公开(公告)号：KR1020040048564A

公开(公告)日：2004-06-10

申请号：KR1020020076460

申请日：2002-12-04

Applicant: 전자부품연구원

Inventor： 양우석 ,  이한영 ,  이상구 ,  구경환

IPC: G02B6/13

Abstract: PURPOSE: A PMN-PT(Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-PbTiO3) optical waveguide using a thermal diffusion method and a fabricating method thereof provided to simplify a fabrication process by diffusing a metal layer on a PMN-PT single crystal. CONSTITUTION: A metal layer(22) is deposited on a PMN-PT substrate(21). A photoresist layer(23) is formed on the metal layer. The photoresist layer is hardened by using an oven. A photoresist layer pattern(23a) is formed by exposing and developing the photoresist layer. A waveguide pattern(22a) is formed by etching the metal layer. The photoresist layer pattern is removed by using acetone or a photoresist stripper. An optical waveguide(10) is formed within a furnace.

Abstract translation: 目的：提供使用热扩散法的PMN-PT（Pb（Mg1 / 3Nb2 / 3）O3-PbTiO3）光波导及其制造方法，以通过在PMN-PT单晶上扩散金属层来简化制造工艺。 构成：金属层（22）沉积在PMN-PT衬底（21）上。 在金属层上形成光致抗蚀剂层（23）。 光致抗蚀剂层通过烘箱硬化。 通过曝光和显影光致抗蚀剂层形成光致抗蚀剂层图案（23a）。 通过蚀刻金属层形成波导图案（22a）。 通过使用丙酮或光致抗蚀剂剥离剂除去光致抗蚀剂层图案。 在炉内形成光波导（10）。

公开(公告)号：KR100439960B1

公开(公告)日：2004-07-12

申请号：KR1020020076460

申请日：2002-12-04

Applicant: 전자부품연구원

Inventor： 양우석 ,  이한영 ,  이상구 ,  구경환

IPC: G02B6/13

Abstract: PURPOSE: A PMN-PT(Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-PbTiO3) optical waveguide using a thermal diffusion method and a fabricating method thereof provided to simplify a fabrication process by diffusing a metal layer on a PMN-PT single crystal. CONSTITUTION: A metal layer(22) is deposited on a PMN-PT substrate(21). A photoresist layer(23) is formed on the metal layer. The photoresist layer is hardened by using an oven. A photoresist layer pattern(23a) is formed by exposing and developing the photoresist layer. A waveguide pattern(22a) is formed by etching the metal layer. The photoresist layer pattern is removed by using acetone or a photoresist stripper. An optical waveguide(10) is formed within a furnace.

Abstract translation: 目的：提供使用热扩散方法的PMN-PT（Pb（Mg1 / 3Nb2 / 3）O3-PbTiO3）光波导及其制造方法，以通过在PMN-PT单晶上扩散金属层来简化制造工艺。 构成：金属层（22）沉积在PMN-PT基底（21）上。 在金属层上形成光致抗蚀剂层（23）。 光刻胶层通过使用烘箱硬化。 通过曝光和显影光致抗蚀剂层形成光致抗蚀剂层图案（23a）。 通过蚀刻金属层形成波导图案（22a）。 通过使用丙酮或光致抗蚀剂剥离剂来去除光致抗蚀剂层图案。 光波导（10）形成在炉内。