公开(公告)号：KR101512695B1

公开(公告)日：2015-04-17

申请号：KR1020130123961

申请日：2013-10-17

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 조성환 ,  김규식

IPC: G01N27/12

Abstract: 본발명은후처리공정없이표준 CMOS 공정만으로제조가능하고회로의기생성분에영향이적어회로의복잡도를떨어뜨리고출력이선형적으로나타나는습도센서를제공하기위한것으로서, 표준 CMOS 집적회로의탑 메탈(top metal)을전극으로사용하여실리콘디옥사이드(silicon dioxide)의표면에전하이동이습도에따라변하는것을감지하는습도감지부와, 상기습도감지부에서감지되는실리콘디옥사이드(silicon dioxide)의표면에흐르는전류를선형적인함수형태로변환하는로그컨버터(log converter)를포함하여구성되는데있다.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种湿度传感器，其只能通过标准的CMOS工艺制造而不需要后处理，并且由于对电路的寄生元件的影响很小而降低了电路的复杂性，并且其中线性输出 被展示。 湿度传感器包括：湿度检测单元，其使用标准CMOS集成电路的顶部金属作为电极检测根据二氧化硅表面上的湿度而变化的电荷迁移率; 以及将在湿度检测单元中检测到的二氧化硅表面上流动的电力转换成线性函数形式的对数转换器。

公开(公告)号：KR100837409B1

公开(公告)日：2008-06-12

申请号：KR1020060120080

申请日：2006-11-30

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  한국과학기술원

Inventor： 김규식 ,  김진백 ,  하용웅 ,  박병하 ,  박지영 ,  김수민

IPC: G03F7/004 ,  C07D305/06 ,  C07D305/08

CPC classification number: C07D305/06 ,  C08L61/06 ,  G03F7/038 ,  Y10S430/115

Abstract: 본 발명은 하기 화학식 1또는 2를 갖는 옥세탄-함유 화합물, 이를 포함한 포토레지스트 조성물, 상기 포토레지스트 조성물을 이용한 패턴 형성 방법 및 상기 옥세탄-함유 화합물의 중합 결과물을 포함한 잉크젯 프린트 헤드에 관한 것이다:


상기 화학식 1 중, Q
1 , Q
2 , Q
3 , Q
4 , Q
5 , Q
6 , Q
7 , Q
8 , L
1 , L
2 , a, b, c, d, e, f, g, h 및 n은 발명의 상세한 설명을 참조한다. 본 발명을 따르는 옥세탄-함유 화합물은 중합성이 우수하여 포토레지스트로 이용될 수 있으며, 이의 중합 결과물은 내열성, 내화학성, 접착성, 내구성 등이 우수하다.
포토레지스트

公开(公告)号：KR1020080049475A

公开(公告)日：2008-06-04

申请号：KR1020060120080

申请日：2006-11-30

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  한국과학기술원

Inventor： 김규식 ,  김진백 ,  하용웅 ,  박병하 ,  박지영 ,  김수민

IPC: G03F7/004 ,  C07D305/06 ,  C07D305/08

CPC classification number: C07D305/06 ,  C08L61/06 ,  G03F7/038 ,  Y10S430/115 ,  G03F7/085

Abstract: An oxetane-containing compound, a photoresist composition containing the compound, a pattern formation method using the composition, and an inkjet print head using the compound are provided to improve the polymerization property of the compound and to enhance the heat resistance, chemical resistance, adhesion and durability of the polymer of the compound. An oxetane-containing compound is represented by the formula 1 or 2, wherein Q1 to A8 are independently H a hydroxyl group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted C1-C30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C2-C30 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C2-C30 alkynyl group, a substituted or unsubstituted C1-C30 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C4-C30 aliphatic hydrocarbon ring, a substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, a substituted or unsubstituted C3-C30 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted C6-C30 aryloxy group, a substituted or unsubstituted c6-C30 acyl group, or a substituted or unsubstituted ether bond-containing monovalent group; a is 1, 2, 3 or 4; b is 1, 2, 3, 4 or 5; c and e are independently a, 2 or 3; d is 1 or 2; f, g and h are independently 1, 2, 3 or 4; L1 to L3 are independently a substituted or unsubstituted C1-C30 alkylene group, a substituted or unsubstituted C2-C30 alkenylene group, a substituted or unsubstituted C2-C30 alkynylene group, a substituted or unsubstituted C6-C30 arylene group, a substituted or unsubstituted C3-C30 hetero arylene group, or a substituted or unsubstituted ether bond-containing divalent group; and n is an integer of 0-10.

Abstract translation: 提供含有氧杂环丁烷的化合物，含有该化合物的光致抗蚀剂组合物，使用该组合物的图案形成方法和使用该化合物的喷墨打印头，以提高化合物的聚合性能并提高耐热性，耐化学性，粘附性 和化合物的聚合物的耐久性。 含氧杂环丁烷的化合物由式1或2表示，其中Q1至A8独立地为H，羟基，羧基，取代或未取代的C 1 -C 30烷基，取代或未取代的C 2 -C 30烯基， 取代或未取代的C 2 -C 30炔基，取代或未取代的C 1 -C 30烷氧基，取代或未取代的C 4 -C 30脂族烃环，取代或未取代的C 6 -C 30芳基，取代或未取代的C 3 -C 30杂芳基， 取代或未取代的C 6 -C 30芳氧基，取代或未取代的C 6 -C 30酰基或取代或未取代的含醚键的一价基团; a是1,2,3或4; b为1,2,3,4或5; c和e独立地为a，2或3; d为1或2; f，g和h分别为1,2,3或4; 取代或未取代的C 1 -C 30亚芳基，取代或未取代的C 6 -C 30亚芳基，取代或未取代的C 3 -C 30亚芳基，取代或未取代的C 2 -C 30亚炔基， -C30杂亚芳基或取代或未取代的含醚键的二价基团; n为0〜10的整数。