公开(公告)号：KR1020120122449A

公开(公告)日：2012-11-07

申请号：KR1020110040583

申请日：2011-04-29

Applicant: 전자부품연구원

Inventor： 양우석 ,  한승호 ,  박승준

IPC: G02B1/10 ,  G02B1/113 ,  C03C17/23 ,  C03C17/34

CPC classification number: G02B1/10 ,  C03C17/23 ,  C03C17/3411 ,  C03C17/366 ,  C03C2217/218 ,  C03C2217/24 ,  G02B1/113

Abstract: PURPOSE: A low-emissive glass and a manufacturing method thereof are provided to enhance infrared ray shielding effects in the near-infrared radiation region. CONSTITUTION: A low-emissive glass(100) includes a low-emissive glass substrate(110) and a shielding function controlling layer which is coated on one side of the low-emissive glass substrate. The shielding function controlling layer includes vanadium dioxide(VO2). One or more Nb, W, F, Cr, Mo, Al or Ta are doped on the vanadium dioxide. The refractive index adjusting layers are coated on both sides of the shielding function controlling layer The refractive index adjusting layer comprises one or more HfO2, Al2O3, Sc2O2, SiO2, MgF2, Na3AlF6, TiO2, Ta2O5, ZrO2, ZnS, PbTe, Ge, or Si. The buffer layer is coated on top of the lower surface of the shielding function controlling layer and on top of the low-emissive glass substrate. The buffer layer comprises TiO2, ZnO or Al2O3.

Abstract translation: 目的：提供一种低发射玻璃及其制造方法，以增强近红外辐射区域的红外线屏蔽效果。 构成：低发射玻璃（100）包括低发射玻璃基板（110）和涂覆在低发射玻璃基板的一侧上的屏蔽功能控制层。 屏蔽功能控制层包括二氧化钒（VO2）。 在二氧化钒上掺杂一种或多种Nb，W，F，Cr，Mo，Al或Ta。 折射率调节层涂覆在屏蔽功能控制层的两面上。折射率调节层包括一种或多种HfO 2，Al 2 O 3，Sc 2 O 2，SiO 2，MgF 2，Na 3 AlF 6，TiO 2，Ta 2 O 5，ZrO 2，ZnS，PbTe，Ge或 硅。 缓冲层被涂覆在屏蔽功能控制层的下表面的顶部上，并且在低发射玻璃基板的顶部上。 缓冲层包括TiO 2，ZnO或Al 2 O 3。