公开(公告)号：WO2023080644A1

公开(公告)日：2023-05-11

申请号：PCT/KR2022/017063

申请日：2022-11-02

Applicant: 삼성전자 주식회사 ,  서울대학교산학협력단

Inventor： 윤정근 ,  이병호 ,  최철수 ,  이규근 ,  최태원

IPC: G02B1/00 ,  G02B1/02 ,  G02B27/00 ,  G02B27/01

Abstract: 비정형 메타표면, 비정형 메타표면을 이용한 웨이브가이드 이미지 컴바이너 및 증강현실 디바이스가 개시된다. 개시된 비정형 메타표면은 복수의 비정형 단위 구조체가 2차원 평면상에 주기적으로 배열되며, 복수의 비정형 단위 구조체 각각은 주기적이지 않은 비정형적 패턴을 가질 수 있다.

公开(公告)号：KR1020170013802A

公开(公告)日：2017-02-07

申请号：KR1020160036323

申请日：2016-03-25

Applicant: 서울대학교산학협력단 ,  고려대학교 산학협력단

Inventor： 이병호 ,  김준수 ,  이승열 ,  박현수 ,  이규근 ,  김휘

IPC: G02B6/122 ,  G02B5/28 ,  G02B5/00

Abstract: 본발명은플라즈모닉소자에관한것으로, 보다상세하게는, 도파로내부에서모드변화를일으키는수동소자를개선시킨플라즈모닉소자에관한것이다.

公开(公告)号：KR1020170101717A

公开(公告)日：2017-09-06

申请号：KR1020160024652

申请日：2016-02-29

Applicant: 서울대학교산학협력단

Inventor： 이병호 ,  이건열 ,  이승열 ,  윤한식 ,  박현수 ,  김준수 ,  이규근

IPC: G02B6/122 ,  G02B6/126 ,  G02B5/00 ,  G02B7/28

Abstract: 본발명에따른선형편광을이용한표면플라즈몬초점조절장치는금속층, 금속층의하부면방향에서입사광을전달하는광원부, 광원부및 상기금속층사이에서상기입사광을편광시켜선편광을생성하는선형편광판및 기산출된나노슬릿의기준선간격, 슬릿각도및 이격거리에기초하여상기금속층표면에다수의포물선형태를나타내도록배치되어생성되며상기선편광에의해표면플라즈몬이여기되는다수의나노슬릿을포함한다.

Abstract translation: 表面等离子体聚焦装置与线性偏振在根据本发明，一金属层，一光源，用于从所述金属层，所述光源和所述线性偏振片和用于通过偏振金属层之间的入射光产生的直线偏振光的一组输出纳米的下平面透射入射光 狭缝的基线间距的基础上，所产生的缝隙角度和距离被处理成指示中的多个金属表面抛形式的，并且包括多个纳米狭缝的是由线性偏振光激发表面等离子体激元。

公开(公告)号：KR101831169B1

公开(公告)日：2018-02-26

申请号：KR1020160024652

申请日：2016-02-29

Applicant: 서울대학교산학협력단

Inventor： 이병호 ,  이건열 ,  이승열 ,  윤한식 ,  박현수 ,  김준수 ,  이규근

IPC: G02B6/122 ,  G02B6/126 ,  G02B5/00 ,  G02B7/28

Abstract: 본발명에따른선형편광을이용한표면플라즈몬초점조절장치는금속층, 금속층의하부면방향에서입사광을전달하는광원부, 광원부및 상기금속층사이에서상기입사광을편광시켜선편광을생성하는선형편광판및 기산출된나노슬릿의기준선간격, 슬릿각도및 이격거리에기초하여상기금속층표면에다수의포물선형태를나타내도록배치되어생성되며상기선편광에의해표면플라즈몬이여기되는다수의나노슬릿을포함한다.