公开(公告)号：KR101595953B1

公开(公告)日：2016-02-19

申请号：KR1020140114440

申请日：2014-08-29

Applicant: 서울대학교산학협력단

Inventor： 고승환 ,  여준엽 ,  홍석준

IPC: C01B31/00 ,  H01B13/00 ,  H01B5/14

CPC classification number: C01G49/06 ,  B01J19/121 ,  C01P2004/10 ,  H01B5/14

Abstract: 본발명은산화철마이크로와이어패턴의제조방법및 이에따라제조되는산화철마이크로와이어패턴에관한것으로, 상세하게는기판을산화철전구체용액내로침지시키는단계(단계 1); 및상기기판의전구체용액상에패턴이형성될부위에집광된레이저를조사하는단계(단계 2);를포함하되, 상기집광된레이저는 380 내지 600 nm의파장을갖는가시광레이저인것을특징으로하는산화철마이크로와이어패턴의제조방법에관한것이다. 본발명에따른산화철마이크로와이어패턴의제조방법에따르면, 산화철전구체용액에산화철밴드갭이상의에너지를갖는파장의가시광레이저를조사함으로써, 씨드층(seed layer) 없이도낮은온도및 상압에서산화철마이크로와이어를합성함과동시에별도의공정없이패터닝을함께수행할수 있다. 또한, 마이크로와이어의길이가 120 ㎛까지성장가능하며레이저의방향을바꿈으로써마이크로와이어의성장방향을조절할수 있으므로전자소자등 반도체간의연결이필요한응용분야에사용할수 있는효과가있다.

Abstract translation: 本发明涉及一种形成氧化铁微丝图案的方法和由此形成的氧化铁微丝图形，更具体地说，涉及形成氧化铁微丝图形的方法，包括：将基底浸渍的步骤（步骤1） 成为氧化铁前体溶液; 和步骤（步骤2），用凝聚的激光照射待形成图案的基板的前体溶液的一部分，其中，聚光激光是发射具有波长的激光的可见光激光 380nm至600nm。 根据本发明的形成氧化铁微丝图案的方法，氧化铁微丝在低温和常压下合成，没有种子层，同时可以通过照射氧化铁前体而不需要额外的方法进行图案化 用可见光激光器发射具有等于或大于氧化铁带隙的能量的激光束的解决方案。 此外，微线的长度可以长达120μm，并且可以通过改变激光的方向来调节微线的生长方向，从而被用于需要在半导体之间进行连接的应用领域 作为电子元件等。

公开(公告)号：KR101689276B1

公开(公告)日：2016-12-26

申请号：KR1020150121172

申请日：2015-08-27

Applicant: 서울대학교산학협력단

Inventor： 고승환 ,  여준엽 ,  홍석준

IPC: H01B13/00 ,  H01L31/10 ,  H01L31/09 ,  H01B5/14 ,  H01B1/02

Abstract: 본발명은제1 금속을포함하는복수의금속나노와이어표면에제2 금속을포함하는금속산화물종자입자(seed particles)를코팅시키는단계(단계 1); 상기단계 1에서금속산화물종자입자가코팅된복수의금속나노와이어를기판상부에정렬시키는단계(단계 2); 상기단계 2에서정렬된복수의금속나노와이어중 단일금속나노와이어의양 말단에접촉하는금속패드를형성하는단계(단계 3); 및상기기판을제2 금속이온을포함하는용액에침지시킨후, 상기단계 3에서금속패드가형성된금속나노와이어에전류를가하여제1 금속을포함하는금속나노와이어에제2 금속을포함하는금속산화물나노와이어를형성하는단계(단계 4);를포함하는헤테로접합금속나노와이어의제조방법을제공한다. 본발명에따른헤테로접합금속나노와이어의제조방법은종래의진공증착, 포토리소그래피또는진공분위기에서의전자빔리소그래피를사용하지않고, 모든공정을상압, 상온에서수행할수 있는장점이있다. 이에따라, 공정시간과비용을절감할수 있다. 또한, 목표로하는단일금속나노와이어를선택할수 있으며, 선택적으로목표로하는단일금속나노와이어에금속산화물나노와이어를형성된헤테로접합금속나노와이어는단결정구조를가질수 있기때문에트랜지스터, 센서등의소자에적용하는경우우수한소자특성을보이는효과가있다.