공시체에 대한 목표 균열폭의 균열 유발장치 및 균열 유발방법
    2.
    发明公开
    공시체에 대한 목표 균열폭의 균열 유발장치 및 균열 유발방법 有权
    试件的裂纹萌生装置和目标裂纹宽度的裂纹萌生方法

    公开(公告)号:KR1020180021573A

    公开(公告)日:2018-03-05

    申请号:KR1020160106308

    申请日:2016-08-22

    CPC classification number: G01N3/56 G01N3/10 G01N2203/0062

    Abstract: 본발명은공시체(200)에대하여쪼갬인장강도실험을수행하였을때 공시체(200)에할열인장균열이발생하는순간의역학적상태와그 평형의원리에근거하여, 공시체의횡구속도(橫拘束度)를조절하여균열형성에따라발생하는변형량에대응되는균열폭을가지는균열이공시체(200)에형성되도록함으로써, 균열폭이매우작은미세균열부터원하는균열폭을가지는다양한크기의균열이공시체에유발되게만드는균열유발장치및 균열유발방법에관한것이다.

    Abstract translation: 本发明基于试样200受到劈裂拉伸强度试验和平衡原理时试样200发生热拉伸裂纹时的机械状态, ),裂纹产生是裂缝宽度被导致裂纹各种尺寸的样品通过使调整具有期望裂缝宽度,从非常小的微裂纹来形成形成于具有对应于所引起的裂纹的裂纹宽度的样本200的裂缝变形 并对裂纹诱导方法。

    플라즈마 발생 장치, 그를 포함하는 기판 처리 장치, 및 그 제어 방법
    3.
    发明授权
    플라즈마 발생 장치, 그를 포함하는 기판 처리 장치, 및 그 제어 방법 有权
    等离子体产生装置,包括其的基板处理装置及其控制方法

    公开(公告)号:KR101817210B1

    公开(公告)日:2018-01-15

    申请号:KR1020160097949

    申请日:2016-08-01

    Abstract: 본발명은플라즈마를균일하게생성하고제어하기위한플라즈마발생장치, 그를포함하는기판처리장치, 및그 제어방법을제공한다. 본발명의일 실시예에따라챔버내부에제공되는기판상에플라즈마공정을수행하기위해플라즈마를발생시키는플라즈마발생장치는, 고주파전력을제공하는고주파전원; 및상기고주파전원으로부터고주파전력을공급받아상기챔버내부에공급되는가스를플라즈마상태로여기시키는플라즈마소스를포함하며, 상기플라즈마소스는복수의안테나를포함하며, 상기안테나들사이에는적어도하나의가변소자가연결될수 있다.

    Abstract translation: 本发明提供一种用于均匀地产生和控制等离子体的等离子体产生装置,包括该等离子体的基板处理装置以及控制方法。 根据本发明的实施例,提供了一种等离子体产生设备,用于产生等离子体以对设置在腔室中的衬底执行等离子体处理,等离子体产生设备包括:用于提供高频功率的高频电源; 以及等离子体源,其从所述高频电源接收高频电力并且将供应到所述室中的气体激发成等离子体状态,其中所述等离子体源包括多个天线, 可以连接。

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