公开(公告)号：KR100464552B1

公开(公告)日：2005-02-02

申请号：KR1020020014519

申请日：2002-03-18

Applicant: 전남대학교산학협력단

Inventor： 임기건 ,  정경갑 ,  김민이

IPC: G02B6/02

Abstract: PURPOSE: A method for fabricating planar optical waveguide element using optical sensitivity is provided to enhance the efficiency in a light transmission process by simplifying a process for forming a waveguide layer. CONSTITUTION: A lower clad layer(200) is formed on an upper face of a silicon substrate(100) or a silica substrate or an alumina substrate. A core layer(400) including Ge or Ge, Er, Yb, and Nb is formed on an upper face of the lower clad layer(200). An upper clad layer(500) is formed on an upper face of the core layer(400). A hydrogen process for a waveguide stacked layer including the upper clad layer(500) is performed to increase the optical sensitivity between Ge and ultra-violet ray. A photo mask(600) is deposited on an upper face of the upper clad layer(500). An optical waveguide(401) is formed by irradiating the ultra-violet laser beam thereon.

Abstract translation: 目的：提供一种使用光学灵敏度制造平面光波导元件的方法，以通过简化形成波导层的工艺来提高光传输过程中的效率。 构成：在硅衬底（100）或二氧化硅衬底或氧化铝衬底的上表面上形成下包层（200）。 包括Ge或Ge，Er，Yb和Nb的芯层（400）形成在下部覆层（200）的上表面上。 上包层（500）形成在芯层（400）的上表面上。 执行包括上包覆层（500）的用于波导堆叠层的氢处理以增加Ge与紫外线之间的光学灵敏度。 光掩模（600）沉积在上包覆层（500）的上表面上。 光波导（401）通过在其上照射紫外激光束而形成。

公开(公告)号：KR1020030075350A

公开(公告)日：2003-09-26

申请号：KR1020020014519

申请日：2002-03-18

Applicant: 전남대학교산학협력단

Inventor： 임기건 ,  정경갑 ,  김민이

IPC: G02B6/02

Abstract: PURPOSE: A method for fabricating planar optical waveguide element using optical sensitivity is provided to enhance the efficiency in a light transmission process by simplifying a process for forming a waveguide layer. CONSTITUTION: A lower clad layer(200) is formed on an upper face of a silicon substrate(100) or a silica substrate or an alumina substrate. A core layer(400) including Ge or Ge, Er, Yb, and Nb is formed on an upper face of the lower clad layer(200). An upper clad layer(500) is formed on an upper face of the core layer(400). A hydrogen process for a waveguide stacked layer including the upper clad layer(500) is performed to increase the optical sensitivity between Ge and ultra-violet ray. A photo mask(600) is deposited on an upper face of the upper clad layer(500). An optical waveguide(401) is formed by irradiating the ultra-violet laser beam thereon.

Abstract translation: 目的：提供一种使用光学灵敏度制造平面光波导元件的方法，通过简化形成波导层的工艺来提高光透射过程中的效率。 构成：在硅衬底（100）或二氧化硅衬底或氧化铝衬底的上表面上形成下覆盖层（200）。 包含Ge或Ge，Er，Yb和Nb的芯层（400）形成在下包层（200）的上表面上。 在芯层（400）的上表面上形成有上覆盖层（500）。 执行包括上覆层（500）的波导叠层的氢处理，以增加Ge和紫外线之间的光学灵敏度。 光掩模（600）沉积在上包层（500）的上表面上。 通过在其上照射紫外激光束来形成光波导（401）。