation: 本发明涉及生产用于骨再生的丝/羟基磷灰石复合纳米纤维载体的方法,更具体地讲,涉及制备丝纺原液的步骤(步骤1)。 静电纺丝步骤1(步骤2)中制备的丝纺原液; 在步骤2中分散纺出的丝状纳米纤维(步骤3); (步骤4):在步骤3中通过将分散的丝纳米纤维在预定容器中冷冻干燥而制备三维分散的海绵状丝纳米纤维; 所述方法包括复合材料涂层的三维丝纳米纤维分散在羟基磷灰石中浸泡5次,以(模拟体液,SBF)(步骤5的15倍人体类似的解决方案在上述步骤4中制备的海绵状 ); 和制造骨再生丝/羟基磷灰石复合纳米纤维支撑衬底的方法包括步骤(步骤6),以形成空气间隙丝羟基磷灰石纳米纤维复合材料涂层如在步骤5。 根据本发明,丝的羟基磷灰石无无在室温和大气压等离子体处理或通过使用人体类似〜5倍的溶液进行表面处理,以15倍浓度的纳米纤维损坏的丝蛋白执行额外的处理,这样短的时间 可以有效地涂有载体,结晶度相比,羟基磷灰石可以生产丝/羟基磷灰石复合纳米纤维类似于天然骨支撑被减小。

    희생층을 이용한 나노 스케일의 티형 게이트 제조방법
    4.
    发明授权
    희생층을 이용한 나노 스케일의 티형 게이트 제조방법 有权
    使用双牺牲层的纳米级T型门的制造方法

    公开(公告)号:KR101140288B1

    公开(公告)日:2012-04-27

    申请号:KR1020100006914

    申请日:2010-01-26

    Inventor: 서광석 김종욱

    Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing nano scale t-type gate using a sacrificial layer is provided to form stable T-type gate with an excellent current gain property and without inclination by reducing the size of the t-gate which is formed by the post-processing. CONSTITUTION: Sacrificial layers(290,200) are formed on a substrate(200) in which a source and a drain are formed. A photosensitive layer is formed on the upper part of the sacrificial layer. An electronic beam is irradiated on the photosensitive layer and an area, in which a gate is formed, is patterned and the sacrificial layer is exposed. A pattern is formed a wall in which the sacrificial layer is etched and slope is formed. An electrode material is evaporated in the entire of the substrate. The photosensitive layer is eliminated.

    희생층을 이용한 나노 스케일의 티형 게이트 제조방법
    5.
    发明公开
    희생층을 이용한 나노 스케일의 티형 게이트 제조방법 有权
    使用双层SACRIFICE层及其相同的纳米尺度T型门的制造方法

    公开(公告)号:KR1020110087476A

    公开(公告)日:2011-08-03

    申请号:KR1020100006914

    申请日:2010-01-26

    Inventor: 서광석 김종욱

    Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing nano scale t-type gate using a sacrificial layer is provided to form stable T-type gate with an excellent current gain property and without inclination by reducing the size of the t-gate which is formed by the post-processing. CONSTITUTION: Sacrificial layers(290,200) are formed on a substrate(200) in which a source and a drain are formed. A photosensitive layer is formed on the upper part of the sacrificial layer. An electronic beam is irradiated on the photosensitive layer and an area, in which a gate is formed, is patterned and the sacrificial layer is exposed. A pattern is formed a wall in which the sacrificial layer is etched and slope is formed. An electrode material is evaporated in the entire of the substrate. The photosensitive layer is eliminated.

    Abstract translation: 目的:提供一种使用牺牲层制造纳米级t型栅极的方法,以形成具有优异电流增益特性的稳定T型栅极,并且通过减小由后置栅极形成的t栅极的尺寸而无倾斜, 处理。 构成:牺牲层(290,200)形成在其中形成源极和漏极的衬底(200)上。 感光层形成在牺牲层的上部。 将电子束照射在感光层上,并且对其中形成栅极的区域进行图案化并且牺牲层被暴露。 形成图案,其中牺牲层被蚀刻并形成斜面。 电极材料在整个基板中蒸发。 消除感光层。

    진피 대체용 3차원 실크 나노 섬유막 및 그 제조방법
    6.
    发明公开
    진피 대체용 3차원 실크 나노 섬유막 및 그 제조방법 无效
    3 D丝光纳米纤维表征为其替代品及其制备方法

    公开(公告)号:KR1020130051602A

    公开(公告)日:2013-05-21

    申请号:KR1020110116838

    申请日:2011-11-10

    CPC classification number: A61L27/60 A61L27/22 A61L2430/34 D01D5/0007

    Abstract: PURPOSE: A 3 dimensional silk nano fiber film and a manufacturing method thereof are provided to control biodegradation speed by having similar structure with human skin in size and thickness. CONSTITUTION: A manufacturing method of 3 dimensional silk nano filber film for skin substitute comprises a process for preparing nano fiber undiluted solution, salt adding process and applying voltage and diffusing prepared nano fiber undiluted solution at the same time, and salt removing process from the diffused nano fiber film. On the salt adding process with the electro-spinning, the supply quantity and particle size controlled salt is sprayed on the nano fiber film to form an air gap. The size of the air gap is 10-100 micrometer and the thickness is 1-5 millimeters.

    Abstract translation: 目的:提供一种三维丝纳米纤维膜及其制造方法,以通过与人体皮肤的尺寸和厚度相似的结构来控制生物降解速度。 构成:用于皮肤代用品的三维丝纳米薄膜的制造方法包括同时制备纳米纤维未稀释溶液,加盐过程和施加电压并扩散制备的纳米纤维未稀释溶液的方法,以及从扩散的脱盐过程 纳米纤维膜。 在电纺丝的加盐过程中,将供给量和粒度控制盐喷洒在纳米纤维膜上形成气隙。 气隙的大小为10-100微米,厚度为1-5毫米。

    골 재생용 실크/하이드록시아파타이트 복합 나노섬유 지지체의 제조방법
    7.
    发明公开
    골 재생용 실크/하이드록시아파타이트 복합 나노섬유 지지체의 제조방법 有权
    用于骨再生的硅胶/羟基磷酸酯复合纳米纤维复合物的制备方法

    公开(公告)号:KR1020110040389A

    公开(公告)日:2011-04-20

    申请号:KR1020090097627

    申请日:2009-10-14

    CPC classification number: A61L27/3604 A61F2310/00796 A61L27/32 A61L27/56

    Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of a silk/hydroxyapatite complex nanofiber supporter for osteanagenesis is provided to efficiently coat the silk nanofiber supporter with hydroxyapatite in a short time. CONSTITUTION: A manufacturing method of a silk/hydroxyapatite complex nanofiber supporter for osteanagenesis comprises: a step of preparing silk spinning undiluted solution; a step of electrospinning the silk spinning undiluted solution; a step of dispersing the spun silk nanofiber; a step of manufacturing silk nanofiber having a sponge shape by freeze-drying the dispersed silk nanofiber; a step of coating the silk nanofiber with hydroxyapatite by dipping the silk nanofiber in simulated body fluid; and a step of forming pores on the silk nanofiber coated with hydroxyapatite.

    Abstract translation: 目的:提供一种用于骨形成的丝/羟基磷灰石复合纳米纤维支持体的制造方法,以在短时间内有效地涂覆含有羟基磷灰石的丝绸纳米纤维支持体。 构成:用于骨形成的丝/羟基磷灰石复合纳米纤维支持体的制造方法包括:制备未纺丝的溶液的步骤; 静电纺丝未稀释溶液的步骤; 分散纺丝蚕丝纳米纤维的步骤; 通过将分散的蚕丝纳米纤维进行冷冻干燥来制造具有海绵形状的丝绸纳米纤维的步骤; 通过将丝素纳米纤维浸入模拟体液中,用羟基磷灰石涂覆蚕丝纳米纤维; 以及在涂有羟基磷灰石的丝素纳米纤维上形成孔的步骤。

    멀티 스텝형 티 게이트 제조방법
    8.
    发明公开
    멀티 스텝형 티 게이트 제조방법 有权
    用于具有多个步骤及其同步的T门的制造方法

    公开(公告)号:KR1020110088860A

    公开(公告)日:2011-08-04

    申请号:KR1020100008569

    申请日:2010-01-29

    Inventor: 서광석 김종욱

    Abstract: PURPOSE: A multi step type t-gate manufacturing method is provided to completely fill electrode materials in a wider gate foot pattern by additional etching in a photosensitive layer, thereby improving the yield of a device. CONSTITUTION: Sacrificial layers(320,330) are formed on a substrate in which a source and drain are formed. A plurality of photosensitive layers is formed on the upper part of the sacrificial layers. A gate head pattern and a first gate foot pattern are formed on a plurality of photosensitive layers and the sacrificial layer is exposed. A second gate foot pattern in which an inclined surface is formed by etching the sacrificial layer is formed. An entrance of a first gate foot pattern is expanded. An electrode material is evaporated on the front surface of the substrate. A plurality of photosensitive layers is eliminated.

    Abstract translation: 目的:提供一种多级式t栅极制造方法,通过在感光层中进行附加蚀刻来完全填充更宽栅极脚图案中的电极材料,从而提高器件的产量。 构成:牺牲层(320,330)形成在其中形成源极和漏极的衬底上。 在牺牲层的上部形成多个感光层。 在多个感光层上形成栅极头图形和第一栅极脚图案,并且牺牲层被暴露。 形成通过蚀刻牺牲层形成倾斜表面的第二栅极脚图案。 扩大了第一个门脚图案的入口。 在基板的前表面上蒸发电极材料。 消除了多个感光层。

    생분해성 실크 나노섬유 막 및 그 제조방법, 이를 이용한 생분해성 지지체
    9.
    发明公开
    생분해성 실크 나노섬유 막 및 그 제조방법, 이를 이용한 생분해성 지지체 有权
    使用该方法制备具有可控生物降解性和植入物生物膜的丝素纳米膜的方法

    公开(公告)号:KR1020110040483A

    公开(公告)日:2011-04-20

    申请号:KR1020090097767

    申请日:2009-10-14

    CPC classification number: A61L27/3604 A61L27/36 A61L27/58

    Abstract: PURPOSE: A method of fabrication of silk nanofibrous membrane and an implant biomaterial prepared thereby are provided to facilitate biodegradation property adjustment and to be used variously in a histotechnology technology. CONSTITUTION: A method of fabrication of silk nanofibrous membrane comprises: a process of preparing fiber spinning undiluted solution; a process of spinning the fiber spinning undiluted solution while applying voltage; and an insolubizing process of recrystallizing the spun fiber after dipping the spun fiber in alcohol solution. The alcohol solution is selected from a group consisting of methanol, ethanol, propanol, butanol, and pentanol.

    Abstract translation: 目的:提供丝绸纳米纤维膜的制造方法和由此制备的植入物生物材料,以促进生物降解性质的调整并且可用于组织技术技术。 构成:制造丝纳米纤维膜的方法包括:制备纤维纺丝未稀释溶液的方法; 在施加电压的同时纺丝未纺丝纤维的方法; 以及将纺丝纤维浸渍在醇溶液中后使纺丝纤维再结晶的不溶化过程。 醇溶液选自甲醇,乙醇,丙醇,丁醇和戊醇。

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