-
公开(公告)号：KR101882396B1
公开(公告)日：2018-07-26
申请号：KR1020160135215
申请日：2016-10-18
Applicant: 서울대학교산학협력단 , 강원대학교산학협력단
IPC: H01M4/1395 , H01M4/04 , H01M10/0525
Abstract: 본발명은, 실리콘기판상에비등방성습식식각으로피라미드패턴또는삼각프리즘패턴을형성하는제1 단계및 상기패턴형성기판상에집전체층 및실리콘층을순차로증착하는제2 단계를포함하는리튬전지용전극제조방법을제공한다.
Search Results
1
records
(took 0.017 seconds)
筛选
AND
AND
过滤
NOT
NOT
Scan to Join
