산화인듐을 이용한 CIGS 광흡수층 제조방법
    1.
    发明公开
    산화인듐을 이용한 CIGS 광흡수층 제조방법 有权
    使用氧化铝的CIGS吸收层的制造方法

    公开(公告)号:KR1020140122326A

    公开(公告)日:2014-10-20

    申请号:KR1020130038578

    申请日:2013-04-09

    Abstract: 본 발명은 산화인듐을 이용한 CIGS 광흡수층 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 구리(Cu) 전구체, 인듐(In) 전구체 및 갈륨(Ga) 전구체를 스퍼터링(sputtering) 공정을 통해 증착하는 단계; 및 셀레늄(Se) 분위기에서 열처리하는 단계;를 포함하며, 상기 인듐(In) 전구체를 증착하는 단계는, 산화인듐(In
    2 O
    3 )을 타겟으로 하여 산화인듐(In
    2 O
    3 ) 박막을 증착한 다음, 상기 증착된 산화인듐(In
    2 O
    3 ) 박막을 환원시켜 산소를 제거함으로써 인듐(In)층을 형성하는 것으로써, 인듐(In) 전구체의 표면을 평탄하게 하고, 셀레늄(Se) 분위기에서 열처리 후 CIGS 광흡수층의 표면형태를 개선시키며, CIGS 광흡수층과 버퍼층의 접합을 용이하게 할 수 있는 CIGS 광흡수층 제조방법 및 이를 이용한 CIGS 박막 태양전지 제조방법에 관한 것이다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种使用氧化铟制造CIGS光吸收层的方法及使用其制造CIGS薄膜太阳能电池的方法。 更具体地说,制造CIGS光吸收层的方法包括以下步骤:通过溅射工艺沉积铜(Cu)前体,铟(In)前体和镓(Ga)前体; 并在硒(Se)气氛中进行热处理。 在沉积铟(In)前体的步骤中,通过靶向氧化铟(In_2O_3)的氧化铟(In_2O_3)薄膜形成铟(In)层,然后通过将沉积的氧化铟(In_2O_3)薄膜还原成 去除氧化物,从而平滑铟(In)前体的表面,改善在硒(Se)气氛中热处理后的CIGS光吸收层的表面类型,并且容易地将CIGS光吸收层和缓冲层 。

    산화인듐을 이용한 CIGS 광흡수층 제조방법
    2.
    发明授权
    산화인듐을 이용한 CIGS 광흡수층 제조방법 有权
    使用氧化铝的CIGS吸收层的制造方法

    公开(公告)号:KR101482786B1

    公开(公告)日:2015-01-19

    申请号:KR1020130038578

    申请日:2013-04-09

    CPC classification number: Y02E10/50 Y02P70/521

    Abstract: 본 발명은 산화인듐을 이용한 CIGS 광흡수층 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 구리(Cu) 전구체, 인듐(In) 전구체 및 갈륨(Ga) 전구체를 스퍼터링(sputtering) 공정을 통해 증착하는 단계; 및 셀레늄(Se) 분위기에서 열처리하는 단계;를 포함하며, 상기 인듐(In) 전구체를 증착하는 단계는, 산화인듐(In
    2 O
    3 )을 타겟으로 하여 산화인듐(In
    2 O
    3 ) 박막을 증착한 다음, 상기 증착된 산화인듐(In
    2 O
    3 ) 박막을 환원시켜 산소를 제거함으로써 인듐(In)층을 형성하는 것으로써, 인듐(In) 전구체의 표면을 평탄하게 하고, 셀레늄(Se) 분위기에서 열처리 후 CIGS 광흡수층의 표면형태를 개선시키며, CIGS 광흡수층과 버퍼층의 접합을 용이하게 할 수 있는 CIGS 광흡수층 제조방법 및 이를 이용한 CIGS 박막 태양전지 제조방법에 관한 것이다.

Patent Agency Ranking