Patent search ap:("숭실대학교산학협력단" OR "서강대학교산학협력단") AND inv:"양지혜" Page 1

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发明授权
양자점 박막, 이의 패터닝 방법 및 이를 적용한 양자점 발광소자 有权

公开(公告)号：KR102087299B1

公开(公告)日：2020-03-10

申请号：KR1020180040804

申请日：2018-04-09

Applicant: 숭실대학교산학협력단 , 서강대학교산학협력단

Inventor： 강문성 , 조정호 , 양지혜

IPC: C09K11/02 , H01L33/06 , H01L33/00

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