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公开(公告)号:KR1020070051188A
公开(公告)日:2007-05-17
申请号:KR1020050108711
申请日:2005-11-14
Applicant: 삼성디스플레이 주식회사 , 연세대학교 산학협력단
IPC: C09K19/56
CPC classification number: C23C16/325 , C23C14/0635 , C23C14/3457 , C23C14/3464 , C23C16/56 , G02F1/1337 , G02F2202/00 , H01J37/3429 , Y10T428/10
Abstract: 수직 무기 배향막의 제조방법 및 이를 갖는 액정표시장치가 개시된다. 액정표시장치는 제1 표시기판, 제2 표시기판 및 액정층으로 이루어진다. 제1 및 제2 표시기판은 액정층에 포함된 액정분자들을 수직 배향시키기 위해 제1 및 제2 수직 무기 배향막을 각각 구비한다. 제1 및 제2 수직 무기 배향막은 탄화 실리콘으로 이루어지고, 화학기상증착 또는 스퍼터링 방법을 통해 상기 제1 및 제2 표시기판에 각각 형성된다. 따라서, 수직 무기 배향막의 제조공정을 단순화시킬 수 있고, 그 결과 액정표시장치의 생산성을 향상시킬 수 있다.
CVD, 탄화 실리콘, 수직 배향-
公开(公告)号:KR1020070063184A
公开(公告)日:2007-06-19
申请号:KR1020050123153
申请日:2005-12-14
Applicant: 삼성전자주식회사 , 연세대학교 산학협력단
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/1337 , G02F1/133514 , G02F1/133788 , G02F2201/465
Abstract: A method for manufacturing a display substrate and a method for manufacturing a display panel by using the same are provided to improve the display quality, by processing a surface of an alignment layer through plasma so as to remove impurities from the surface of the alignment layer. An alignment layer is formed on a transparent substrate(S20). A surface of the alignment layer is processed by using plasma, thereby removing impurities from the alignment layer(S50). The surface of the alignment layer contains carbon of more than 20% after processing the alignment layer. The alignment layer has a surface energy of 62mJ/m^2 after processing the alignment layer. The alignment layer is a vertical inorganic alignment layer.
Abstract translation: 提供一种显示基板的制造方法以及使用该显示基板的显示面板的制造方法,通过等离子体处理取向膜的表面,从而从取向膜的表面除去杂质,提高显示质量。 在透明基板上形成取向层(S20)。 通过使用等离子体处理取向层的表面,从而从取向层除去杂质(S50)。 在对准层处理后,取向层的表面含有大于20%的碳。 对准层在对准层处理后的表面能为62mJ / m ^ 2。 取向层是垂直无机取向层。
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公开(公告)号:KR1020080020057A
公开(公告)日:2008-03-05
申请号:KR1020060082846
申请日:2006-08-30
Applicant: 연세대학교 산학협력단 , 이화여자대학교 산학협력단
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133788 , G02F1/133711 , G02F2202/22
Abstract: A method for manufacturing an alignment layer by using printing technology is provided to manufacture a mold unit having various pattern sizes and form a pattern of the alignment layer by printing the alignment layer to the mold unit, thereby preventing the generation of dusts and static electricity during a manufacturing process and reducing manufacturing time and costs by simplifying manufacturing processes. A silicon master where patterns of 200nm to 10mum are formed is manufactured. On an upper end surface of the silicon master where the patterns are formed, polymer having stiffness is formed to form a mold unit main body(6). By forming a transparent film layer(8) on an upper end of the mold unit main body and hardening the transparent film layer by using ultraviolet rays, a mold unit(4) comprising the mold unit main body and the transparent film layer is formed. The mold unit is separated from the silicon master. A pattern of an alignment layer(10) is formed by coating the alignment layer on a substrate upper end where a transparent electrode is formed and printing the alignment layer to the mold unit. The alignment layer printed to the mold unit is hardened by ultraviolet rays.
Abstract translation: 提供了一种通过使用印刷技术制造取向层的方法,以制造具有各种图案尺寸的模具单元,并通过将取向层印刷到模具单元来形成取向层的图案,从而防止了在灰尘和静电期间产生灰尘和静电 制造过程,并通过简化制造过程减少制造时间和成本。 制造形成200nm〜10μm的图案的硅母版。 在形成图案的硅母版的上端表面上,形成具有刚度的聚合物以形成模具单元主体(6)。 通过在模具单元主体的上端形成透明膜层(8),并使用紫外线使透明膜层硬化,形成包括模具单元主体和透明膜层的模具单元(4)。 模具单元与硅母盘分离。 通过在形成透明电极的基板上端上涂布取向层,将定向层印刷到模具单元上,形成取向层(10)的图案。 印刷到模具单元的取向层被紫外线硬化。
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公开(公告)号:KR1020070047604A
公开(公告)日:2007-05-07
申请号:KR1020050104503
申请日:2005-11-02
Applicant: 연세대학교 산학협력단
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/1337 , C09K19/56 , G02F1/13334
Abstract: 본 발명은 플라즈마를 이용하여 무기배향막의 표면을 처리하는 방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 기판위에 수직 배향력을 제공하도록 구성물질의 화학식량을 조절하여 상기 구성물질의 양이 결정된 액정표시소자용 무기배향막을 증착하여 얻고, 저압챔버 내부에 설치된 전극사이에 상기 무기배향막을 위치시키고, 상기 저압챔버 내부에 기체를 주입한 후, 상기 전극에 전원을 가하여 상기 기체로부터 전이된 플라즈마를 이용하여 상기 무기배향막의 표면을 처리함으로써 상기 무기배향막의 수직배향력을 향상시키는 것을 특징으로 하여 무기배향막의 표면의 열적 및 화학적 안정성을 확보하고, 액정의 수직 배향력을 향상시키기 위한 것이다.
무기배향막, 표면처리, 플라즈마-
公开(公告)号:KR101235288B1
公开(公告)日:2013-02-21
申请号:KR1020050108711
申请日:2005-11-14
Applicant: 삼성디스플레이 주식회사 , 연세대학교 산학협력단
IPC: C09K19/56
CPC classification number: C23C16/325 , C23C14/0635 , C23C14/3457 , C23C14/3464 , C23C16/56 , G02F1/1337 , G02F2202/00 , H01J37/3429 , Y10T428/10
Abstract: 수직 무기 배향막의 제조방법 및 이를 갖는 액정표시장치가 개시된다. 액정표시장치는 제1 표시기판, 제2 표시기판 및 액정층으로 이루어진다. 제1 및 제2 표시기판은 액정층에 포함된 액정분자들을 수직 배향시키기 위해 제1 및 제2 수직 무기 배향막을 각각 구비한다. 제1 및 제2 수직 무기 배향막은 탄화 실리콘으로 이루어지고, 화학기상증착 또는 스퍼터링 방법을 통해 상기 제1 및 제2 표시기판에 각각 형성된다. 따라서, 수직 무기 배향막의 제조공정을 단순화시킬 수 있고, 그 결과 액정표시장치의 생산성을 향상시킬 수 있다.
CVD, 탄화 실리콘, 수직 배향-
公开(公告)号:KR100865540B1
公开(公告)日:2008-10-29
申请号:KR1020070039897
申请日:2007-04-24
Applicant: 이화여자대학교 산학협력단 , 연세대학교 산학협력단
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133734 , G02F1/133711 , G02F1/133753 , G02F1/133788
Abstract: A method for manufacturing an alignment layer and a liquid crystal display including the same are provided to form readily the inorganic alignment layer without using a vacuum evaporation for large size liquid crystal display. An orientation film formation method consists of following steps. An electrode is formed on a substrate.(S100) An organic film including the siloxane(Si-O-) is formed on the electrode potential.(S102) The organic film is oxidized and the oxidized organic film forms an inorganic alignment layer.(S104) If UVO is irradiated in the organic film, the organic film can be easily diversified to the inorganic film. A plasma processing, a thermal process, an UO processing, and etc. can be used for a mineralization process.
Abstract translation: 提供一种制造取向层的方法和包括该取向层的液晶显示器,以便容易地形成无机取向层,而不需要用于大尺寸液晶显示器的真空蒸发。 取向膜形成方法由以下步骤组成。 在基板上形成电极(S100)在电极电位上形成包含硅氧烷(Si-O-)的有机膜(S102)有机膜被氧化,氧化的有机膜形成无机取向层( S104)如果在有机膜中照射UVO,则可以容易地将有机膜多样化成无机膜。 等离子体处理,热处理,UO处理等可以用于矿化过程。
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公开(公告)号:KR100814146B1
公开(公告)日:2008-03-14
申请号:KR1020050104503
申请日:2005-11-02
Applicant: 연세대학교 산학협력단
IPC: G02F1/1337
Abstract: 본 발명은 플라즈마를 이용하여 무기배향막의 표면을 처리하는 방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 기판위에 수직 배향력을 제공하도록 구성물질의 화학식량을 조절하여 상기 구성물질의 양이 결정된 액정표시소자용 무기배향막을 증착하여 얻고, 저압챔버 내부에 설치된 전극 사이에 상기 무기배향막을 위치시키고, 상기 저압챔버 내부에 기체를 주입한 후, 상기 전극에 전원을 가하여 상기 기체로부터 전이된 플라즈마 기체로 상기 무기배향막의 표면을 처리함으로써 상기 무기배향막의 수직배향력을 복원시키는 것을 특징으로 하여 무기배향막의 표면의 열적 및 화학적 안정성을 확보하고, 액정의 수직 배향력을 향상시키기 위한 것이다.
무기배향막, 표면처리, 플라즈마
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