Abstract:
본 발명은 외부 식각에 의한 손상이 없는 자기조립을 통하여 강유전체 셀을 2차원으로 배열하여 제조하는 방법에 관한 것으로서, 강염기 용액 처리된 기판 상에 원자력힘 현미경(Atomic Force Microscope,AFM)을 이용하여 전기장을 인가하고, 강유전체 셀이 생성될 핵 생성 장소를 패터닝 한 후, 기판을 상전이 온도보다 낮은 온도에서 강유전체를 형성시키는 수열합성법을 진행시켜 강유전체 셀이 핵생성 장소가 패턴된 자리에서 자기조립되어 형성되는 단계를 포함한다. 강유전체 셀, 원자력힘 현미경, 상전이 온도, 수열합성법, 자기조립
Abstract:
A measuring system for PRAM fatigue using an atomic force microscpoe and homemade W heater tip and controlling method thereof are provided to perform fatigue test under the control of computer program to facilitate chalcogenide phase change substance. A measuring system for phase change random access memory(PRAM) fatigue comprises: a pulse generator(31) to generate repeating set/reset pulses; an atomic force microscope(AFM; 32) having a cell having a substance to cause phase change in response to the pulses; a parameter analyzer(33) to measure parameters according to the phase change of the cell; and a controller(34) to control the pulse generator, the AFM, and the parameter analyzer.
Abstract:
본 발명은 다양한 형태의 물질을 진공 시스템 내부에서 그 타겟부재의 온도, 상기 타겟부재에 가해지는 인가 전압, 펄스 폭, 타겟부재의 기화 후 전구체의 종류 등의 변수에 따라서 원하는 형태의 나노 구조로 변화가능한 형태 조절이 가능한 단결정 나노구조체 제작방법 및 단결정 나노구조체 제작장치에 관한 것이다. 본 발명의 나노 구조는 각각이 저장 매체의 단위로 사용될 수 있어, 고밀도의 저장 매체를 생산할 수 있고, 금속이나 반도체의 나노 사이즈에서 나타나는 특정한 전기적, 물리적 특성을 이용하여 다양한 디바이스의 소형화가 가능하다. 펄스 인가 증발 방법(Pulse induced evaporation method), 형태조절(morphology control), 단결정, 나노구조, 나노와이어, 나노튜브, 나노로드, 상변화 메모리, 칼코게나이드, 하니컴구조(honey-comb structure), 상하부 기판 근접방식
Abstract:
본 발명은 상변화 메모리(Phase-change Random Access Memory, PRAM)의 on/off(set/reset) 반복 동작에 의한 칼코게나이드(chalcogenide)계 PRAM 물질의 피로측정과 원인을 자동 규명하고 제어하는 상변화 메모리의 피로(fatigue) 측정 시스템, 그 제어방법 및 제어 프로그램이 기록된 기록매체에 관한 것으로서, 반복 펄스를 발생하는 펄스 발생기(pulse generator)와, 자체 제작된 텅스텐 히터 팁을 구비하고, 상기 펄스를 입력받아 PRAM의 칼코게나이드계 게르마늄(Ge)-안티몬(Sb)-텔룰라이드(Te) 금속합금셀(GST cell)에 상변화를 일으키는 원자 힘 현미경(AFM)과, 상기 Ge 2 Sb 2 Te 5 (GST) 셀에서의 상변화에 따른 파라미터를 측정하는 매개변수 분석기(parameter analyzer)를 포함한다. 본 발명에 따르면, 상변화 메모리의 피로측정을 자동화할 수 있고, 셋/리셋 사이클에 따른 전기적, 기계적, 구조적 분석이 가능하여 피로원인의 규명과 피로영역의 2차적 분석을 용이하게 할 수 있는 효과가 있다. 상변화 메모리, 칼코게나이드, 피로, Ge2Sb2Te5(GST), 원자 힘 현미경, 텅스텐 히터 팁
Abstract:
PURPOSE: An acoustic emission method is provided to evaluate photo-induced domain switching of a ferroelectric ceramics to be irradiating light. CONSTITUTION: A light, irradiated from a Xenon lamp(1), having energy beyond a band interval is concentrated on an entire ceramic test bar(4) through a waveguide(2) and a lens(3), switching a domain resulting from a space charge field formed by trapping photo-induced unbalanced electrons to a boundary. Elastic energy is temporarily emitted to result in acoustic emission. After sensing the acoustic emission through an acoustic emission sensor(5) and filtering it though a bandpass filter(7), it is amplified by a preamplifier(8) to be analyzed an AET 5500 system(10). An acoustic emission event having a peak amplitude beyond a threshold voltage is calculated to light irradiation time and then a generation rate of the event is counted, normally evaluating photo-induced domain switching activity and predicting a variation amount of photovoltaic current from a compensation loop between the generation rate and the variation rate. Moreover, it is possible to attain the energy to detected acoustic emission signals by an equation(energy=peak amplitude+duration time) and separate an acoustic emission signal by 180 degree and 90 degree. domain switching of ferroelectric ceramics having a tetragonal structure from two groups of a low energy zone and a high energy zone in distribution of the energy.
Abstract:
An apparatus for manufacturing monocrystal nanostructure under the condition of low temperature within a short time is provided to realize miniaturization of various devices using specific electrical and physical properties shown in nano-sized metal or semiconductor. An apparatus for manufacturing monocrystal nanostructure comprises: a main chamber(100) connected to a vacuum unit(106); a base(138) wherein a target member and a heating unit are arranged(20); a holder(122), installed at some distance from the base, fixing a substrate to have a predetermined distance from the target member; a displacement unit adjusting an interval between the target member and the substrate by vertically displacing the holder; a cooling unit cooling the substrate; and a pulse voltage feeding unit applying pulse voltage to the target member.
Abstract:
A method for fabricating a ferroelectric cell using atomic force microscope lithography and hydrothermal epitaxy is provided to minimize the damage to a ferroelectric cell by forming a perovskite-type ferroelectric cell from a growth step by self-assembly. A local electric field is applied to the surface of a substrate(101) to form a patterned protrusion. The protrusion is etched to form a nucleus formation part(102). A ferroelectric cell(103) is formed from the nucleus formation part. The electric field can be applied by using an AFM(atomic force microscope) tip. The nucleus formation part can be formed by soaking the patterned substrate into a strong acid solution for 20-30 minutes.
Abstract:
본 발명은 음향방출(Acoustic Emission, AE)기법을 이용하여 빛조사중에 있는 강유전체 세라믹스의 광여기 분역 반전을 평가하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 크세논 램프(1)에서 나온 대역 간격 이상의 에너지를 갖는 빛을 도파관(2)과 렌즈(3)를 통하여 강유전체 세라믹 시편(4)에 집중시켜 광여기된 비평형 전자들이 입계에 트랩되어 형성된 공간전하전계에 의해 분역 반전이 일어나면서 일시적인 탄성 에너지의 방출에 의한 음향방출이 생기게 하고 이것을 음향방출 센서(5)를 통하여 감지하고 대역 여파기(7)를 통하여 거른 후 전치증폭기(8)에서 증폭하여 컴퓨터(9)와 연결된 AET 5500 시스템(10)에서 분석한 후 문턱 전압이상의 피크 높이를 갖는 음향방출 사건을 빛조사 시간에 대하여 계수한 다음에 음향방출 사건 발생율을 계산함으로써 광여기 분역 반전 활동도를 정성적으로 평가할 수 있으며 미리 결정된 음향방출 사건 발생율과 광압 전류 변화율 사이의 보정 곡선으로부터 광압 전류의 변화량을 � ��측할 수 있다. 또한 본 발명에 의해 검출된 음향방출 신호들에 대해서 에너지=피크 높이(dB) + 10log(지속시간(μs)의 식에 의해 에너지를 구하고 그 에너지의 분포에서 나타난 낮은 에너지 영역과 높은 에너지 영역의 두 그룹으로부터 정방정(Tetragonal) 구조를 갖는 강유전체 세라믹스의 180°와 90°분역 반전에 의한 음향방출 신호를 분리할 수 있다.
Abstract:
기판재료와 서로 다른 종류의 재료를 격자의 연속성이 유지(coherent)되게 박막을 입히는 경우를 헤테로에피택시 박막이라 한다. 이와 같은 박막의 경우 두 재료 간의 격자상수 차이로 인하여 박막층에 정합탄성변형(choerent elastic strain)이 존재하며 이러한 탄성변형을 완화시키기 위해 박막의 표면은 굴곡이 지며 아일랜드 구조로 나타나기도 한다. 이러한 표면굴곡이나 아일랜드구조는 박막의 광전적 성질과 계면반응성에 악영향을 미치기 때문에 최대한 억제되어야 한다. 본 발명에서는 이러한 현상을 억제할 수 있는 방법으로 홈이 파이거나 굴곡을 만들어준 평평하지 않은 기판을 사용하는 방법을 개발하였다. 본 발명은 반도체와 다양한 전자부품에 대표적으로 이용되는 GaAs/Si이나 SiGe/Si계를 비롯하여 표면굴곡이나 아일랜드 구조를 보이는 모든 박막의 제조시에 적용이 가능하다.