公开(公告)号：KR1020130141809A

公开(公告)日：2013-12-27

申请号：KR1020120064797

申请日：2012-06-18

Applicant: 전남대학교산학협력단 ,  제이엘씨(주)

Inventor： 김진혁 ,  김태언 ,  김선훈 ,  기현철 ,  김두근 ,  강명길 ,  정성태

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/0275 ,  B82B1/001 ,  B82B3/0019 ,  H01L21/32133 ,  H05K1/092

Abstract: The present invention relates to a flexible substrate with a nanopattern and a manufacturing method thereof. The method for manufacturing the flexible substrate with the nanopattern according to the present invention includes the steps of: forming a zinc oxide buffer layer on the flexible substrate; manufacturing a zinc oxide nanostructure on the zinc oxide buffer layer; performing a first etching process on the zinc oxide buffer layer; performing a second etching process on the flexible substrate by using the zinc oxide nanostructure as a mask; and performing a third etching process on the zinc oxide buffer layer and the zinc oxide nanostructure. Therefore, the flexible substrate on which the nanopattern is directly formed is obtained. [Reference numerals] (AA) Start;(BB) End;(S11) Form a zinc oxide buffer layer on the flexible substrate;(S12) Manufacture a zinc oxide nanostructure on the zinc oxide buffer layer;(S13) Perform a first etching process on the zinc oxide buffer layer;(S14) Perform a second etching process on the flexible substrate by using the zinc oxide nanostructure as a mask;(S15) Perform a third etching process on the zinc oxide buffer layer and the zinc oxide nanostructure;(S16) Obtain a flexible substrate with nanopatterns

Abstract translation: 本发明涉及具有纳米图案的柔性基板及其制造方法。 根据本发明的具有纳米图案的柔性基板的制造方法包括以下步骤：在柔性基板上形成氧化锌缓冲层; 在氧化锌缓冲层上制造氧化锌纳米结构; 对氧化锌缓冲层进行第一蚀刻工艺; 通过使用氧化锌纳米结构作为掩模在柔性基板上进行第二蚀刻工艺; 对氧化锌缓冲层和氧化锌纳米结构进行第三蚀刻处理。 因此，获得了直接形成纳米图案的柔性基板。 （AA）开始;（BB）结束;（S11）在柔性基板上形成氧化锌缓冲层;（S12）在氧化锌缓冲层上制造氧化锌纳米结构体;（S13）进行第一蚀刻 （S14）通过使用氧化锌纳米结构作为掩模对柔性基板进行第二蚀刻处理（S15）对氧化锌缓冲层和氧化锌纳米结构进行第三蚀刻处理; （S16）用纳米图案获得柔性基板

公开(公告)号：KR101417753B1

公开(公告)日：2014-07-14

申请号：KR1020120064797

申请日：2012-06-18

Applicant: 전남대학교산학협력단 ,  제이엘씨(주)

Inventor： 김진혁 ,  김태언 ,  김선훈 ,  기현철 ,  김두근 ,  강명길 ,  정성태

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02

Abstract: 본 발명은 나노패턴이 형성된 플렉서블 기판 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 나노패턴을 갖는 플렉서블 기판의 제조방법은, 플렉서블 기판 상에 산화아연 버퍼층을 형성하는 단계와; 상기 산화아연 버퍼층 상에 산화아연 나노구조물을 제작하는 단계와; 상기 산화아연 버퍼층에 대하여 제1차 에칭을 수행하는 단계와; 상기 산화아연 나노구조물을 마스크로 이용하여 상기 플렉서블 기판에 대하여 제2차 에칭을 수행하는 단계와; 상기 산화아연 버퍼층 및 상기 산화아연 나노구조물에 대하여 제3차 에칭을 수행하는 단계를 포함한다. 이에 의하여 나노패턴이 직접 형성된 플렉서블 기판을 획득할 수 있다.