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公开(公告)号:KR1020140028077A
公开(公告)日:2014-03-07
申请号:KR1020137033475
申请日:2012-05-16
Applicant: 에이치.이.에프.
Inventor: 에오,크리스토프 , 봉빌롱,로랑 , 모랭-페리에,필리프
CPC classification number: C23C14/0611 , C23C14/022 , C23C14/024 , C23C14/0605 , C23C28/044 , C23C28/046 , C23C28/048 , Y10T428/30
Abstract: 본 발명은 WC-C 조성물 구배 층을 가지고, 금속-함유 하층막을 제외하며 이온 주입층(implantation layer)을 제외한 층 및 DLC 표면층을 가진 부품에 관한 것으로, 상기 부품은 스크래치 검사시 응집 성향을 갖는 것을 특징으로 한다.
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公开(公告)号:KR101779844B1
公开(公告)日:2017-09-19
申请号:KR1020137033475
申请日:2012-05-16
Applicant: 에이치.이.에프.
Inventor: 에오,크리스토프 , 봉빌롱,로랑 , 모랭-페리에,필리프
CPC classification number: C23C14/0611 , C23C14/022 , C23C14/024 , C23C14/0605 , C23C28/044 , C23C28/046 , C23C28/048 , Y10T428/30
Abstract: 본발명은 WC-C 조성물구배층을가지고, 금속-함유하층막을제외하며이온주입층(implantation layer)을제외한층 및 DLC 표면층을가진부품에관한것으로, 상기부품은스크래치검사시응집성향을갖는것을특징으로한다.
Abstract translation: 它具有絮凝倾向,该部件时该部件的划痕试验具有除了偶数和DLC顶层,以及离子注入层(注入层),除了含有所述下层膜 - 本发明具有WC-C组成梯度层,所述金属 它表征。
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