公开(公告)号：KR100162022B1

公开(公告)日：1999-01-15

申请号：KR1019950026839

申请日：1995-08-28

Applicant: 이.아이.듀우판드네모아앤드캄파니

Inventor： 간다히로시 ,  오까베찌에 ,  무라까미마모루

IPC: H01B3/12

Abstract: 본 발명은 우수한 전기 특성을 갖고, 낮은 접촉 저항을 가지며 슬라이더와 저항체 슬라이딩 통로 사이의 슬라이딩 동안 안정한 전도성 커플링을 생성시키는, 가감 저항기에 사용하기 적합한 후막 저항체 조성물을 제공하기 위한 것이다.
7㎡/g 이하의 비표면적을 갖는 전기 전도성 피로클로르 10 내지 50 중량%, 산화 카드뮴을 함유하지 않는 유리 결합제 20 내지 70 중량% 및 산화 알루미늄, 산화아연 및 산화 카드뮴으로 이루어진 군으로부터 선택되는 산화물 첨가제 0 내지 5 중량%를 유기 비히클 중에 분산시켜 후막 저항체 조성물을 제조하고, 이어서 기판 상에 인쇄하고 소성시켜 가감 저항기에 사용하기 위한 저항체를 생성시킨다.

公开(公告)号：KR1019960007506A

公开(公告)日：1996-03-22

申请号：KR1019950026839

申请日：1995-08-28

Applicant: 이.아이.듀우판드네모아앤드캄파니

Inventor： 간다히로시 ,  오까베찌에 ,  무라까미마모루

IPC: H01B3/12

Abstract: 본 발명은 우수한 전기 특성을 갖고, 낮은 접촉 저항을 가지며 슬라이더와 저항체 슬라이딩 통로 사이의 슬라이딩 동안 안정한 전도성 커플링을 생성시키는, 가감 저항기에 사용하기 적합한 후막 저항체 조성물을 제공하기 위한 것이다.
7㎡/g 이하의 비표면적을 갖는 전기 전도성 피로클로르 10 내지 50 중량%, 산화 카드뮴을 함유하지 않는 유리 결합제 20 내지 70 중량% 및 산화 알루미늄, 산화아연 및 산화 카드뮴으로 이루어진 군으로부터 선택되는 산화물 첨가제 0 내지 5 중량%를 유기 비히클 중에 분산시켜 후막 저항체 조성물을 제조하고, 이어서 기판 상에 인쇄하고 소성시켜 가감 저항기에 사용하기 위한 저항체를 생성시킨다.