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    광변환 필름을 포함하는 모노리식 텐덤 태양전지 및 이의 제조방법
    2.
    发明申请
    광변환 필름을 포함하는 모노리식 텐덤 태양전지 및 이의 제조방법 审中-公开

    公开(公告)号：WO2022097793A1

    公开(公告)日：2022-05-12

    申请号：PCT/KR2020/015576

    申请日：2020-11-09

    Applicant: 울산과학기술원

    Inventor： 최경진 ,  송명훈 ,  정의대 ,  김찬울

    IPC: H01L31/0725 ,  H01L31/055 ,  H01L31/0256 ,  H01L31/18

    Abstract: 본 발명은 광변환 필름을 포함하는 모노리식 텐덤 태양전지 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 자세하게는 실리콘 태양전지 하부 셀; 상기 태양전지 하부 셀 상에 형성된 페로브스카이트 흡수층을 포함하는 페로브스카이트 태양전지 상부 셀; 상기 태양전지 상부 셀 상에 형성되는 투명전극 및 전자정공수송층; 및 상기 투명전극 및 전자정공수송층 상에 형성되는 광변환 필름층;을 포함하고, 상기 광변환 필름층은, 투광성 모체 및 적어도 2종 이상의 광변환 물질을 포함하는 것인, 모노리식 텐덤 태양전지 및 이의 제조방법에 관한 것이다.

    자가 정렬 나노 산화물을 이용한 태양 전지 및 그 제조 방법
    6.
    发明公开
    자가 정렬 나노 산화물을 이용한 태양 전지 및 그 제조 방법 有权
    使用自对准纳米氧化物的太阳能电池及其制造方法

    公开(公告)号：KR1020170097802A

    公开(公告)日：2017-08-29

    申请号：KR1020160017290

    申请日：2016-02-15

    Applicant: 울산과학기술원

    Inventor： 최경진 ,  박민주 ,  강성범 ,  정명훈 ,  최인영 ,  김찬울

    IPC: H01L31/0392 ,  H01L31/0224 ,  B82B1/00

    CPC classification number: Y02E10/50

    Abstract: 본발명은제조비용이저렴하고, 자가정렬특성이있는나노산화물층을형성하여표면반사율이낮은자가정렬나노산화물을이용한태양전지를제공하는것을그 목적으로한다. 상기의목적을달성하기위하여본 발명은, 자가정렬나노산화물을이용한태양전지에있어서, 반도체특성의기판; 상기기판하단에형성되는하면전극; 상기기판상단에형성되며, 상기기판과대응되는반도체특성의이미터층; 상기이미터층의일부에형성되어이미터층과전기적으로연결하는상면전극; 상기이미터층 상단에형성되어빛의반사율을낮추는특성을갖는자가정렬층;을포함하는것을특징으로한다.

    Abstract translation: 本发明是制造成本低，自表面反射率低，以形成具有自对准特性的纳米氧化物层利用所述排列的纳米氧化物，其目的在于提供一种太阳能电池。 根据本发明的一个方面，提供了一种使用自对准纳米氧化物的太阳能电池，包括：具有半导体特性的衬底; 底部电极形成在衬底的底部; 半导体特性欧姆层，形成在所述衬底的顶部并对应于所述衬底; 顶电极，形成在上层的一部分上并电连接到上层; 并且在上层上形成自对准层以降低光的反射率。

    수처리 멤브레인 제조용 마이크로 구조 템플릿 제조 방법
    9.
    发明授权
    수처리 멤브레인 제조용 마이크로 구조 템플릿 제조 방법 有权
    水处理膜制造的微结构模板制造方法

    公开(公告)号：KR101846644B1

    公开(公告)日：2018-05-18

    申请号：KR1020160017303

    申请日：2016-02-15

    Applicant: 울산과학기술원

    Inventor： 최경진 ,  강성범 ,  박민주 ,  정명훈 ,  김찬울

    IPC: B81C1/00

    Abstract: 본발명은표면에마이크로구조를포함하는템플릿을이용하여다공성 PVDF를제조하는방법을적용하기위한마이크로구조템플릿제조방법을제공하는것을그 목적으로한다. 상기의목적을달성하기위하여본 발명은, 표면에마이크로구조가형성된템플릿에멤브레인용수지용액을코팅하여다공성특성을갖는멤브레인을제조하는방법에적용되는수처리멤브레인제조용마이크로구조템플릿제조방법에있어서, 표면에마이크로구조가형성될기판을준비하는기판준비단계; 상기기판표면에감광제를도포하여감광제층을형성하는감광제도포단계; 빛이투과되는패턴이형성되는마스크를준비하는마스크준비단계; 상기마스크를상기감광제층 상단에위치시키고상기마스크에빛을방사하는노광단계; 현상액을이용하여상기감광제중 빛에노출된부분을제거하는감광제층에패턴을형성하는감광층제거단계; 상기감광제층에형성된패턴에금속을증착하는금속증착단계; 상기잔여감광제층을제거하여기판표면에마이크로금속닷만남기는세정단계; 및상기기판중 마이크로금속닷부분이외를식각하여마이크로와이어를형성하는식각단계;를포함하는것을특징으로한다.

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