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公开(公告)号：KR101993487B1
公开(公告)日：2019-06-26
申请号：KR1020147006773
申请日：2012-07-11
Applicant: 에드워즈 리미티드
Inventor： 보로닌세르게이알렉산드로비치 , 클레멘츠크리스토퍼제임스필립 , 비더존레슬리
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公开(公告)号：KR1020170118753A
公开(公告)日：2017-10-25
申请号：KR1020177023294
申请日：2016-01-28
Applicant: 에드워즈 리미티드
Inventor： 보로닌세르게이알렉산드로비치 , 애트우드마크제임스 , 챔버스앤드류아서 , 비더존레슬리
CPC classification number: B03C3/80 , B03C3/01 , B03C3/16 , B03C3/36 , B03C3/41 , B03C3/49 , B03C2201/08 , B03C2201/10
Abstract: 공지의습식전기집진기는크고비효율적이다. 본발명은, 제 1 세정흐름을통과시켜서집진기챔버안으로향하게하되입자가물 커튼안으로밀어넣어질수 있도록집진기챔버를통과하는처리할가스의흐름방향에대해수직으로향하게하는중앙구멍을내부전극에추가함으로써, 더작고더 효율적이며수명이긴 습식전기집진기의제작을가능하게한다. 내부전극에서임의의증착입자가세정될수 있도록물 커튼을교란시키기위해더 큰제 2 정화세정흐름도또한제공된다.
Abstract translation: 已知的湿式静电除尘器大而效率低。 本发明的加成首先通过洗涤流通过，但在集尘腔面对，要处理面向垂直于气体的流动方向的中心孔，所述颗粒通过集尘室传递到不能被推入水幕中的电极 ，能够生产更小，更高效和更长寿命的湿式静电除尘器。 还提供了更大的双层清洁流程来扰乱水幕，以便可以在内部电极清洁任何沉积的颗粒。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020140101801A
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：KR1020147016291
申请日：2012-10-03
Applicant: 에드워즈 리미티드
Inventor： 보로닌세르게이알렉산드로비치 , 비더존레슬리 , 챔버스앤드류아서
CPC classification number: B01D53/005 , B01D53/32 , B01D2258/0216 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J2219/0894
Abstract: 본 발명은 가스 스트림(22)을 처리하기 위한 장치를 제공한다. 플라즈마 저감 장치(10)는 가스 스트림을 처리하기 위해서, 반응 챔버(14) 및 챔버 내로 주입하는 플라즈마 스트림을 생성하는 플라즈마 토치(12)를 가진다. 제 1 유입구(18)는 처리를 위해 플라즈마 저감 장치 내로 가스 스트림을 이송하고, 제 2 유입구(20)는, 장치의 정상 상태에서, 처리의 효율을 향상시키기 위해서 플라즈마 장치 내로 시약(24)을 이송하기 위해, 시약원과 유통한다. 장치의 백업 상태에서, 제 2 유입구는 처리를 위해서 장치 내로 가스 스트림을 이송하기 위해, 가스 스트림원과 유통한다.
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公开(公告)号：KR1020140064867A
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：KR1020147006773
申请日：2012-07-11
Applicant: 에드워즈 리미티드
Inventor： 보로닌세르게이알렉산드로비치 , 클레멘츠크리스토퍼제임스필립 , 비더존레슬리
CPC classification number: C23C16/45508 , B01D53/32 , B01D2252/103 , B01D2257/106 , B01D2257/2027 , B01D2257/2047 , B01D2257/402 , B01D2257/406 , B01D2257/553 , B01D2258/0216 , B01D2259/818 , B03C3/78 , B03C3/82 , C23C16/4404 , C23C16/45563 , C23C16/513 , H05H1/341 , Y02C20/10
Abstract: 본 발명은 가스 스트림(12)을 처리하기 위한 장치(10)에 관한 것이다. 플라즈마 발생기(14)는 플라즈마 플레어(16)를 발생한다. 제 1 유입구(18)는 장치 내로 가스 스트림을 운반한다. 반응 챔버(20)는 가스가 처리되는 플라즈마 발생기의 하류에 위치된다. 제 2 유입구(22)는, 내부 표면상에서의 고형 증착물의 축적에 저항하기 위해서, 반응 챔버의 내부 표면(26) 상에서 액체 위어(24)를 설정하도록 장치 내로 액체(32)를 수용한다. 위어 가이드(28)는 내부 표면상에서 액체를 안내시키기 위한 외부 환형 표면(30)과 외부 표면과 흐름 연통하는 내부 환형 표면(34)을 구비하며, 그 결과 액체는 외부 표면으로부터 내부 표면까지 유동하여, 내부 표면상에서의 증착에 저항하게 된다.
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公开(公告)号：KR102001268B1
公开(公告)日：2019-07-17
申请号：KR1020147006776
申请日：2012-07-11
Applicant: 에드워즈 리미티드
Inventor： 클레멘츠크리스토퍼제임스필립 , 보로닌세르게이알렉산드로비치 , 비더존레슬리 , 맥그래스다니엘
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公开(公告)号：KR1020140064869A
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：KR1020147006776
申请日：2012-07-11
Applicant: 에드워즈 리미티드
Inventor： 클레멘츠크리스토퍼제임스필립 , 보로닌세르게이알렉산드로비치 , 비더존레슬리 , 맥그래스다니엘
CPC classification number: C23C16/4407 , B01D53/323 , B01D2257/553 , B01D2258/0216 , B01D2259/818 , B03C3/743 , B08B1/008 , C23C16/50 , C23C16/52 , H05H1/34 , H05H2245/1215
Abstract: 가스 스트림(12)을 처리하기 위한 장치(10)에서, 플라즈마 발생기(14)는 고전압의 인가에 의해 소스 가스를 활성화시켜서 플라즈마 플레어(16)를 생성하는 전극(22)을 포함한다. 입구(24)는 가스 스트림(12)을 장치(10) 내로 들어가게 해서, 생성된 플라즈마로 가스 스트림을 인도한다. 스크레이퍼(26)는, 전극(22)으로부터 후퇴한 제 1 위치로부터, 전극(22)의 표면(28)을 긁어내서 그 표면(28)에 축적된 고체 증착물을 제거하기 위한 제 2 위치로 왕복 운동하도록 장착된다.
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