公开(公告)号：KR1020040030066A

公开(公告)日：2004-04-08

申请号：KR1020047002153

申请日：2002-06-17

Applicant: 아트나셰프 비탈리

Inventor： 아트나셰프알렉세이 ,  아트나셰프파벨 ,  보야르첸코프알렉세이 ,  아트나셰프비탈리

IPC: G01J3/00

CPC classification number: G01J3/02 ,  G01J3/0205 ,  G01J3/2803 ,  G01J3/453

Abstract: 본 발명은 정재 광파의 간섭 프린지의 시스템이 광소자를 포함하는 주기적 시스템의 이미지를 투영함으로써 공간 주파수의 신호의 형상으로 기록되는 것을 특징으로 한다. 광소자로부터 수신된 전기 신호는 주기적 시스템의 광소자의 위치에 대응하는 그 함수의 형상으로 기록되며 분석된다. 본 발명의 분광법은 다음의 광 결합형 소자인, 광 방사 소오스, 반사 거울, 하나 또는 두개의 부분 투명한 얇은 감도층, 광소자가 제공되는 주기적 시스템, 빔 분산 소자, 및 스팩트럼 분석기를 포함하는 인터페로미터의 도움으로 수행된다. 본 발명의 분광법 및 이 방법을 수행하기 위한 인터페로미터는 광파 측정의 정확성을 2 내지 5 배 증가시키고 더욱 넓은 스팩트럼 범위에 걸쳐 광 방사를 측정할 수 있다.