公开(公告)号：KR1020050075073A

公开(公告)日：2005-07-20

申请号：KR1020040002845

申请日：2004-01-15

Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단

Inventor： 김기범 ,  윤태식

IPC: B82B3/00 ,  B82Y40/00

CPC classification number: B82B3/0038 ,  B82Y40/00 ,  C02F1/725 ,  C02F2305/10 ,  D01D5/0015 ,  D06M10/025 ,  D06M11/46

Abstract: 본 발명은 대면적 기판 위에 콜로이드 용액내의 양자점을 다중 딥코팅(dip-coating) 방법을 사용하여 흡착(adsorption)함으로써 양자점의 표면 점유율을 단일층막 수준으로 균일하게 배열하는 방법에 관한 것이다. 또한, 이러한 다중 딥코팅 방법을 사용하여 기판에 균일한 배열을 가지는 양자점 클러스터 패턴을 형성하는 방법에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR100577061B1

公开(公告)日：2006-05-10

申请号：KR1020040002845

申请日：2004-01-15

Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단

Inventor： 김기범 ,  윤태식

IPC: B82B3/00 ,  B82Y40/00

Abstract: 본 발명은 대면적 기판 위에 콜로이드 용액내의 양자점을 다중 딥코팅(dip-coating) 방법을 사용하여 흡착(adsorption)함으로써 양자점의 표면 점유율을 단일층막 수준으로 균일하게 배열하는 방법에 관한 것이다. 또한, 이러한 다중 딥코팅 방법을 사용하여 기판에 균일한 배열을 가지는 양자점 클러스터 패턴을 형성하는 방법에 관한 것이다.
양자점, 나노입자, 다중 딥코팅, 흡착, 콜로이드 용액, 표면점유율, 다중양자점층 형성

公开(公告)号：KR1020040075116A

公开(公告)日：2004-08-27

申请号：KR1020030010546

申请日：2003-02-20

Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단

Inventor： 윤태식 ,  김기범

IPC: H01L29/15 ,  B82Y40/00

Abstract: PURPOSE: A method for arranging quantum dots using a multiple dip-coating process is provided to adhere a quantum dot cluster on a substrate by using an adhering characteristic of the quantum dots. CONSTITUTION: A dipping process is performed to dip a substrate into the colloid solution including quantum dots. A quantum dot adhesion process is performed to adhere the quantum dots on the substrate by dipping the substrate into the colloid solution including the quantum dots. A separation process is performed to separate the substrate from the colloid solution including quantum dots. The quantum dot adhesion process is performed by using the magnetic force or the electric force.

Abstract translation: 目的：提供一种使用多次浸涂法设置量子点的方法，通过使用量子点的粘附特性将量子点簇附着在基板上。 构成：进行浸渍处理以将基底浸入包括量子点的胶体溶液中。 通过将基板浸渍到包括量子点的胶体溶液中，进行量子点粘合处理以将量子点粘附在基板上。 进行分离处理以将基底与包括量子点的胶体溶液分离。 通过使用磁力或电力来进行量子点粘附处理。