公开(公告)号：KR100495290B1

公开(公告)日：2005-12-21

申请号：KR1019980710880

申请日：1997-06-30

Applicant: 이.아이.듀우판드네모아앤드캄파니

Inventor： 프렌츠,로저,하퀘일 ,  샤프,케네쓰,조지

IPC: G03F1/50

Abstract: 본 발명은,
(a) 400 ㎚ 미만의 소정의 리소그래피 파장에서, 1.2 내지 2.0 범위, 바람직하게는 1.26 내지 1.8 범위의 굴절률 (n), 및 (b) 400 ㎚ 미만의 소정의 리소그래피 파장에서, 0.04 내지 0.8 범위, 바람직하게는 0.06 내지 0.59 범위의 소광 계수 (k)를 갖는 1종 이상의 중합체 물질, 바람직하게는 무정형 플루오로중합체, 또는 불소 관능화된 유기실란, 및 유기실리케이트, 또는 그의 혼합물로 도핑된 무정형 플루오로중합체를 포함하고, 투과성의 매입형의 위상변이체인 포토마스크 블랭크에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR1020000022447A

公开(公告)日：2000-04-25

申请号：KR1019980710880

申请日：1997-06-30

Applicant: 이.아이.듀우판드네모아앤드캄파니

Inventor： 프렌츠,로저,하퀘일 ,  샤프,케네쓰,조지

IPC: G03F1/50

CPC classification number: G03F1/32 ,  Y10T428/3154 ,  Y10T428/31612

Abstract: PURPOSE: A polymeric transmissive attenuated embedded phase shifter photo mask blank comprising at least one polymeric material is provided. At the selected lithographic wavelength below 400nm, the polymeric material has a certain index of refraction n and an extinction coefficient k. CONSTITUTION: Optical properties, such as n and k, are determined from variable angle spectroscopic ellipsometry at three incident angle from 186-800nm. From knowledge of the spectral dependence of optical properties, the film thickness, optical transmissivity and reflectivity are calculated. The polymeric materials having the optical properties necessary to produce transmissive attenuating embedded phase shifter photoblanks in accordance with both the desired transmission and phase shift are selected.

Abstract translation: 目的：提供一种包含至少一种聚合物材料的聚合物透射衰减的嵌入式移相器光掩模坯料。 在所选择的光刻波长低于400nm时，聚合材料具有一定的折射率n和消光系数k。 构成：从186-800nm的三个入射角度，可变角度光谱椭圆偏振光确定诸如n和k的光学性质。 根据光学性质的光谱依赖性的知识，计算膜厚度，透光率和反射率。 选择具有根据期望的透射和相移两者产生透射衰减的嵌入式移相器照相片所需的光学特性的聚合材料。