셀프 플라즈마 챔버의 오염 억제 장치

    公开(公告)号:WO2019054635A1

    公开(公告)日:2019-03-21

    申请号:PCT/KR2018/008999

    申请日:2018-08-07

    Inventor: 차동호

    CPC classification number: H01J37/32798 H01L21/67028

    Abstract: 본 발명은 공정 챔버에서 이루어지는 증착작업을 모니터링하기 위해 구비되는 셀프 플라즈마 챔버의 오염을 억제하도록 함으로써 측정의 신뢰도를 높이도록 하기 위한 기술로서, 셀프 플라즈마 챔버에서 발생되는 플라즈마의 양전하가 음전극에 충돌하여 스퍼터링 현상으로 인해 발생되는 음전극 물질이 방전챔버로 유입되는 것을 방지할 수 있도록 하는 차폐수단이 마련되는 것을 특징으로 한다.

    순차적 사슬형태의 단일클래스 분류기를 이용한 공정이상검출 방법
    2.
    发明授权
    순차적 사슬형태의 단일클래스 분류기를 이용한 공정이상검출 방법 有权
    故障检测方法采用顺序一级分类器链

    公开(公告)号:KR100980603B1

    公开(公告)日:2010-09-07

    申请号:KR1020080008341

    申请日:2008-01-28

    CPC classification number: Y02P90/02

    Abstract: 본 발명은 순차적 사슬형태로 구성된 단일클래스 분류기를 이용하여 각종 산업용 설비의 공정 이상을 검출하는 방법으로서, 공정 진행 설비 내부의 상태를 모니터링 하는 센서 데이터를 사용하여, 특징 추출 알고리즘으로 데이터의 차원을 줄여 핵심 정보만을 뽑아내고 그 중 이상 공정 진단에 있어 중요한 역할을 하는 데이터를 선택한 후, 선택된 몇 그룹의 데이터를 각각 단일클래스 분류기 구성 알고리즘으로 학습하여 각 그룹별로 분류기를 구성한 뒤에 공정 진행 순서에 따라 시간적인 전후 관계를 고려하여 순차적으로 배치하여 사슬 형태의 공정이상 검출기를 구성한다.
    공정이상 검출, 단일클래스 분류기, 특징 추출

    순차적 사슬형태의 단일클래스 분류기를 이용한 공정이상검출 방법
    3.
    发明公开
    순차적 사슬형태의 단일클래스 분류기를 이용한 공정이상검출 방법 有权
    使用顺序一级分类器链的故障检测方法

    公开(公告)号:KR1020090082536A

    公开(公告)日:2009-07-31

    申请号:KR1020080008341

    申请日:2008-01-28

    Abstract: A fault detection method using sequential one class classifier chain is provided to detect an abnormality which is generated in a process by using a sensor data monitoring a process. A fault detection method using sequential one class classifier chain is comprised of the steps: a normal process of facility is monitored by a learning preprocess phase of sensor data(ST110); a learning feature extraction step reduces the dimension of the pre-processed sensor data as described above(ST120); The critical data group selection stage is provided selection toward data of the importance group(ST130); and after leaning is performed by a selected data group and a classification unit is configured in a detailed classification constitutional state(ST140).

    Abstract translation: 提供一种使用顺序一类分类器链的故障检测方法,以通过使用监视处理的传感器数据来检测在过程中产生的异常。 使用顺序一类分类器链的故障检测方法包括以下步骤:通过传感器数据的学习预处理阶段监视设备的正常过程(ST110); 如上所述,学习特征提取步骤减小预处理的传感器数据的尺寸(ST120); 提供关键数据组选择阶段对重要组数据的选择(ST130); 并且在通过选择的数据组执行倾斜之后,并且在详细分类结构状态中配置分类单元(ST140)。

    다채널 감지 신호의 시분할 처리가 가능한 공정 이상 모니터링 장치
    4.
    发明授权
    다채널 감지 신호의 시분할 처리가 가능한 공정 이상 모니터링 장치 有权
    用于检测多通道信号的时分处理能力的过程故障检测装置

    公开(公告)号:KR101585624B1

    公开(公告)日:2016-01-14

    申请号:KR1020090002664

    申请日:2009-01-13

    Inventor: 차동호

    Abstract: 본발명은다수의공정챔버들로부터다수의감지신호를수신하는다채널신호의시분할처리가능한공정이상모니터링장치에관한것으로, 다수의챔버각각에연결되는광로를통해수신된다수의광신호들중 하나를선택하는스위칭부; 상기선택된광신호를파장영역별로분리하여방출강도를측정하는분광기; 및상기분광기에서의측정결과에기초하여상기챔버내에서의공정이상여부를모니터링하는모니터링부를포함하는제어부;를포함하는것을특징으로한다. 상기와같은구성에의한본 발명에의하면, 다수의공정챔버에서공정가스의종류및 변화에따른가스들의농도를실시간으로감지하여시분할처리가가능하므로공정이상을감지할수 있을뿐만아니라, 종래의다채널구성시다수의분광기로구현이가능하던기능을하나의분광기만으로구현할수 있는효과가있다.

    반도체 공정용 윈도우 오염 지연 장치
    5.
    发明授权
    반도체 공정용 윈도우 오염 지연 장치 有权
    用于半导体工艺的窗口污染延迟装置

    公开(公告)号:KR101410296B1

    公开(公告)日:2014-06-20

    申请号:KR1020130042629

    申请日:2013-04-18

    Inventor: 차동호

    Abstract: The present invention relates to an apparatus for delaying the contamination of a window for a semiconductor process. The present invention relates to an apparatus for suppressing the contamination of the window installed in a process chamber for the semiconductor process, which includes: a coupling flange formed at a path side to which an energy source of the process chamber is supplied or in a self-plasma chamber for monitoring the process progress, and including a hollow portion; a moving window tightly coupled to an outside of the coupling flange, and movably formed to continuously provide a region which is not contaminated to the hollow portion; a tight coupling portion for tightly coupling the moving window to the process chamber; a driver for controlling the movement of the moving window; an auxiliary chamber formed at one side of the process chamber, and including the moving window, the tight coupling portion, and the driver, for maintaining a vacuum state of the process chamber; and a fixed window formed in the auxiliary chamber on the same path of the moving window. Therefore, a semiconductor substrate and a thin film having high quality can be provided by increasing a process yield rate and improving process reproduction and reliability, through maximally delaying the contamination of the window and extending the replacing and cleaning period of the window for minimizing the inconvenience of the process progress.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于延迟用于半导体工艺的窗的污染的装置。 本发明涉及一种用于抑制安装在用于半导体工艺的处理室中的窗户的污染的装置,其包括:形成在处理室的能量源的自由端的路径侧上的联接凸缘 - 等离子体室,用于监测过程进展,并包括中空部分; 紧密地联接到联接器凸缘的外部的移动窗口,并且可移动地形成为连续地提供未被中空部分污染的区域; 用于将移动窗口紧密地联接到处理室的紧密联接部分; 用于控制移动窗口的移动的驱动器; 辅助室,形成在处理室的一侧,并且包括移动窗口,紧密联接部分和驱动器,用于保持处理室的真空状态; 以及在移动窗口的相同路径上形成在辅助室中的固定窗口。 因此,通过最大限度地延迟窗户的污染并延长窗户的更换和清洁周期,以最大限度地减少不便,可以提高高品质的半导体衬底和薄膜,从而通过提高工艺成品率和提高工艺再现性和可靠性 的进程进度。

    습식공정 모니터링 장치 및 모니터링 방법
    6.
    发明授权
    습식공정 모니터링 장치 및 모니터링 방법 有权
    湿法过程监测装置,用于检测故障,湿法监测方法

    公开(公告)号:KR101345105B1

    公开(公告)日:2013-12-26

    申请号:KR1020080004974

    申请日:2008-01-16

    Inventor: 차동호

    Abstract: 광센서를이용한센서부를마련하여, 상기센서부를유리기판위를흐르는식각액의유막에떠있도록설치한습식공정모니터링장치및 방법에관한것이다. 본발명의습식공정이상여부를검출하는습식공정모니터링장치는, 표면장력을이용하여식각액의유막에위치하는센서부및 상기센서부를지지하는웨이트발란서와센서부지지장치를포함하는것을특징으로한다. 본발명에따르면, 광센서를습식식각장비내부의상단이아닌, 유리기판과가까운장비의측면에센서부지지장치를이용하여장착하고센서부가유막에표면장력을이용하여떠있도록하기때문에, 식각액의표면에나타나는불균일한유막에빛이산란되어발생하는측정치의오차를사전에방지할수 있고데이터의신뢰도, 정확도가향상되는효과가있다.

    엣지 크랙 검출 기능이 포함된 웨이퍼 플랫 존 얼라이너 및 그 구동 방법
    7.
    发明公开
    엣지 크랙 검출 기능이 포함된 웨이퍼 플랫 존 얼라이너 및 그 구동 방법 无效
    包括边缘裂纹检测器的功能的波形平面对准器及其操作方法

    公开(公告)号:KR1020100131275A

    公开(公告)日:2010-12-15

    申请号:KR1020090050082

    申请日:2009-06-05

    Inventor: 차동호 남윤석

    Abstract: PURPOSE: A wafer flat zone aligner including an edge crack detecting function and a driving method of the same are provided to simultaneously perform a flat zone align operation and an edge crack detecting operation by splitting one laser using a beam splitter. CONSTITUTION: A beam splitter(4) splits laser from laser source into two lasers. A first optical system(2) horizontally radiates first laser split from the beam splitter to the surface of a wafer along a first path. A second optical system(3) radiates second laser split from the beam splitter to the surface of the wafer along a second path. A first optical sensor(9) detects a first laser transmitted through the float zone of the wafer. A second optical sensor(14) detects the second laser transmitted through the edge crack of the wafer.

    Abstract translation: 目的:提供包括边缘裂纹检测功能的晶片平面区域对准器及其驱动方法,以通过使用分束器分割一个激光器来同时执行平坦区域对准操作和边缘裂纹检测操作。 构成:分束器(4)将来自激光源的激光器分成两个激光器。 第一光学系统(2)沿着第一路径水平地辐射从分束器到晶片表面的第一激光器分裂。 第二光学系统(3)沿着第二路径从分束器将第二激光器分裂辐射到晶片的表面。 第一光学传感器(9)检测透过晶片的浮动区域的第一激光器。 第二光学传感器(14)检测通过晶片的边缘裂纹传输的第二激光器。

    셀프 플라즈마 챔버의 오염 억제 장치

    公开(公告)号:KR101931324B1

    公开(公告)日:2018-12-20

    申请号:KR1020170117900

    申请日:2017-09-14

    Inventor: 차동호

    Abstract: 본 발명은 공정 챔버에서 이루어지는 증착작업을 모니터링하기 위해 구비되는 셀프 플라즈마 챔버의 오염을 억제하도록 함으로써 측정의 신뢰도를 높이도록 하기 위한 기술로서, 셀프 플라즈마 챔버에서 발생되는 플라즈마의 양전하가 음전극에 충돌하여 스퍼터링 현상으로 인해 발생되는 음전극 물질이 방전챔버로 유입되는 것을 방지할 수 있도록 하는 차폐수단이 마련되는 것을 특징으로 한다.

    유리기판 에지부의 결함유무 검출을 위한 장치 및 방법
    9.
    发明授权
    유리기판 에지부의 결함유무 검출을 위한 장치 및 방법 有权
    用于检测玻璃板边缘缺陷的装置及其方法

    公开(公告)号:KR101278249B1

    公开(公告)日:2013-06-24

    申请号:KR1020110052545

    申请日:2011-06-01

    Inventor: 차동호

    Abstract: 본 발명은 레이저 광선을 유리기판에 넓은 폭으로 확대조사하여 투과한 레이저 광선을 빔 스플리터로 반으로 분할하여, 나누어진 광선의 양에 따라서 결함유무을 검출하거나, 렌즈 어레이를 사용하여 변환값의 유무에 따라 결함 유무를 검출하는 장치에 관한 것으로, 액정디스플레이 유리기판, 유리기판의 에지(edge)부 상면과 각을 이루며 구비되고, 에지(edge)부에 레이저를 조사하는 광유닛, 유리기판과 상기 광유닛 사이에 구비되어, 레이저 광선을 넓은 폭으로 확대하는 제 1 콜리메이터(collimator), 제 1 콜리메이터(collimator)(201)와 유리기판 사이에 구비되어, 광유닛에서 조사되는 레이저 광선을 발산시키는 원기둥렌즈(cylindrical lens), 유리기판의 에지(edge)부 하면에 상기 광유닛에서 조사된 레이저와 동일한 광축상에 위치하며, 유리기판에서 투과되는 레 이저 광선을 모으는 제 2 콜리메이터, 제 2 콜리메이터(collimator) 하부에 구비되고 광유닛에서 조사된 레이저와 동일한 광축상에 위치하며, 제 1 콜리메이터(collimator)부터 유리기판과 제 2 콜리메이터(collimator)를 투과한 상기 레이저 광선을 분할하는 빔 스플리터(beam splitter), 제 1 콜리메이터(collimator)부터 유리기판과 제 2 콜리메이터(collimator)를 투과하고 빔 스플리터(beam splitter)에 의해 분할된 레이저 광선의 투과량을 측정하기 위한 제 1 광센서, 제 1 광센서에서 측정된 상기 투과량을 증폭하는 제 1 증폭기, 제 1 증폭기를 통해 증폭된 아날로그 전기 신호를 디지털 값으로 변환해주는 제 1 A/D 변환기, 제 1 콜리메이터(collimator)부터 유리기판과 제 2 콜리메이터(collimator)를 투과하고 빔 스플리터(beam splitter)에 의해 분할되어 반사된 레이저 광선의 투과량을 측� ��하기 위한 제 2 광센서, 제 2 광센서에서 측정된 투과량을 증폭하는 제 2 증폭서, 제 2 증폭기를 통해 증폭된 아날로그 전기 신호를 디지털 값으로 변환해주는 제 2 A/D 변환기, 제 1 A/D 변환기(307)와 제 2 A/D 변환기(308) 값의 차이를 통해 결함 유무를 검출하는 제어부(313)을 포함하는 것을 특징으로 한다.
    또한, 유리기판 에지부의 결함 유무를 검출을 위한 방법은, 유리기판을 준비하는 단계, 광유닛에서 레이저 광선을 조사하는 단계, 조사된 레이저 광선을 제 1 광센서, 제 2 광센서로 감지하는 단계, 감지된 레이저 광선이 제 1 증폭기, 제 2 증폭기를 통해 증폭되는 단계, 증폭된 아날로그 전기신호를 제 1 A/D 변환기, 제 2 A/D 변환기를 통해 디지털 값으로 변환하는 단계, 제 1 A/D 변환기, 제 2 A/D 변환기를 통해 디지털 값으로 변환된 값을 비교하여 결함 유무를 검출하는 단계를 거쳐 이루어지는 유리기판 에지부의 결함유무 검출을 위한 방법이다.

    분광기
    10.
    发明公开
    분광기 无效
    光谱仪

    公开(公告)号:KR1020150145783A

    公开(公告)日:2015-12-31

    申请号:KR1020140074909

    申请日:2014-06-19

    Abstract: 본발명에따른분광기는광원, 상기광원으로부터방사되는광을분광기내부로입사시키는슬릿을포함하는광입사부, 상기광입사부를통해입사되는광의광경로를형성하고분광시키는광학계, 상기광학계에의해분광된광을감지하는광 센서및 냉각부를포함하고, 상기광학계및 CCD 센서를내부에보유하는하우징과상기하우징의상부에배치되어상기하우징을기밀되도록밀폐하는커버를포함한다. 상기분광기는상기하우징과상기커버사이에배치되는오링과상기하우징또는상기커버에형성되어상기오링이안착되는홈을더 포함한다.

    Abstract translation: 根据本发明的光谱仪包括:光源; 光源单元,包括用于将从光源发射的光馈送到光谱仪中的狭缝; 光学系统,用于形成用于通过所述光进给单元馈送的光的光通路,并分割光; 用于感测由光学系统分割的光的光传感器; 和冷却单元。 光谱仪包括:具有光学系统的壳体和其中的CCD传感器; 以及设置在所述壳体上并盖住所述壳体的盖。 光谱仪还包括:设置在壳体和盖之间的O形环; 以及形成在壳体或盖中的凹槽,使得O形环安放在其上。

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