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公开(公告)号：WO2014034996A1
公开(公告)日：2014-03-06
申请号：PCT/KR2012/007289
申请日：2012-09-11
CPC classification number: B41M3/006 , C09D11/52 , H05K1/092 , H05K2201/10083 , H05K2203/0514
Abstract: 본 발명은 전도성 이온 잉크 조성물, 그 제조방법 및 이를 이용한 고전도성 패턴 또는 막의 형성방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 금속 잉크 조성물은 산화안정성 및 분산성이 우수하여 미세하고 균일한 전도성 패턴 또는 막을 고밀도로 형성할 수 있음과 동시에 높은 전기전도도를 구현할 수 있다. 또한, 실온에서 용액법을 이용하여 잉크 조성물을 제조하고, 인쇄공정을 이용하여 전도성 패턴 또는 막을 형성하므로 전도성 잉크 조성물의 제조공정 효율이 및 패턴 형성공정 효율이 우수하고, 전도성 막의 대면적화와 연속공정에 의한 형성이 가능하다. 또한, 형성된 전도성 패턴 또는 막은 광소성 장치를 이용한 열처리 공정에 의해서 전기적 특성이 더욱 향상된다.
Abstract translation: 本发明涉及一种导电离子墨水组合物，其制备方法和使用其形成高导电性图案或膜的方法。 根据本发明的金属油墨组合物具有优异的氧化稳定性和分散性，从而形成精细均匀的高密度导电图案或膜，并实现高导电性。 此外，可以使用溶液法在室温下制备油墨组合物，并且可以使用印刷方法形成导电图案或膜，从而在导电油墨组合物制备方法中提高效率并提高图案形成过程中的效率 并且使得导电膜具有大面积并且使用连续工艺形成。 此外，由于如此形成的导电图案或膜可以由于使用光固化装置的热处理工艺而具有进一步改善的电特性。
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公开(公告)号：KR101637884B1
公开(公告)日：2016-07-08
申请号：KR1020140070073
申请日：2014-06-10
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: 본발명은저온소성용전도성잉크조성물및 이를이용한전도성패턴또는막의제조방법에관한것으로서나노또는마이크로크기의금속입자및 금속나노선을포함하는것을특징으로하며, 저온공정에서도인쇄성이우수하여전도성패턴또는막을형성할수 있으며, 이를기판에코팅하면기판접착성뿐만아니라전기전도도및 휨특성이우수하여플렉시블기판및 다양한기판에사용할수 있다. 또한, 본발명의전도성패턴또는막은금속입자및 금속나노선중 어느하나만을포함하는종래전도성잉크를이용한패턴또는막 보다저항이낮으므로, 상기와같은종래잉크를대체할수 있는저가의우수한전도성잉크조성물로활용가능하다.
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公开(公告)号：KR1020090063408A
公开(公告)日：2009-06-18
申请号：KR1020070130752
申请日：2007-12-14
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: C03C8/14 , C03C3/066 , C03C8/24 , H01B3/10 , H01B3/12 , H01J17/49 , H01J2211/38
Abstract: A lead-free glass frit with a low-temperature softening point and a display panel sealing composition containing the same are provided to reduce the amount of high-priced Bi2O3 consumed without the use of lead, thereby securing high profitability. A lead-free glass frit with a low-temperature softening point for display panel sealing comprises 10-20mol% of Bi2O3, 25-40mol% of B2O3, 15-25mol% of ZnO, 10-20mol% of SiO2, 5-15mol% of Na2CO3 and 1-6mol% of Al2O3 on a basis of oxides. The softening point of the lead-free glass frit is 500°C or less. A glass composition for display panel sealing comprises 90-97wt% of the lead-free glass frit and 3-10wt% of ceramic filler. The ceramic filler is selected from the group consisting of cordierite, zircon, zirconia, alumina and their mixture.
Abstract translation: 提供具有低温软化点的无铅玻璃料和含有该低温软化点的显示面板密封组合物，以减少不使用铅而消耗的高价Bi2O3的量，从而确保高利润率。 用于显示面板密封的具有低温软化点的无铅玻璃料包括10-20mol％的Bi 2 O 3，25-40mol％的B 2 O 3，15-25mol％的ZnO，10-20mol％的SiO 2，5-15mol％ 的Na 2 CO 3和1-6mol％的Al 2 O 3。 无铅玻璃料的软化点为500℃以下。 用于显示面板密封的玻璃组合物包含90-97wt％的无铅玻璃料和3-10wt％的陶瓷填料。 陶瓷填料选自堇青石，锆石，氧化锆，氧化铝及其混合物。
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公开(公告)号：KR101516953B1
公开(公告)日：2015-05-04
申请号：KR1020130141315
申请日：2013-11-20
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: B22F9/24 , B22F1/0007 , B22F2301/10 , B22F2304/05 , C09D11/52 , H01B5/14 , H05K1/097 , H05K2203/1126
Abstract: 구리나노선의제조방법, 이에의해제조된구리나노선, 잉크조성물및 투명전도막의제조방법이제공된다. 본발명에따른구리나노선의제조방법은증류수에염화제이구리, 환원제및 구리캡핑제를첨가하여혼합용액을제조하는단계; 상기혼합용액을상압또는고압반응기에넣고 80℃내지 120℃에서 6시간내지 24시간반응시켜구리나노선이형성된반응용액을제조하는단계; 및상기반응용액을냉각및 정제하여구리나노선을얻는단계를포함한다. 염화제이구리및 증류수를사용하므로제조공정이간단하고저렴한제조비용으로구리나노선을제조할수 있고, 이에의해효율이향상된투명전도막을제조할수 있다.
Abstract translation: 提供制造铜纳米线的方法，由其制造的铜纳米线，油墨组合物和制造透明导电膜的方法。 根据本发明，制造铜纳米线的方法包括：通过向蒸馏水中加入氯化铜，还原剂和铜封端剂来制造混合溶液的步骤; 通过与放置在正常或高压反应器中的混合溶液在80-120℃下反应6-24小时，形成铜纳米线形成反应溶液的步骤; 以及通过冷却和纯化反应溶液获得铜纳米线的步骤。 本发明可以用简单的制造工艺制造铜纳米线，并且使用氯化铜和蒸馏水制造成本低廉; 从而以提高的效率制造透明导电膜。
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公开(公告)号：KR1020140028208A
公开(公告)日：2014-03-10
申请号：KR1020120093800
申请日：2012-08-27
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: B41M3/006 , C09D11/52 , H05K1/092 , H05K2201/10083 , H05K2203/0514
Abstract: The present invention relates to a conductive metal ion ink composition, a manufacturing method thereof and a manufacturing method for a highly conductive metal pattern or a film using the same. The metal ion ink composition according to the present invention is able to form a fine and uniform conductive pattern or a film with high density by exhibiting excellent oxidative stability and dispersibility while having high conductivity. The present invention increases the efficiency of the manufacturing process of the conductive ink composition and the efficiency of the pattern forming process since the ink composition is manufactured at the room temperature by using a solution method and the conductive pattern and film are formed by using a printing process, and is able to perform the enlargement of the conductive film and form the conductive film by a consecutive process. Additionally, the present invention increases the electric properties of the conductive pattern or film by a heat treating process using a photoplasticity device.
Abstract translation: 本发明涉及一种导电金属离子油墨组合物，其制造方法和用于高导电性金属图案的制造方法或使用其的薄膜。 根据本发明的金属离子油墨组合物能够通过显示优异的氧化稳定性和分散性同时具有高导电性而形成精细均匀的导电图案或高密度的薄膜。 本发明提高了导电油墨组合物的制造工艺的效率和图案形成工艺的效率，因为通过使用溶液法在室温下制造油墨组合物，并且通过使用印刷形成导电图案和膜 并且能够进行导电膜的放大并通过连续的工序形成导电膜。 此外，本发明通过使用光塑性装置的热处理工艺增加了导电图案或膜的电性能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101334601B1
公开(公告)日：2013-11-29
申请号：KR1020110103436
申请日：2011-10-11
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: H01L31/1884 , B22F1/0025 , B22F3/10 , B22F9/24 , B82Y30/00 , C22C5/06 , C22C9/00 , C22C19/03 , H01B1/02 , H01B1/026 , H01L31/022466 , Y02E10/50
Abstract: 본 발명은 고직선성의 금속 나노선 및 이를 포함하는 투명 전도막에 관한 것으로서, 본 발명에 따르면, 비교적 저온 공정에서 금속염을 이용하여 고직선성의 금속 나노선을 제조할 수 있고, 특히 이를 이용하여 고투광도, 낮은 면저항을 가지고 열적, 화학적 및 기계적 안정성이 우수한 투명 전도막의 제조가 가능하며, 본 발명에 따른 금속 나노선을 이용하여 제조한 투명 전도막은 금속 나노선이 고직선성을 가져서 전기 전도성이 우수하고, 금속 나노선이 차지하는 부피비가 5% 미만이어서 광투과율이 매우 우수하다. 또한, 본 발명에 따른 금속나노선은 ITO, 전도성고분자, 탄소나노튜브, 그래핀 등 전도성 소재의 대체품으로도 유용하며, 기판과의 접착성 및 적용성이 우수하여 플렉시블 기판 및 다양한 기판에 사용할 수 있으며 적용범위 또한 디스플레이 및 태양전지 소자 등 다양한 분야에서 활용이 가능하다.
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公开(公告)号：KR101719155B1
公开(公告)日：2017-04-04
申请号：KR1020150056935
申请日：2015-04-23
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: B22F9/24
Abstract: 구리나노선의제조방법, 이에의해제조된구리나노선, 잉크조성물및 투명전도막의제조방법이제공된다. 본발명에따른구리나노선의제조방법은증류수에염화제이구리, 환원제및 구리캡핑제를첨가하여혼합용액을제조하는단계; 상기혼합용액을상압또는고압반응기에넣고 80℃내지 120℃에서 6시간내지 24시간반응시켜구리나노선이형성된반응용액을제조하는단계; 및상기반응용액을냉각및 정제하여구리나노선을얻는단계를포함한다. 염화제이구리및 증류수를사용하므로제조공정이간단하고저렴한제조비용으로구리나노선을제조할수 있고, 이에의해효율이향상된투명전도막을제조할수 있다.
Abstract translation: 提供铜纳米线，铜纳米线，油墨组合物以及由该方法制造的透明导电膜的制造方法。 根据本发明的铜纳米线包括以下步骤：通过向蒸馏水中加入氯化铜，还原剂和铜封盖剂来制备混合溶液; 将该混合溶液加入到大气压或高压反应器中，在80〜120℃反应6〜24小时，制得含铜纳米线的反应液; 然后冷却并纯化反应溶液以获得铜纳米线。 由于使用氯化铜和蒸馏水，因此可以以简单的制造工艺和低制造成本制造铜纳米线，由此可以制造具有提高的效率的透明导电膜。
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公开(公告)号：KR1020130051778A
公开(公告)日：2013-05-21
申请号：KR1020110117116
申请日：2011-11-10
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of a transparent conductive film capable of including a metallic nanowire and a conductivity polymer are provided to improve the electrical property degradation phenomenon due to a long term usage, by solving a surface oxidation problem of the metallic nanowire. CONSTITUTION: A metallic nanowire in which any one selected among Au, Pt, Ti, Ni, Al, W and Co is coated on the surface is manufactured. A coating solution is manufactured by dispersing the conductivity polymer and metallic nanowire into the solvent. The coating solution is coated on a substrate. The metallic nanowire is the one selected among Ag, Cu and Ni. The substrate is the one selected among a glass substrate, a silicon substrate and a plastic substrate. [Reference numerals] (AA) Metallic nanowire; (BB) Conductive polymer; (CC) Substrate
Abstract translation: 目的：提供能够包含金属纳米线和导电性聚合物的透明导电膜的制造方法，以通过解决金属纳米线的表面氧化问题来改善长期使用时的电性能劣化现象。 构成：制造其中在Au，Pt，Ti，Ni，Al，W和Co中选择的任何一种金属纳米线涂覆在表面上。 通过将导电性聚合物和金属纳米线分散到溶剂中来制造涂布溶液。 将涂布溶液涂布在基材上。 金属纳米线是选自Ag，Cu和Ni的金属纳米线。 基板是从玻璃基板，硅基板和塑料基板中选择的基板。 （附图标记）（AA）金属纳米线; （BB）导电聚合物; （CC）基板
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公开(公告)号：KR100984489B1
公开(公告)日：2010-10-01
申请号：KR1020080100681
申请日：2008-10-14
Abstract: 본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, PDP) 상판용 투명유전체에 사용되는 드라이 필름(dry film)을 제조하기 위한 무연 투명유전체 조성물에 관한 것으로, 구체적으로 본 발명에 따른 무연 투명유전체 조성물은 ZnO-B
2 O
3 -BaO계의 무연 투명유전체 분말 60 내지 70 중량%, 메틸에틸케톤과 에탄올의 공비 혼합용매 20 내지 25 중량%, 분산제로서 피시 오일(fish oil) 0.6 내지 0.7 중량%, 결합제로서 폴리에틸메타크릴레이트(PEMA) 5 내지 12 중량% 및 가소제로서 1:1 중량비의 폴리에틸렌글리콜(PEG)과 다이부틸프탈레이트(DBP)의 혼합물 0.5 내지 6.0 중량%를 포함한다. 또한, 본 발명은 상기 무연 투명유전체 조성물을 사용하여 제조된 드라이 필름 및 이 드라이 필름을 사용하여 제조된 고투과율 투명유전체를 포함하는 PDP용 부재에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 무연, 투명유전체, 드라이 필름, 테이프 캐스팅-
公开(公告)号：KR1020160126187A
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：KR1020150056935
申请日：2015-04-23
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: B22F9/24
Abstract: 구리나노선의제조방법, 이에의해제조된구리나노선, 잉크조성물및 투명전도막의제조방법이제공된다. 본발명에따른구리나노선의제조방법은증류수에염화제이구리, 환원제및 구리캡핑제를첨가하여혼합용액을제조하는단계; 상기혼합용액을상압또는고압반응기에넣고 80℃내지 120℃에서 6시간내지 24시간반응시켜구리나노선이형성된반응용액을제조하는단계; 및상기반응용액을냉각및 정제하여구리나노선을얻는단계를포함한다. 염화제이구리및 증류수를사용하므로제조공정이간단하고저렴한제조비용으로구리나노선을제조할수 있고, 이에의해효율이향상된투명전도막을제조할수 있다.
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