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公开(公告)号：KR1020150010200A
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：KR1020130084854
申请日：2013-07-18
Applicant: 충남대학교산학협력단
Abstract: 비산화 입자 형성 장치 및 코팅방법에 관한 것으로, 보론 입자, 용매 및 니켈 입자를 공급하는 코어 쉘 물질 공급부, 상기 코어 쉘 물질 공급부에서 공급된 보론 입자에 대해 습식 밀링으로 입자 코팅을 실행하는 입도 조절 및 코팅부, 상기 습식 밀링에 의하여 코팅된 입자의 잔여물들을 처리하는 처리부를 포함하고, 상기 용매는 올레산(oleic acid) 또는 헥산(hexane)이고, 코어는 보론 입자이고, 코팅된 입자는 니켈 입자인 구성을 마련하여, 비교적 손쉽게 코팅된 입자를 생성할 수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种非氧化粒子形成装置及其形成方法。 本发明包括提供硼颗粒，溶剂和镍颗粒的芯壳材料供应单元; 粒径调节和涂布单元，其在由核心壳材料供应单元供应的硼颗粒上进行湿磨基颗粒涂布; 以及处理单元，其处理通过湿研磨涂覆的颗粒的残余物。 溶剂是油酸或己烷，核心是硼颗粒，涂覆的颗粒是镍颗粒。 根据本发明，可以容易地制造涂覆的颗粒。
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公开(公告)号：KR1020140125494A
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：KR1020130043310
申请日：2013-04-19
Applicant: 충남대학교산학협력단
CPC classification number: C01B35/023 , C01B33/12 , C01P2004/64
Abstract: 보론 입자의 처리장치 및 코팅방법에 관한 것으로, 보론 입자, 용매 및 전구체를 혼합하여 공급하는 코어-쉘 물질 공급부, 상기 코어-쉘 물질 공급부에서 공급된 보론 입자에 대해 습식 밀링으로 입자 코팅을 실행하는 입도 조절 및 코팅부, 상기 습식 밀링에 의하여 코팅된 입자의 잔여물들을 처리하는 처리부를 포함하고, 상기 전구체는 TEOS(Tetraethyl orthosilicate), TMOS(Tetramethyl orthosilicate), TMS (tetramethyl-silane) 중의 어느 하나인 구성을 마련하여, 입도 조절과 다양한 코팅을 위한 전구체의 선택이 가능하여 다양한 용도에 맞게 입자를 생성할 수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于处理硼颗粒的装置和一种用于涂覆硼颗粒的方法。 用于处理硼颗粒的装置包括用于供应硼颗粒，溶剂和前体的混合物的芯 - 壳材料供应部分; 通过湿法研磨由核 - 壳材料供给部供给的硼粒子的粒径调整涂布部， 以及用于处理通过湿研磨涂覆的颗粒的残余物的处理部分。 前体由原硅酸四乙酯（TEOS），原硅酸四甲酯（TMOS）和四甲基硅烷（TMS）中的一种组成，以使粒度调节和各种涂层前体的选择。 因此，可以生成各种用途的颗粒。
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公开(公告)号：KR101626443B1
公开(公告)日：2016-06-02
申请号：KR1020130084854
申请日：2013-07-18
Applicant: 충남대학교산학협력단
Abstract: 비산화입자형성장치및 코팅방법에관한것으로, 보론입자, 용매및 니켈입자를공급하는코어쉘 물질공급부, 상기코어쉘 물질공급부에서공급된보론입자에대해습식밀링으로입자코팅을실행하는입도조절및 코팅부, 상기습식밀링에의하여코팅된입자의잔여물들을처리하는처리부를포함하고, 상기용매는올레산(oleic acid) 또는헥산(hexane)이고, 코어는보론입자이고, 코팅된입자는니켈입자인구성을마련하여, 비교적손쉽게코팅된입자를생성할수 있다.
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公开(公告)号：KR101478161B1
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：KR1020130043310
申请日：2013-04-19
Applicant: 충남대학교산학협력단
Abstract: 보론입자의처리장치및 코팅방법에관한것으로, 보론입자, 용매및 전구체를혼합하여공급하는코어-쉘물질공급부, 상기코어-쉘물질공급부에서공급된보론입자에대해습식밀링으로입자코팅을실행하는입도조절및 코팅부, 상기습식밀링에의하여코팅된입자의잔여물들을처리하는처리부를포함하고, 상기전구체는 TEOS(Tetraethyl orthosilicate), TMOS(Tetramethyl orthosilicate), TMS (tetramethyl-silane) 중의어느하나인구성을마련하여, 입도조절과다양한코팅을위한전구체의선택이가능하여다양한용도에맞게입자를생성할수 있다.
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