公开(公告)号：KR1020160120413A

公开(公告)日：2016-10-18

申请号：KR1020150049301

申请日：2015-04-07

Applicant: 서울대학교산학협력단

Inventor： 이창희 ,  박명진 ,  정희영 ,  송형준 ,  권용원 ,  이연경

IPC: F21V8/00 ,  G02F1/1335

Abstract: 실시예에따른도광판은, 다수의양자점; 및상기양자점과이격되어배치되는다수의금속나노입자를포함한다.

公开(公告)号：KR101400390B1

公开(公告)日：2014-05-30

申请号：KR1020130014193

申请日：2013-02-08

Applicant: 엘지디스플레이 주식회사 ,  인하대학교 산학협력단 ,  서울대학교산학협력단 ,  서울시립대학교 산학협력단 ,  부산대학교 산학협력단

Inventor： 황도훈 ,  김영미 ,  윤종근 ,  허준영 ,  도의두 ,  이연경 ,  이창희 ,  이진균 ,  임종민 ,  김지훈 ,  정병준

IPC: G03F7/004 ,  C07D221/06 ,  H01L51/50

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07D221/06 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2002 ,  H01L51/50

Abstract: A photoresist composition according to an embodiment of the present invention comprises a new photoacid generator (PAG); and a perfluoro decyl methacrylate (FDMA) and 2- methyl adamantyl methacrylate (MAMA) copolymer. Accordingly, by introducing the photoresist composition containing the photoacid generator which is selectively dissolved in a perfluorinated solvent, the bad effect from a hydrophilic or hydrophobic solvent can be reduced. Moreover, the photoacid generator shows the lower acidity than the existing ion photoacid generator because of the non-ionic properties (non-ionic PAG) and therefore the acidity of the organic luminous material can be reduced.

Abstract translation: 根据本发明的实施方案的光致抗蚀剂组合物包含新的光致酸产生剂（PAG）; 和全氟癸基甲基丙烯酸酯（FDMA）和2-甲基金刚烷基甲基丙烯酸酯（MAMA）共聚物。 因此，通过将含有选择性溶解在全氟化溶剂中的光致酸产生剂的光致抗蚀剂组合物引入，可以降低亲水性或疏水性溶剂的不良影响。 此外，由于非离子性质（非离子性PAG），光酸产生剂显示比现有的离子光酸发生剂更低的酸度，因此可以降低有机发光材料的酸度。