이온농도분극 현상을 이용한 유체 정수 장치 및 정수 시스템

    公开(公告)号:WO2018186679A3

    公开(公告)日:2018-10-11

    申请号:PCT/KR2018/003973

    申请日:2018-04-04

    Abstract: 본 발명은 이온농도분극 현상을 이용한 대용량 유체 정수 장치 및 정수 시스템으로서, 본 발명의 일 실시예에 따른 정수 장치(100)는, 이온농도분극 현상을 이용하여 대용량의 유체를 정수하는 정수 장치로서, 정수 대상 물질을 주입하는 입구를 일단에 구비한 주입 채널(120), 주입 채널(120)의 타단에서 메쉬부(150)를 개재하여 분기되는, 정수된 물질(F)이 배출되는 정수 채널(140)과 나머지 정수 대상 물질(B')이 배출되는 배출 채널(160), 메쉬부(150)의 적어도 일측에 접하는 이온 선택성 멤브레인(180) 및 메쉬부(150)가 접하는 이온 선택성 멤브레인(180)의 타측에 배치되는 버퍼부(200)를 포함하고, 메쉬부(150)는 표면 상에 이온 선택성 코팅층(155)이 형성되며, 전기장이 인가되면, 주입 채널(120)의 타단 및 메쉬부(150)의 인접한 부위에 이온농도분극(ICP; Ion Concentration Polarization) 현상이 발생함으로써 이온공핍영역(ion depletion zone)이 형성되는 것을 특징으로 한다.

    이온농도분극 현상을 이용한 유체 정수 장치 및 정수 시스템

    公开(公告)号:WO2018186679A2

    公开(公告)日:2018-10-11

    申请号:PCT/KR2018/003973

    申请日:2018-04-04

    Abstract: 본 발명은 이온농도분극 현상을 이용한 대용량 유체 정수 장치 및 정수 시스템으로서, 본 발명의 일 실시예에 따른 정수 장치(100)는, 이온농도분극 현상을 이용하여 대용량의 유체를 정수하는 정수 장치로서, 정수 대상 물질을 주입하는 입구를 일단에 구비한 주입 채널(120), 주입 채널(120)의 타단에서 메쉬부(150)를 개재하여 분기되는, 정수된 물질(F)이 배출되는 정수 채널(140)과 나머지 정수 대상 물질(B')이 배출되는 배출 채널(160), 메쉬부(150)의 적어도 일측에 접하는 이온 선택성 멤브레인(180) 및 메쉬부(150)가 접하는 이온 선택성 멤브레인(180)의 타측에 배치되는 버퍼부(200)를 포함하고, 메쉬부(150)는 표면 상에 이온 선택성 코팅층(155)이 형성되며, 전기장이 인가되면, 주입 채널(120)의 타단 및 메쉬부(150)의 인접한 부위에 이온농도분극(ICP; Ion Concentration Polarization) 현상이 발생함으로써 이온공핍영역(ion depletion zone)이 형성되는 것을 특징으로 한다.

    이온농도분극 현상을 이용한 유체 정수 장치 및 정수 시스템

    公开(公告)号:KR1020180113781A

    公开(公告)日:2018-10-17

    申请号:KR1020170045301

    申请日:2017-04-07

    CPC classification number: B01D61/46 B01D61/52 C02F1/469

    Abstract: 본발명은이온농도분극현상을이용한대용량유체정수장치및 정수시스템으로서, 본발명의일 실시예에따른정수장치(100)는, 이온농도분극현상을이용하여대용량의유체를정수하는정수장치로서, 정수대상물질을주입하는입구를일단에구비한주입채널(120), 주입채널(120)의타단에서메쉬부(150)를개재하여분기되는, 정수된물질(F)이배출되는정수채널(140)과나머지정수대상물질(B')이배출되는배출채널(160), 메쉬부(150)의적어도일측에접하는이온선택성멤브레인(180) 및메쉬부(150)가접하는이온선택성멤브레인(180)의타측에배치되는버퍼부(200)를포함하고, 메쉬부(150)는표면상에이온선택성코팅층(155)이형성되며, 전기장이인가되면, 주입채널(120)의타단및 메쉬부(150)의인접한부위에이온농도분극(ICP; Ion Concentration Polarization) 현상이발생함으로써이온공핍영역(ion depletion zone)이형성되는것을특징으로한다.

    화력발전소 바닥재를 이용한 구상의 충전제 제조 시설 및 방법
    5.
    发明授权
    화력발전소 바닥재를 이용한 구상의 충전제 제조 시설 및 방법 有权
    使用热电站底部制造颗粒填料的设备和方法

    公开(公告)号:KR101131932B1

    公开(公告)日:2012-04-03

    申请号:KR1020110064902

    申请日:2011-06-30

    Abstract: PURPOSE: A facility and a method for manufacturing spherical filler based on the bottom ash of a thermoelectric power plant is provided to prevent pollution due to landfill leachate or drainage by reducing the amount of scraped bottom ash. CONSTITUTION: A facility for manufacturing a spherical filler based on the bottom ash of a thermoelectric power plant includes a filler material tank(10), a fuel tank(20), an oxygen tank(30), a sprayer(40), a chamber(50), and a cyclone(60). The sprayer includes a material introducing path, a first spraying path, and a second spraying path. The material introducing path is in connection with the filler material tank and receives filler materials. The first spraying path is in connection with the fuel tank and receives fuel. The first spraying path is in connection with the material introducing path and sprays filler materials and fuel into the chamber. The second spraying path is formed along the circumference of the first spraying path. The second spraying path receives oxygen from the oxygen tank and sprays the oxygen into the chamber.

    Abstract translation: 目的:提供一种基于热电厂的底灰制造球形填料的设备和方法,以通过减少底灰的量来防止由垃圾渗滤液或排水引起的污染。 构成:用于制造基于热电厂的底灰的球形填料的设备包括填料罐(10),燃料箱(20),氧气罐(30),喷雾器(40),室 (50)和旋风分离器(60)。 喷雾器包括材料引入路径,第一喷射路径和第二喷射路径。 材料引入路径与填充材料罐结合并接收填充材料。 第一喷射路径与燃料箱连接并接收燃料。 第一喷射路径与材料引入路径相连,并将填充材料和燃料喷射到室中。 第二喷射路径沿着第一喷射路径的圆周形成。 第二喷射路径从氧气罐接收氧气并将氧气喷射到室中。

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