公开(公告)号：KR101111240B1

公开(公告)日：2012-02-14

申请号：KR1020080112077

申请日：2008-11-12

Applicant: 서울대학교산학협력단

Inventor： 권성훈 ,  박현성 ,  유경식 ,  박남규

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 개시는 리소그래피 시스템으로서, 본 개시의 일측면은 광경화성 유체-상기 광경화성 유체는 제공되는 광에 따라 선택적으로 경화됨-가 흐르는 마이크로유체관; 및 상기 광경화성 유체의 흐름에 따라 이동하는 광을 상기 마이크로유체관에 제공하는 광 투영 장치를 구비하는 리소그래피 시스템을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020100053097A

公开(公告)日：2010-05-20

申请号：KR1020080112077

申请日：2008-11-12

Applicant: 서울대학교산학협력단

Inventor： 권성훈 ,  박현성 ,  유경식 ,  박남규

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70291

Abstract: PURPOSE: A lithography system and a lithography method are provided to obtain a microstructure with a high resolution by transferring modulated light along the flow of a photo-curable fluid. CONSTITUTION: A photo-curable fluid flows through a microfluidic channel(110). A light projection unit supplies light which is transferred along the flow of the photo-curable fluid to the microfluidic channel. The light projection unit includes light source(160) and a spatial light modulator(150). The spatial light modulator modulates light from the light source. The speed of the light is the same as the speed of the photo-curable fluid.

Abstract translation: 目的：提供光刻系统和光刻方法以通过沿光可固化流体的流动传递调制光以获得高分辨率的微结构。 构成：可光固化的流体流过微流体通道（110）。 光投射单元将沿着光可固化流体的流动传递的光提供给微流体通道。 光投影单元包括光源（160）和空间光调制器（150）。 空间光调制器调制来自光源的光。 光速与光固化液体的速度相同。