公开(公告)号：KR1020060018753A

公开(公告)日：2006-03-02

申请号：KR1020040067270

申请日：2004-08-25

Applicant: 전남대학교산학협력단

Inventor： 조동련 ,  민호 ,  김병훈 ,  김종호

IPC: C01G23/04

Abstract: 본 발명에 따르면, 산화티타늄 박막은 증착대상물의 일측 상면에 APCVD(Atmosphere Pressure CVD), LPCVD(Low Pressure CVD), PECVD(Plasma Enhanced CVD)법 중 선택된 하나 이상의 공정에 의해 광촉매 물질이 코팅되는 것으로, 상기 CVD법을 적용하면 불순물이 제거된 양질의 박막을 얻을 수 있으며, 넓은 면적에 박막을 균일하게 증착시킬 수 있고, 저온에서도 박막을 증착시킬 수 있는 효과가 있다.
본 발명에 따른 산화티타늄 박막의 제조방법은 증착대상물을 진공챔버에 장착하는 장착단계와, 광촉매 막을 형성하는 물질을 포함하는 유기티탄화합물과 이송 가스 및 산화제 가스를 혼합한 기체상태의 화합물을 기상반응을 일으킬 수 있도록 상기 진공챔버에 공급하는 공급단계와, 상기 기체상태의 화합물의 플라즈마 반응에 의해 상기 증착대상물의 표면에 광촉매 코팅막을 형성하는 박막형성단계를 포함한다.
산화티타늄, 박막, 증착대상물

公开(公告)号：KR100665346B1

公开(公告)日：2007-01-04

申请号：KR1020040067270

申请日：2004-08-25

Applicant: 전남대학교산학협력단

Inventor： 조동련 ,  민호 ,  김병훈 ,  김종호

IPC: C01G23/04

Abstract: 본 발명에 따르면, 산화티타늄 박막은 증착대상물의 일측 상면에 APCVD(Atmosphere Pressure CVD), LPCVD(Low Pressure CVD), PECVD(Plasma Enhanced CVD)법 중 선택된 하나 이상의 공정에 의해 광촉매 물질이 코팅되는 것으로, 상기 CVD법을 적용하면 불순물이 제거된 양질의 박막을 얻을 수 있으며, 넓은 면적에 박막을 균일하게 증착시킬 수 있고, 저온에서도 박막을 증착시킬 수 있는 효과가 있다.
본 발명에 따른 산화티타늄 박막의 제조방법은 증착대상물을 진공챔버에 장착하는 장착단계와, 광촉매 막을 형성하는 물질을 포함하는 유기티탄화합물과 이송 가스 및 산화제 가스를 혼합한 기체상태의 화합물을 기상반응을 일으킬 수 있도록 상기 진공챔버에 공급하는 공급단계와, 상기 기체상태의 화합물의 플라즈마 반응에 의해 상기 증착대상물의 표면에 광촉매 코팅막을 형성하는 박막형성단계를 포함한다.
산화티타늄, 박막, 증착대상물

公开(公告)号：KR1020060120561A

公开(公告)日：2006-11-27

申请号：KR1020060111273

申请日：2006-11-10

Applicant: 전남대학교산학협력단

Inventor： 조동련 ,  민호 ,  김병훈 ,  김종호

IPC: C01G23/04

Abstract: A method for preparing a titanium oxide thin film is provide to allow uniform deposition of a high-quality thin film free from impurities on a large area, and to perform the deposition at a low temperature. The titanium oxide thin film is obtained by depositing a photocatalyst substance onto a top surface of an object to be deposited via any one process selected from the group consisting of APCVD, LPCVD, and PECVD. The photocatalyst substance is formed from a starting material including an organic titanium compound such as titanium tetraisopropoxide. The titanium oxide thin film is prepared by the method comprising the steps of: mounting an object to be deposited in a vacuum chamber; supplying a gaseous mixture containing an organic titanium compound including a material capable of forming a photocatalyst film, a carrier gas and an oxidant gas to the vacuum chamber; and forming a thin film on the surface of the object via plasma reaction of the gaseous mixture.

Abstract translation: 提供了一种制备氧化钛薄膜的方法，以便在大面积上均匀沉积不含杂质的高质量薄膜，并在低温下进行沉积。 通过从APCVD，LPCVD和PECVD组成的组中选择的任一种工艺将光催化剂物质沉积到待沉积物体的顶表面上，获得氧化钛薄膜。 光催化剂物质由包括四异丙醇钛等有机钛化合物的原料形成。 氧化钛薄膜通过以下方法制备：包括以下步骤：将要沉积的物体安装在真空室中; 向真空室供给含有能够形成光催化剂膜，载气和氧化剂气体的有机钛化合物的气态混合物; 以及通过气体混合物的等离子体反应在物体的表面上形成薄膜。