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    고진공마그네트론스퍼터링방법
    6.
    发明授权
    고진공마그네트론스퍼터링방법 失效
    高真空磁控溅射法

    公开(公告)号：KR100295617B1

    公开(公告)日：2001-10-26

    申请号：KR1019980057576

    申请日：1998-12-23

    Applicant: 재단법인 포항산업과학연구원 ,  철강융합신기술연구조합

    Inventor： 박형국 ,  정재인

    IPC: C23C14/35

    Abstract: 본 발명은 진공 증착법 중의 하나인 마그네트론 스퍼터링에서 타겟 주위에 이온과 전자를 공급시켜 고진공에서도 마그네트론 스퍼터링을 작동시킬 수 있도록 한 고진공 마그네트론 스퍼터링방법에 관한 것으로, 마그네트론 스퍼터링장치를 사용하여 마그네트론 스퍼터링 작업을 행함에 있어서, 타겟(18)을 향하여 설치되어 방전가스를 공급하는 가스주입구(12)의 주위에 필라멘트(9)를 설치하고, 상기 필라멘트(9)의 주위에 양극(8)과 영구자석(7)을 설치한 후, 상기 필라멘트(9)에 전원을 공급하고 상기 양극(8)에 전압을 공급함으로써, 상기 필라멘트(9)에서 발생되는 전자와 상기 영구자석(7)의 자기장에 의해 이온화된 방전가스 이온이 상기 타겟(18)을 향하여 공급되도록 함을 특징으로 한다.

    도금강판의파우더링성평가방법
    7.
    发明授权
    도금강판의파우더링성평가방법 失效
    供应涂料评价方法

    公开(公告)号：KR100262671B1

    公开(公告)日：2000-08-01

    申请号：KR1019970071705

    申请日：1997-12-22

    Applicant: 철강융합신기술연구조합 ,  재단법인 포항산업과학연구원

    Inventor： 박형국 ,  정재인 ,  문종호

    IPC: C23C2/00

    Abstract: PURPOSE: An evaluation method for the powdering property of a plated steel plate is provided, which can evaluate the powdering property even though the thickness of plated steel plate is changed by using scratch without any additional bending device and can evaluate the property repeatedly, thereby improving the reliability of evaluation. CONSTITUTION: The evaluation method is as follows: (i) form a scratch of a fixed depth on the plated layer of electroplated steel plate by increasing vertical drag force to 0-200 N using diamond tip of scratch tester equipped with sonic wave measuring device for causing ablation of powder (powdering) of plated layer; (ii) quantify the powdering degree by scotch tape; and (iii) evaluate the powdering degree by the quantified degree.

    Abstract translation: 目的：提供一种电镀钢板的粉化特性的评价方法，即使在没有任何附加的弯曲装置的情况下，通过刮擦来改变镀覆钢板的厚度，也能够评价粉化性，能够重复地评价其特性， 评估的可靠性。 规定：评估方法如下：（i）通过使用装备有声波测量装置的划痕测试仪的金刚石尖端将垂直牵引力增加至0-200N，在电镀钢板的镀层上形成固定深度的划痕 引起镀层粉末（粉化）的消融; （ii）通过透明胶带量化粉化度; 和（iii）以量化度评估粉化程度。

    이온빔을이용한고진공마그네트론스퍼터링방법
    8.
    发明公开
    이온빔을이용한고진공마그네트론스퍼터링방법 失效
    使用离子束喷射高真空磁体的方法

    公开(公告)号：KR1020000041638A

    公开(公告)日：2000-07-15

    申请号：KR1019980057577

    申请日：1998-12-23

    Applicant: 재단법인 포항산업과학연구원 ,  철강융합신기술연구조합

    Inventor： 박형국 ,  정재인

    IPC: C23C14/35 ,  C23C14/46

    CPC classification number: C23C14/0052 ,  C23C14/354 ,  C23C14/46

    Abstract: PURPOSE: A sputtering method of high vacuum magnetron using an ion beam is provided to operate a magnetron sputtering in a high vacuum by supplying an ion around a target with using the ion beam. CONSTITUTION: An inside of a vacuum container(1) is filled with 1X10¬-4Torr by injecting an argon gas inside a discharging gas container(9) when the vacuum container(1) is reached about 1X10¬-6Torr by ventilating with a turbo molecular pump. An ion beam(6) is operated and an ion generated from the ion beam(6) is supplied to a target(7) and a substrate(3) at the same time. Because a magnetron sputtering(2) is installed to inclined face of the ion beam(6), the ion generated from the ion beam(6) is sent to the target(7) and the substrate(3) installed in the magnetron sputtering(2). When a voltage over 400V is fed to the target(7) through a voltage feeding device of sputtering(11), a plasma is generated around the target(7) by generating the magnetron sputtering(2). To inject oxygen or nitrogen in a reacting gas container(8) into the vacuum container(1) through the gas inlet(12), an intended thin film of compound is deposited.

    Abstract translation: 目的：提供使用离子束的高真空磁控管的溅射方法，通过使用离子束在靶上提供离子来在高真空中操作磁控溅射。 构成：当真空容器（1）通过涡轮通风达到约1X10-6Torr时，通过在排放气体容器（9）内注入氩气，在1×10 -4乇内填充真空容器（1）的内部 分子泵。 操作离子束（6），并且从离子束（6）产生的离子同时被供给到靶（7）和基板（3）。 由于磁控管溅射（2）安装在离子束（6）的倾斜面上，所以从离子束（6）产生的离子被传送到靶（7）和安装在磁控溅射中的基片（3） 2）。 当通过溅射（11）的电压馈送装置将超过400V的电压馈送到目标（7）时，通过产生磁控溅射（2）在靶（7）周围产生等离子体。 为了通过气体入口（12）将反应气体容器（8）中的氧气或氮气注入真空容器（1）中，沉积了预期的化合物薄膜。

    금속화합물 박막의 제조방법
    9.
    发明授权
    금속화합물 박막의 제조방법 失效
    复合材料薄涂层的方法

    公开(公告)号：KR100256354B1

    公开(公告)日：2000-05-15

    申请号：KR1019970072387

    申请日：1997-12-23

    Applicant: 철강융합신기술연구조합 ,  재단법인 포항산업과학연구원

    Inventor： 박형국 ,  정재인

    IPC: C23C14/28

    Abstract: PURPOSE: A manufacturing method for thin film of metal compound is provided, which can manufacture thin film of metal compound stably and economically by controlling the composition rate of thin film by using reflection degree. The thin film of metal compound is used as a lustered watch case and chain, rim of glasses and rings. CONSTITUTION: The system comprises a vacuum room(1) that has an evaporation source(2), a shutter(3), an ion beam source(4) at the side bottom, a laser(12) at the opposite side of an ion beam source(4), a substrate(5), a substrate heater(7) at the top center, and a light detector(13) set just above the ion beam source(4) for detecting laser. The method is characterized by: (i) irradiate ion beam of the same gas as the atmospheric gas to the substrate(7) for forming thin film of metal compound on the substrate; (ii) evaporate metal by the evaporation source(2) in a gas atmosphere; and (iii) carrying out the control of the composition of thin film of metal by changing the amount of the atmosphere gas, the evaporation amount of metal, and reaching rate of energy and ion of ion gas, thereby changing the composition rate of thin film of metal compound and by computing the co-relation of composition rate and reflection degree.

    Abstract translation: 目的：提供一种金属化合物薄膜的制造方法，其通过使用反射度控制薄膜的组成比，可以稳定且经济地制造金属化合物的薄膜。 金属化合物的薄膜用作光泽表壳和链条，眼镜和戒指的边缘。 构成：该系统包括一个真空室（1），它具有一个蒸发源（2），一个活门（3），一个侧面的离子束源（4），一个位于离子相反侧的激光（12） 光束源（4），基板（5），顶部中心的基板加热器（7），以及设置在离子束源（4）正上方的用于检测激光的光检测器（13）。 该方法的特征在于：（i）将与气氛气体相同的气体的离子束照射到衬底（7）上，以在衬底上形成金属化合物的薄膜; （ii）在气体气氛中通过蒸发源（2）蒸发金属; 和（iii）通过改变气氛气体的量，金属的蒸发量和离子气体的能量和离子的到达速率来实现金属薄膜的组成的控制，从而改变薄膜的组成速率 的金属化合物，并通过计算组成速率和反射度的共同关系。

    전기도금강판의 파우더링성 평가방법
    10.
    发明公开
    전기도금강판의 파우더링성 평가방법 失效
    电镀钢板粉末不稳定性的评估方法

    公开(公告)号：KR1019990052251A

    公开(公告)日：1999-07-05

    申请号：KR1019970071706

    申请日：1997-12-22

    Applicant: 철강융합신기술연구조합 ,  재단법인 포항산업과학연구원

    Inventor： 박형국 ,  정재인 ,  문종호

    IPC: C21D8/12

    Abstract: 본 발명은 전기도금강판 가공성 평가의 기준이 되는 파우더링성을 평가하는 방법에 관한 것으로, 스크래치 시험기를 이용하여 도금층의 분상박리시 발생하는 음파발생신호의 크기와 분상박리를 발생시키는 수직항력의 크기에 기초하여 파우더링성을 정량적으로 평가하므로서, 두께가 변하여도 일정한 평가가 가능할 뿐만 아니라 평가의 신뢰도를 향상시킬수 있는 전기도금강판의 파우더링성 평가방법을 제공하고자 하는데. 그 목적이 있다.
    본 발명은 전기도금강판의 파우더링성을 평가하는 방법에 있어서,
    음파측정기가 구비되어 있는 스크래치 시험기의 다이아몬드 팁을 이용하여 수직항력을 증가시키면서 전기도금강판의 도금층에 일정한 깊이의 스크래치를 형성하여 도금층의 분상박리를 발생시키는 단계;
    상기와 같이 도금층의 분상박리를 발생시킬때 상기 음파측정기에 의해 수직항력변화에 따른 음파발생신호의 크기 변화를 측정하는 단계;및
    음파발생신호가 급격히 상승되는 시점(도금층의 분상분리가 발생되는 시점)의 수직항력를 구하고, 이 수직향력의 크기를 비교하여 도금층의 파우더링성을 평가하는 단계를 포함하는 전기도금강판의 파우더링성 평가방법을 그 요지로 한다.

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