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公开(公告)号：KR1020040030695A
公开(公告)日：2004-04-09
申请号：KR1020037016712
申请日：2002-06-18
Applicant: 아그파-게바에르트 엔.브이.
CPC classification number: G03F7/093 , G03F7/0163 , H01B1/127 , H01B1/128 , H05K3/048 , H05K2201/0329
Abstract: 지지체, 및 그 두께가 500nm 이하이고 폴리음이온과 고유 도전성 중합체를 포함하는 도전 요소를 포함하며, 상기 도전 요소의 한쪽 표면이 상기 물질의 최외각 표면이고 상기 도전 요소의 다른쪽 표면이 패턴화 표면에 연속하며, 상기 패턴화 표면은 두종류 이상의 표면 요소로 이루어져 있으며, A형 표면 요소에 연속한 상기 도전 요소의 부분의 표면저항이 B형 표면 요소에 연속한 상기 도전 요소의 부분의 표면저항보다 10배 이상 것을 특징으로 하는, 도전성 패턴을 갖는 물질; 지지체, 및 폴리음이온과 고유의 도전성 중합체를 포함하는 도전 요소를 포함하는 물질로서, 상기 도전 요소의 한쪽 표면이 상기 물질의 최외각 표면이고, 상기 도전 요소의 다른쪽 표면이 패턴화 표면에 연속되며, 상기 패턴화 표면이 두종류 이상의 표면 요소로 이루어지고, 한 종류의 상기 표면 요소에 연속된 표면 요소의 부분이 현상제에 의해 적어도 부분적으로 제거될 수 있는 것을 특징으로 하는, 도전성 패턴 형성용 물질을 개시한다.
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公开(公告)号：KR100883215B1
公开(公告)日：2009-02-13
申请号：KR1020037016712
申请日：2002-06-18
Applicant: 아그파-게바에르트 엔.브이.
CPC classification number: G03F7/093 , G03F7/0163 , H01B1/127 , H01B1/128 , H05K3/048 , H05K2201/0329
Abstract: 지지체, 및 그 두께가 500nm 이하이고 폴리음이온과 고유 도전성 중합체를 포함하는 도전 요소를 포함하며, 상기 도전 요소의 한쪽 표면이 상기 물질의 최외각 표면이고 상기 도전 요소의 다른쪽 표면이 패턴화 표면에 연속하며, 상기 패턴화 표면은 두종류 이상의 표면 요소로 이루어져 있으며, A형 표면 요소에 연속한 상기 도전 요소의 부분의 표면저항이 B형 표면 요소에 연속한 상기 도전 요소의 부분의 표면저항보다 10배 이상 것을 특징으로 하는, 도전성 패턴을 갖는 물질; 지지체, 및 폴리음이온과 고유의 도전성 중합체를 포함하는 도전 요소를 포함하는 물질로서, 상기 도전 요소의 한쪽 표면이 상기 물질의 최외각 표면이고, 상기 도전 요소의 다른쪽 표면이 패턴화 표면에 연속되며, 상기 패턴화 표면이 두종류 이상의 표면 요소로 이루어지고, 한 종류의 상기 표면 요소에 연속된 표면 요소의 부분이 현상제에 의해 적어도 부분적으로 제거될 수 있는 것을 특징으로 하는, 도전성 패턴 형성용 물질을 개시한다.
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公开(公告)号：KR100875219B1
公开(公告)日：2008-12-19
申请号：KR1020037016713
申请日：2002-06-18
Applicant: 아그파-게바에르트 엔.브이.
Inventor： 라모뜨조안
IPC: G03F7/021
CPC classification number: H01B1/127 , C08G61/126 , H05K3/02
Abstract: A material for making an electroconductive pattern, the material comprising a support and a light-exposure differentiable element, characterized in that the light-exposure differentiable element comprises a conductivity enhanced outermost layer containing a polyanion and a polymer or copolymer of a substituted or unsubstituted thiophene, and optionally a second layer contiguous with the outermost layer; and wherein the outermost layer and/or the optional second layer contains a monodiazonium salt capable upon exposure of reducing the conductivity of the exposed parts of the outermost layer relative to the unexposed parts of the outermost layer and a method of making an electroconductive pattern.
Abstract translation: 一种用于制作导电图案的材料，该材料包括载体和可曝光微分元件，其特征在于该可曝光微分元件包括含有聚阴离子的导电率增强的最外层和取代或未取代的噻吩的聚合物或共聚物 以及可选的与最外层邻接的第二层; 并且其中最外层和/或任选的第二层包含能够在暴露时降低最外层的暴露部分相对于最外层的未暴露部分的导电率的单重氮盐以及制备导电图案的方法。
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公开(公告)号：KR1020040030696A
公开(公告)日：2004-04-09
申请号：KR1020037016713
申请日：2002-06-18
Applicant: 아그파-게바에르트 엔.브이.
Inventor： 라모뜨조안
IPC: G03F7/021
CPC classification number: H01B1/127 , C08G61/126 , H05K3/02
Abstract: 본 발명은 지지체와 노광 구별 요소를 포함하며, 상기 노광 구별 요소가 폴리 음이온 및 치환 또는 비치환된 티오펜의 폴리머 또는 코폴리머를 포함하는, 도전율이 개선된 최외각층, 및 임의로는 상기 최외각층에 연속된 제2층을 포함하고, 상기 최외각층 및 상기 임의의 제2층이 노광시 상기 최외각층의 미노광부에 대한 상기 최외각층의 노광부의 도전율을 감소시킬 수 있는 모노디아조늄염을 포함하는 것을 특징으로 하는 전기전도성 패턴 형성용 물질에 관한 것이다.
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