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1.发明公开벨트 형상의 금속 전극선이 내장된 플렉서블 OLED 디스플레이용 폴리이미드 투명전극 및 그 제조방법 审中-实审用于柔性OLED显示器的聚酰亚胺透明电极，其具有嵌入其中的带状金属电极线及其制造方法
公开(公告)号：KR1020170100783A
公开(公告)日：2017-09-05
申请号：KR1020160023062
申请日：2016-02-26
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본발명은무작위한배열을이루거나특정한방향으로정렬된금속나노벨트내지는마이크로벨트또는그리드형태의금속메쉬전극이무색, 투명한유연폴리이미드기판에내장되어일체화된고내열성유연투명전극및 그의제조방법에관한것이다. 상기금속나노벨트내지는마이크로벨트또는그리드형상의금속선은전기방사또는전기수력학적프린팅장치를이용하여제조된고분자나노섬유를식각마스크로사용하여제조됨으로써, 고가의포토리소그래피(Photo lithography) 공정없이제조가가능한장점이있다. 특히금속전극선이완벽하게투명폴리이미드기판의한쪽면에내장됨에따라매끄러운표면평탄도를가져, 플렉서블 OLED 디스플레이기판으로적용이가능하다. 또한폴리이미드기반의기판이기때문에고온공정이요구되는태양전지, 디스플레이용기판으로도활용될수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种高度耐热的柔性透明电极，其具有沿特定方向排列的随机排列或金属纳米带，或嵌入无色透明透明聚酰亚胺基底中的呈微带或栅格形式的金属网状电极， 它涉及。 金属纳米带，微带或网格形金属线通过使用通过静电纺丝或电流体动力印刷制备的聚合物纳米纤维作为蚀刻掩模来制造，从而不需要昂贵的光刻 有一个潜在的优势。 特别是，由于金属电极线嵌入在完全透明的聚酰亚胺基板的一侧，所以它具有平滑的表面平坦度并且可以用作柔性OLED显示器基板。 另外，由于它是聚酰亚胺类基材，因此可以用作需要高温处理的太阳能电池和显示容器板。
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公开(公告)号：KR101777016B1
公开(公告)日：2017-09-11
申请号：KR1020150151344
申请日：2015-10-29
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01B13/00 , H01B5/14 , H01L31/0216 , H01L31/0224 , H01L31/18 , H01B1/02
Abstract: 본발명은금속그리드와은 나노와이어가포함된복합투명전극및 그제조방법에관한것이다. 본발명에따른금속그리드는포토리소그래피(photolithography) 공정없이제조되는것은특징으로하며, 그리드형상으로프린팅된고분자나노섬유그리드를금속에칭용마스크로이용하는것을특징으로한다. 먼저스퍼터링(Sputtering)과같은물리적인증착공정을이용하여금속박막층을유리기판내지는플라스틱기판에증착한후 EHD(Electrohydrodynamic Dynamic) 젯프린팅공정을이용하여고분자나노섬유를그리드형태로패터닝한 다음, 고분자나노섬유가그려지지않은부분을금속염이들어간식각액을통해금속박막층을제거한뒤, 고분자나노섬유마스크를녹여내서, 금속그리드를제조한다. 그상층에필요시은 나노와이어를더 코팅하여높은투과도를유지하면서우수한전기전도특성을제공한다. 본발명에서는포토마스크의사용없이도 EHD 젯프린팅공정을이용해, 원하는직경과그리드간의간격을갖는투명전극을저렴하고빠르게제조할수 있는새로운투명전극제조공정방법을제공한다.
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公开(公告)号：KR1020170050164A
公开(公告)日：2017-05-11
申请号：KR1020150151344
申请日：2015-10-29
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01B13/00 , H01B5/14 , H01L31/0216 , H01L31/0224 , H01L31/18 , H01B1/02
Abstract: 본발명은금속그리드와은 나노와이어가포함된복합투명전극및 그제조방법에관한것이다. 본발명에따른금속그리드는포토리소그래피(photolithography) 공정없이제조되는것은특징으로하며, 그리드형상으로프린팅된고분자나노섬유그리드를금속에칭용마스크로이용하는것을특징으로한다. 먼저스퍼터링(Sputtering)과같은물리적인증착공정을이용하여금속박막층을유리기판내지는플라스틱기판에증착한후 EHD(Electrohydrodynamic Dynamic) 젯프린팅공정을이용하여고분자나노섬유를그리드형태로패터닝한 다음, 고분자나노섬유가그려지지않은부분을금속염이들어간식각액을통해금속박막층을제거한뒤, 고분자나노섬유마스크를녹여내서, 금속그리드를제조한다. 그상층에필요시은 나노와이어를더 코팅하여높은투과도를유지하면서우수한전기전도특성을제공한다. 본발명에서는포토마스크의사용없이도 EHD 젯프린팅공정을이용해, 원하는직경과그리드간의간격을갖는투명전극을저렴하고빠르게제조할수 있는새로운투명전극제조공정방법을제공한다.
Abstract translation: 本发明涉及包括金属栅格和纳米线的复合透明电极及其制造方法。 根据本发明的金属栅格在没有光刻工艺的情况下制造，并且其特征在于使用印刷成栅格形状的聚合物纳米纤维栅格作为金属蚀刻掩模。 第一溅射（溅射）形成图案，然后使用物理沉积过程中，沉积在塑料基板使用喷墨印刷方法（高压直流电动态）EHD纳米纤维，如以网格形式naejineun玻璃基板聚合物上的薄金属层，然后，聚合物纳米 通过包含金属盐的蚀刻溶液去除金属薄膜层，并且聚合物纳米纤维掩模被熔化以制备金属栅格。 必要时，纳米线进一步涂覆在上层上以提供优异的导电特性，同时保持高透射率。 在本发明中，在不使用使用EHD喷射印刷工艺的光掩模的，以提供一个新的透明电极的制造方法，可以制造更便宜的和具有网之间的所希望的直径和间距更快的透明电极。
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