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公开(公告)号:WO2019190220A1
公开(公告)日:2019-10-03
申请号:PCT/KR2019/003632
申请日:2019-03-28
Applicant: 주식회사 아모레퍼시픽
Abstract: 본 발명은 수용성 계면활성제 및 유용성 계면활성제를 포함하는 메이크업 화장 제거용 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 HLB(Hydrophile Lipophile Balance) 값이 13 이상인 수용성 계면활성제와 HLB 값이 12 이하인 유용성 계면활성제의 혼합물을 유효성분으로 포함하는, 메이크업 제품 사용에 따른 메이크업 잔류물의 제거 효능이 우수하고, 조성물의 투명도 향상 효과 및 피부에 대한 사용감이 우수한 메이크업 화장 제거용 화장료 조성물에 관한 것이다.