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公开(公告)号：KR101699943B1
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：KR1020150158270
申请日：2015-11-11
Applicant: 전남대학교산학협력단
Abstract: 본발명은 3차원박막다공질구조체및 그제조방법에관한것이다. 상기구조체는, 박막형셀이 3차원공간상에서규칙적으로배열되어연결된구조로이루어지고, 상기박막형셀의표면은균일평균곡률을갖는곡면인것을특징으로한다. 이러한구조체는, 템플릿을제조하는단계; 상기템플릿의외부에박막을형성하는단계; 상기박막의일부를제거하여템플릿의일부를노출시키는단계; 및상기템플릿을제거하는단계를포함하고, 상기템플릿은단위셀이액상물질로충진되어고형화된트러스형태의 3차원경량구조체이고, 상기액상물질의표면장력과액상물질과트러스요소사이의분자간력이균형을이루어충진된액상물질의곡면이균일평균곡률을갖도록제어되는것을특징으로한다. 본발명은, 조기국부좌굴현상및 응력집중이억제되어높은강도와강성을갖는 3차원박막다공질구조체를제공할수 있으며, 와이어직조에기반하여제작된 3차원경량구조체를템플릿으로하여제작됨으로써대량으로생산하기에적합하다.
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公开(公告)号：KR101612500B1
公开(公告)日：2016-04-15
申请号：KR1020140092138
申请日：2014-07-21
Applicant: 전남대학교산학협력단
Abstract: 본발명은 (a) 다수의구슬을서로접촉시켜배치하는단계와, (b) 상기구슬을서로연결하는단계와, (c) 상기구슬의표면에박막을형성하는단계와, (d) 상기박막의일부를제거하는단계및 (e) 상기박막의내부물질을제거하는단계를포함하여극저밀도 3차원박막구조체를저렴한비용으로대형화및 대량생산할수 있는구슬을이용한극저밀도 3차원박막구조체의제조방법을제공한다.
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公开(公告)号：KR1020160011323A
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：KR1020140092138
申请日：2014-07-21
Applicant: 전남대학교산학협력단
CPC classification number: B22F3/1115 , H01L21/0274
Abstract: 본발명은 (a) 다수의구슬을서로접촉시켜배치하는단계와, (b) 상기구슬을서로연결하는단계와, (c) 상기구슬의표면에박막을형성하는단계와, (d) 상기박막의일부를제거하는단계및 (e) 상기박막의내부물질을제거하는단계를포함하여극저밀도 3차원박막구조체를저렴한비용으로대형화및 대량생산할수 있는구슬을이용한극저밀도 3차원박막구조체의제조방법을제공한다.
Abstract translation: 本发明提供一种使用珠粒制造超低密度三维薄膜结构的方法，其可以以低成本实现超低密度立体薄膜结构的大规模生产和批量生产，包括以下步骤： （a）通过使珠子彼此接触而布置多个珠粒; （b）将珠子彼此连接; （c）在珠的表面上形成薄膜; （d）去除薄膜的一部分; 和（e）去除薄膜的内部材料。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101840030B1
公开(公告)日：2018-03-19
申请号：KR1020160141245
申请日：2016-10-27
Applicant: 전남대학교산학협력단
CPC classification number: G03F7/0002 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/26
Abstract: 본발명은광리소그래피에기초한극저밀도 3차원박막구조체의제조방법에관한것이다. 상기제조방법은, 액상감광성수지에대해소정패턴으로자외선을조사경화하여제조되는감광성수지템플릿을이용하여상기감광성수지템플릿제거후 잔존하는고체박막으로이루어지며중공단위셀이상호연결되어반복적으로형성된구조를갖는 3차원박막구조체를제조하는방법으로서, 금속박막형성시감광성수지재질의템플릿을다른재질의역상템플릿으로대체하는방법으로세라믹박막형성시박막의양면에피복층을형성하는방법으로종래템플릿또는박막의손상되는문제를효과적으로해결함으로써우수한품질의금속또는세라믹재질의 3차원박막구조체를제조할수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及基于光刻的制造极低密度三维薄膜结构的方法。 上述制造方法包括这样一种结构，其中通过对液体光敏树脂照射具有预定图案的紫外线而制备的光敏树脂模板被用于形成在光敏树脂模板被移除之后剩余的固体薄膜， 一种通过用另一种材料的反相模板替换金属薄膜型感光树脂材料的模板而在陶瓷薄膜型薄膜的两个表面上形成涂层的方法， 通过有效地解决问题，可以制造具有优异质量的金属或陶瓷材料的三维薄膜结构。
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公开(公告)号：KR101576942B1
公开(公告)日：2015-12-22
申请号：KR1020140032162
申请日：2014-03-19
Applicant: 전남대학교산학협력단
IPC: G03F7/20
Abstract: 본발명은극저밀도 3차원박막구조체제조용리소그래피장치에관한것이다. 상기장치는, 판형베이스; 상기베이스의상부에위치하는광 조사유닛; 상기광 조사유닛을베이스에연결하는서포트유닛; 및상기베이스상면에설치되며, 감광성수지저장용기가장착된리시버유닛을포함하는것을특징으로하며, 리소그래피공정을간단하면서도정밀하게수행함으로써 3차원박막구조체의제조효율성및 안정성을도모할수 있다.
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公开(公告)号：KR101905483B1
公开(公告)日：2018-10-08
申请号：KR1020160117381
申请日：2016-09-12
Applicant: 전남대학교산학협력단
IPC: B29C33/38 , C25D1/00 , C23C18/16 , C04B38/00 , B29K105/04
Abstract: 본발명은구슬로배열된 3차원구조체의제조방법및 이를희생구조체로한 3차원박막다공질구조체의제조방법에관한것이다. 상기 3차원구조체제조방법은, 소정패턴으로다수의구슬을접촉시켜배치한후 상기구슬의접촉부를연결하는방식으로수행되며, 상기구슬의접촉부에대한연결은, (a) 구슬자체의전체표면을부분용해하여고점도유동성물질을형성하는단계; (b) 상기유동성물질의일부가모세관현상에의해구슬의접촉부로침투되어필렛을형성하는단계; 및 (c) 상기유동성물질을경화시키는단계;를포함하며, 상기 3차원구조체의표면은 3주기적최소곡면또는이와유사한형태로형성되는것을특징으로한다. 상기 3차원박막다공질구조체제조방법은, 상기 3차원구조체를템플릿희생구조체로하여, 템플릿의외면에박막형성하고그 일부를제거한후 템플릿을제거하는방식으로수행될수 있으며, 상기박막의곡면은 3주기적최소곡면형태로형성되는것을특징으로한다.
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公开(公告)号：KR101707138B1
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：KR1020150148894
申请日：2015-10-26
Applicant: 전남대학교산학협력단
IPC: G03F7/26 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 본발명은광 리소그래피를이용한 3차원박막구조체및 그제조방법에관한것이다. 상기구조체는, 마이크로격자형태의심재와시트형태의면재가상기심재의상하면 쌍에일체로형성되며, 상기심재는중공격자형의경질박막으로상기면재는단일의경질박막으로이루어진것을특징으로하고, (a) 액상감광성수지에대해면외방향에서소정패턴에따라자외선을조사한후 잔여의액상감광성수지를제거하여마이크로격자형태의고상수지구조체를형성하는단계; (b) 상기고상수지구조체의대향되는상하면 쌍에고상수지면재를형성하여일체로고상수지샌드위치구조체를형성하는단계; (c) 상기고상수지샌드위치구조체의표면에경질박막을형성하는단계; 및 (d) 상기경질박막의일부를제거하여내부의고상수지를노출시킨후 제거하는단계;를통해제조된다. 본발명에따른극저밀도 3차원박막샌드위치구조체는, 중공격자를갖는구조체의최외면에박막의판이구비되어중량대비높은강도와강성을가지며, 종래마이크로격자(microlattice) 제조방법을개량보완함으로써제품크기의대형화및 대량생산성에있어유리하다.
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公开(公告)号：KR1020150109521A
公开(公告)日：2015-10-02
申请号：KR1020140032162
申请日：2014-03-19
Applicant: 전남대학교산학협력단
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 본발명은극저밀도 3차원박막구조체제조용리소그래피장치에관한것이다. 상기장치는, 판형베이스; 상기베이스의상부에위치하는광 조사유닛; 상기광 조사유닛을베이스에연결하는서포트유닛; 및상기베이스상면에설치되며, 감광성수지저장용기가장착된리시버유닛을포함하는것을특징으로하며, 리소그래피공정을간단하면서도정밀하게수행함으로써 3차원박막구조체의제조효율성및 안정성을도모할수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及用于制造超低密度三维薄膜结构的光刻装置。 该装置包括：板式基座; 放置在基座的上部的光辐射单元; 支撑单元，其中所述光辐射单元连接到所述基座; 以及安装在基座的上表面并具有光敏树脂储存容器的接收器单元，因此通过简单且准确地进行光刻工艺，可以提高三维薄膜结构的制造中的效率和稳定性。
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