公开(公告)号：KR1020090060833A

公开(公告)日：2009-06-15

申请号：KR1020070127774

申请日：2007-12-10

Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단 ,  주식회사 코렌텍

Inventor： 김현이 ,  선두훈 ,  김용식 ,  한철민

IPC: A61F2/28 ,  A61C8/00

CPC classification number: A61F2/28 ,  A61L27/04 ,  A61L27/045 ,  A61L27/06 ,  A61L27/12 ,  C23C4/06 ,  C23C14/30

Abstract: An implant material by the anodizing and manufacturing method thereof are provided, which obtain biocompatibility, chemical compatibility, and mechanical compatibility. An implant material manufacturing method by anodizing comprises: a step of coating the implant surface in the electron-beam evaporation process which can be anodic oxidized in the surface of the implant base material; and a step that dips the implant surface in electrolyte and anodizes the implant surface. The implant base material is made of titanium, ti-alloy, stainless steel, or the Co-CR alloy.

Abstract translation: 提供通过阳极氧化及其制造方法的植入材料，其获得生物相容性，化学相容性和机械相容性。 通过阳极氧化的植入材料制造方法包括：在电子束蒸发过程中涂覆植入物表面的步骤，其可以在植入物基材的表面中被阳极氧化; 以及在电解质中浸渍植入物表面并阳极氧化植入物表面的步骤。 植入物基材由钛，钛合金，不锈钢或Co-CR合金制成。

公开(公告)号：KR100953959B1

公开(公告)日：2010-04-21

申请号：KR1020070127774

申请日：2007-12-10

Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단 ,  주식회사 코렌텍

Inventor： 김현이 ,  선두훈 ,  김용식 ,  한철민

IPC: A61F2/28 ,  A61C8/00

Abstract: 본 발명에 따른 양극산화법에 의한 임플란트재료 및 그 제조방법이 개시된다.
본 발명에 따르는 양극산화법에 의한 임플란트재료 및 그 제조방법은 임플란트모재의 표면에 양극산화될 수 있는 전자빔증착공정으로 임플란트표면재를 코팅하는 단계 및 상기 임플란트표면재를 전해액에 침지하여 양극산화시키는 단계를 포함하는데, 이에 의할 때 인체의 다양한 부위에 이식되어 우수한 생체 친화성(biocompatibility), 화학적 적합성(chemicalcompatibility) 및 기계적 적합성(mechanical compatibility)을 가지는 임플란트재료를 제공하는 효과가 있다.
임플란트, 전자빔증착