3차원 나노 스케일 구조물 제작 장치 및 이를 이용한 3차원 나노 스케일 구조물 제조방법
    1.
    发明公开
    3차원 나노 스케일 구조물 제작 장치 및 이를 이용한 3차원 나노 스케일 구조물 제조방법 无效
    用于制作3D纳米结构的装置和使用其的构造方法

    公开(公告)号:KR1020150057978A

    公开(公告)日:2015-05-28

    申请号:KR1020140151524

    申请日:2014-11-03

    CPC classification number: C23C14/3407 C23C14/3442 C23C14/3471

    Abstract: 3차원나노스케일의구조물제작장치및 이를이용한 3차원나노스케일구조물제조방법이개시된다. 본발명의실시예에따른나노구조물제작장치는, 소스부재(110), 소스부재고정부(120) 및플라즈마발생부(130)를구비하고, 상기소스부재(110)는플라즈마발생부(130)로부터발생한플라즈마(190)에의해스퍼터링되어나노입자를발생하는스퍼터링소스부(100); 상기스퍼터링소스부(100)에인접하여장착되고, 스퍼터링된나노입자들(111)이양전하를띠도록스퍼터링된나노입자들(111)에플라즈마또는레이저를조사하는이온화장치부(200); 상기스퍼터링소스부(100) 및이온화장치부(200)를내부에장착하고, 이온화입자배출구(411)를구비하며, 상기이온화장치부(200)로부터생성된양전하를띤 나노입자들(112)을상기이온화입자배출구(411)로배출시키는스퍼터링챔버(sputtering chamber, 410); 상기이온화입자배출구(411)에인접하여연통되어장착되고, 집속입자배출구(421)를구비하며, 이온화된입자들(112)을이온집속렌즈(320)를통해집속하고, 상기집속입자배출구(421)를통해집속된입자(113)를배출시키는이온제어렌즈부(300); 및상기집속입자배출구(421)에인접하여위치하고, 집속된입자들(113)을끌어당기는음극판(520)을구비하며, 집속된입자들(113)을기판(510)에증착시키는기판증착부(500);를포함한다.

    Abstract translation: 公开了一种用于制造三维纳米尺度结构的装置和使用其的三维纳米级结构的制造方法。 根据本发明的实施例,用于制造三维纳米级结构的装置包括:溅射源单元(100),具有源元件(110)并具有源元件固定单元(120),并具有 等离子体产生单元(130),并且其中所述源构件(11)由等离子体产生单元(13)产生的等离子体(190)溅射以产生纳米颗粒; 电离装置单元(200),其将所述等离子体或激光照射到所述溅射的纳米颗粒(111)上以带正电; 以及将从电离装置单元(200)产生的带正电的纳米粒子(112)排出到电离粒子出口(411)的溅射室(410)。

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