公开(公告)号：KR101467116B1

公开(公告)日：2014-12-01

申请号：KR1020130113622

申请日：2013-09-25

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 염근영 ,  김가영 ,  문무겸

IPC: G02F1/13 ,  H01L21/30 ,  G09F9/00

CPC classification number: G02F1/1303 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/677

Abstract: 표면 처리 방법이 개시된다. 본 발명에 따른 표면 처리 방법은 기판 표면에 그래핀 플레이크를 분사하여 마스크를 형성하는 마스크 형성 단계 및 그래핀 플레이크가 분사된 상기 기판 표면에 에너지원을 조사하는 에너지 조사 단계를 포함하여 이루어지며, 상기 에너지 조사 단계에서 상기 기판 표면에 분사된 그래핀 플레이크가 모두 식각될 때까지 에너지를 조사하고, 상기 에너지원은 대기압 플라즈마인 것을 특징으로 한다.

Abstract translation: 公开了一种表面处理方法。 根据本发明的表面处理方法包括通过在基板的表面上喷涂石墨烯薄片形成掩模的掩模形成步骤以及在基板的表面上散射能量源的能量辐射方法，在该表面上，石墨烯 薄片喷雾。 在能量辐射步骤中，辐射能量，直到喷涂在基板表面上的石墨烯薄片被完全蚀刻。 能源是大气等离子体。