-
公开(公告)号：KR1020140126273A
公开(公告)日：2014-10-30
申请号：KR1020140095984
申请日：2014-07-28
Applicant: 성균관대학교산학협력단
Abstract: Disclosed is a large area plasma generating apparatus capable of adjusting a plasma generation region. The plasma generating apparatus comprises a vacuum chamber in which plasma is generated, a susceptor which is provided in the vacuum chamber and on which a substrate is mounted, and a plasma generation region limiting member which limits a plasma generation region. The plasma generation region limiting member includes two pairs of plasma generation region limiting members which are disposed to face each other so as to surround four sides of the plasma generation region. The width of one pair of plasma generation region limiting members is narrower than the width of the other pair of plasma generation region limiting members.
Abstract translation: 公开了能够调整等离子体产生区域的大面积等离子体发生装置。 等离子体发生装置包括：在其中产生等离子体的真空室，设置在真空室中并且其上安装有基板的基座;以及限制等离子体产生区域的等离子体产生区域限制部件。 等离子体产生区域限制构件包括两对等离子体产生区域限制构件，其被设置成围绕等离子体产生区域的四个侧面彼此相对。 一对等离子体产生区域限制部件的宽度比另一对等离子体产生区域限制部件的宽度窄。
-
公开(公告)号：KR1020140125120A
公开(公告)日：2014-10-28
申请号：KR1020130042874
申请日：2013-04-18
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: H05H1/46
CPC classification number: H05H1/46 , H01J37/32091 , H01J37/3211 , H01J37/32174 , H01J37/32532 , H05H2001/4652 , H05H2001/4667 , H05H2001/4675 , H05H2001/4682
Abstract: 복수 개의 유도 결합형 안테나 및 복수 개의 용량 결합형 안테나가 서로 교번하여 배치되는 하이브리드 플라즈마 소스 및 이를 이용한 플라즈마 발생장치가 개시된다. 상기 두 가지의 다른 형태의 안테나에 각각 전력을 인가함으로써, 공정에서 중요한 요소인 플라즈마의 밀도, 전자온도, 균일도 등을 조절 가능하게 함으로써, 유도 결합형 플라즈마 소스와 용량 결합형 플라즈마 소스 각각이 가지고 있는 문제점을 해결할 수 있다.
Abstract translation: 公开了一种混合等离子体源，其中交替布置多个电感耦合天线和多个电容耦合天线，以及用于使用该等离子体产生等离子体的装置。 为了控制等离子体的密度，电子温度和均匀性，这两种类型的天线都被施加电力，这是工艺的重要元件。 因此，本发明解决了电感耦合天线和电容耦合天线中的每一个具有的问题。
-
公开(公告)号：KR101569285B1
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：KR1020140095984
申请日：2014-07-28
Applicant: 성균관대학교산학협력단
Abstract: 플라즈마의생성영역조절이가능한대면적플라즈마발생장치가개시된다. 상기플라즈마발생장치는플라즈마가생성되는진공챔버, 기판이안착되는서셉터가상기진공챔버내부에구비되고, 플라즈마의생성영역을제한하기위한플라즈마생성영역제한부재를포함한다. 상기플라즈마생성영역제한부재는플라즈마생성영역을 4면에서둘러싸는형태를취하도록마주보며위치하는두 쌍의플라즈마생성영역제한부재를포함하며, 그중 한쌍의플라즈마생성영역제한부재의폭은나머지한 쌍의플라즈마생성영역제한부재의폭 보다좁은것을특징으로한다.
-
公开(公告)号：KR101467093B1
公开(公告)日：2014-12-01
申请号：KR1020130042876
申请日：2013-04-18
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: H05H1/46
Abstract: 두께조절이가능한내부삽입형안테나및 이를이용한플라즈마발생장치가개시된다. 상기내부삽입형안테나는전극을포함하는안테나튜브의외주면을감싸는원통형의절연체를포함하며, 상기플라즈마발생장치는반응챔버의내측상단부에서로평행하게배치되는상기내부삽입형안테나를포함하여구성된다. 또한, 상기내부삽입형안테나는상기안테나튜브의길이방향에따라두께를달리하여생성되는플라즈마의밀도를조절할수 있다.
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101556830B1
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：KR1020130143834
申请日：2013-11-25
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: C23C14/34
Abstract: 유도결합형플라즈마소스및 이를포함하는스퍼터링장치가개시된다. 본발명에따른유도결합형플라즈마소스는외주면에다수개의홀을가지는원통형의제1 튜브, 외주면에다수개의홀을가지며상기제1 튜브의외주면을둘러싸는원통형의제2 튜브및 상기제1 튜브에권취되는안테나를포함하며, 상기제1 튜브내부에서플라즈마를발생시키고상기제1 튜브및 제2 튜브의다수개의홀을통하여외부로방출시키는것을특징으로한다. 또한, 본발명에따른스퍼터링장치는상기유도결합형플라즈마소스, 스퍼터링타겟이놓여지는캐소드및 처리기판을포함하며, 상기유도결합형플라즈마소스에의하여플라즈마가발생하는영역과상기캐소드와처리기판사이의플라즈마가발생하는영역으로구분되는것을특징으로한다.
-
公开(公告)号：KR1020150059993A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：KR1020130143834
申请日：2013-11-25
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/3471
Abstract: 유도결합형플라즈마소스및 이를포함하는스퍼터링장치가개시된다. 본발명에따른유도결합형플라즈마소스는외주면에다수개의홀을가지는원통형의제1 튜브, 외주면에다수개의홀을가지며상기제1 튜브의외주면을둘러싸는원통형의제2 튜브및 상기제1 튜브에권취되는안테나를포함하며, 상기제1 튜브내부에서플라즈마를발생시키고상기제1 튜브및 제2 튜브의다수개의홀을통하여외부로방출시키는것을특징으로한다. 또한, 본발명에따른스퍼터링장치는상기유도결합형플라즈마소스, 스퍼터링타겟이놓여지는캐소드및 처리기판을포함하며, 상기유도결합형플라즈마소스에의하여플라즈마가발생하는영역과상기캐소드와처리기판사이의플라즈마가발생하는영역으로구분되는것을특징으로한다.
Abstract translation: 公开了一种用于提高溅射产率的电感耦合等离子体源，以及使用该等离子体源的溅射装置。 根据本发明，电感耦合等离子体源包括：圆筒形第一管，其在外圆周上具有多个孔; 圆筒状的第二管，其在外周具有多个孔，并且包围第一管的外周; 以及缠绕在第一管上的天线。 从第一管的内部产生等离子体，通过第一管和第二管上的多个孔排出到外部。 除此之外，溅射装置包括：电感耦合等离子体源; 放置溅射靶的阴极; 和处理基板。 溅射装置被分离成通过电感耦合等离子体源产生等离子体的区域，以及阴极和处理基板之间的区域以产生等离子体。
-
公开(公告)号：KR1020140125121A
公开(公告)日：2014-10-28
申请号：KR1020130042876
申请日：2013-04-18
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: H05H1/46
CPC classification number: H05H1/46 , H01J37/32091 , H01Q1/244 , H01Q1/366 , H05H2001/4675
Abstract: 두께 조절이 가능한 내부 삽입형 안테나 및 이를 이용한 플라즈마 발생 장치가 개시된다. 상기 내부 삽입형 안테나는 전극을 포함하는 안테나 튜브의 외주면을 감싸는 원통형의 절연체를 포함하며, 상기 플라즈마 발생 장치는 반응 챔버의 내측 상단부에 서로 평행하게 배치되는 상기 내부 삽입형 안테나를 포함하여 구성된다. 또한, 상기 내부 삽입형 안테나는 상기 안테나 튜브의 길이 방향에 따라 두께를 달리하여 생성되는 플라즈마의 밀도를 조절할 수 있다.
Abstract translation: 公开了一种具有可控厚度的插入式天线和使用该天线的等离子体产生装置。 插入型天线包括包围包括电极的天线管的外表面的圆柱形绝缘体。 等离子体产生装置包括布置成平行于反应室的上部内部的插入型天线。 插入型天线可以通过沿着天线管的纵向方向改变天线管的厚度来控制等离子体的密度。
-
公开(公告)号：KR101467092B1
公开(公告)日：2014-12-01
申请号：KR1020130042872
申请日：2013-04-18
Applicant: 성균관대학교산학협력단
Abstract: 플라즈마의생성영역조절이가능한대면적플라즈마발생장치가개시된다. 상기플라즈마발생장치는플라즈마가생성되는진공챔버, 기판이안착되는서셉터가상기진공챔버내부에구비되고, 플라즈마의생성영역을제한하기위한플라즈마생성영역제한부재를포함한다. 상기플라즈마생성영역제한부재는외부에서위치및 가스여기량이제어된다.
-
公开(公告)号：KR1020140125118A
公开(公告)日：2014-10-28
申请号：KR1020130042872
申请日：2013-04-18
Applicant: 성균관대학교산학협력단
CPC classification number: H01J37/32458 , H01J37/32715 , H01J37/32733 , H01J37/32825 , H05H1/24
Abstract: 플라즈마의 생성영역 조절이 가능한 대면적 플라즈마 발생장치가 개시된다. 상기 플라즈마 발생장치는 플라즈마가 생성되는 진공 챔버, 기판이 안착되는 서셉터가 상기 진공 챔버 내부에 구비되고, 플라즈마의 생성영역을 제한하기 위한 플라즈마 생성영역 제한부재를 포함한다. 상기 플라즈마 생성영역 제한부재는 외부에서 위치 및 가스 여기량이 제어된다.
Abstract translation: 公开了能够调整等离子体产生区域的大规模等离子体发生装置。 等离子体发生装置包括产生等离子体的真空室; 基座，其安装在基板上并包括在真空室中; 以及用于限制等离子体产生区域的等离子体产生限制构件。 等离子体产生限制部件控制位置和排气量在外部。
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
9
records
(took 0.017 seconds)
