Abstract:
본 발명의 일 측면은 열형 롤 임프린팅과 블레이드 코팅을 이용하는 필름제품 제조방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 열형 롤 임프린팅과 블레이드 코팅을 이용하는 필름제품 제조방법은, 제1 투명 필름을 준비하는 준비 단계, 임프린트 마스크를 구비한 열형 롤과 지지롤 사이로 상기 제1 투명 필름을 이송하여, 상기 제1 투명 필름에 미세 패턴의 홈을 형성하는 임프린팅 단계, 및 광차단 및 도전성 중 적어도 한 가지 성질을 가지는 패이스트 상태의 충전 물질을 닥터 블레이드로 상기 제1 투명 필름의 상기 홈에 채우는 블레이딩 단계를 포함한다.
Abstract:
본 기재의 열형 롤 임프린팅과 패턴된 제판을 이용하는 인쇄장치는, 패턴용 필름을 연속적으로 공급하는 제1 공급롤, 상기 패턴용 필름에 제1 패턴을 각인하여 패턴된 제판을 형성하는 히팅롤과 제1 서브롤, 원본 패턴을 구비하여 상기 히팅롤의 표면에 장착되는 임프린팅 마스크, 상기 패턴된 제판을 회수하는 제1 회수롤, 상기 제1 패턴에 잉크를 묻히는 잉킹회전롤, 제2 패턴을 형성하는 닥터 블레이드, 제3 패턴을 형성하는 블랭킷롤, 및 인쇄용 필름을 가압하여 상기 블랭킷롤의 제3 패턴을 인쇄용 필름에 인쇄하여 제4 패턴을 형성하는 제2 서브롤을 포함한다.
Abstract:
본 발명의 일 실시예는 코팅층에 대하여 패턴의 임프린트와 경화를 동시에 진행하여 기판의 패터닝 공정을 단순하게 하는 롤 임프린트에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 롤 임프린트 장치는, 이송되는 기판 상에 임프린트 공정을 수행하도록 구성되고, 회전하면서 표면에 형성된 패턴을 상기 기판에 임프린트 하는 패턴 롤, 및 상기 기판을 사이에 두고, 상기 패턴 롤의 반대측에서 회전하면서 상기 기판을 가압하는 가압 롤을 포함하며, 상기 패턴 롤은, 내부에 공간을 가지고, 상기 패턴을 외표면에 구비하여 투명재로 형성되고, 상기 패턴된 부분 또는 상기 패턴들 사이 부분에 선택적으로 형성되는 자외선 차단층을 구비하는 실린더와, 상기 실린더의 공간에 설치되어, 자외선을 조사하는 UV램프를 포함한다.
Abstract:
본 발명은 선폭을 10㎛이하로 할 수 있는 인쇄 장치에 관련된 것으로서 특히 상기 인쇄 장치의 제판 롤러에 요홈되게 형성되는 제1패턴부와, 상기 제1패턴부의 바닥에 요홈되게 형성되되 그 폭은 상기 제1패턴부보다 좁게 형성되는 제2패턴부를 구비하여 상기 제2패턴부의 폭이 10㎛이하가 되더라도 전도성 잉크가 상기 제2패턴부에 꽉 차도록 한 후 피 인쇄체에 전사되도록 하여 10㎛이하의 선폭을 가지도록 인쇄할 수 있는 그라비아 인쇄 장치 및 이를 이용한 전자 인쇄 방법에 대한 것이다.
Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing a solar cell is provided to prevent the damage of an organic active layer by successively forming an anode electrode, a buffer layer, and an organic active layer. CONSTITUTION: An anode electrode(12) is formed on a transparent substrate(11) through a printing process. A buffer layer(13) is formed on the anode electrode through a printing process. An organic active layer(14) is formed on the buffer layer through the printing process. A cathode electrode is patterned or printed on a film(21). The film is pressurized to the transparent substrate in order to laminate the cathode electrode to the active organic layer.
Abstract:
PURPOSE: A roll imprint device is provided to engrave a pattern with various scales of 100 nm to 100 um in a plastic film by controlling the pressure and the temperature. CONSTITUTION: A film roll(12) supplies a flexible substrate wound with a roll shape while rotating. A pattern roll(20) transfers the pattern on the flexible substrate while the flexible pattern plate is fixed on the surface and is rotated. A pressure roll(25) rotates near the pattern roll while interposing the flexible substrate. In a pattern roll, the plate fixing unit is formed on the surface. A plate fastening unit is formed adjacently to the plate fixing unit. A depression unit is depressed from the surface of the pattern roll. A fixing bar fixes one end of the flexible pattern plate while being coupled with the depression unit.
Abstract:
PURPOSE: A fingerprint-proof film and manufacturing method thereof are provided to reduce manufacturing costs of a fingerprint-proof film by forming pre-set patterns in one surface of a transparent film with a recessed groove of 0.1 to 1micron meter depth. CONSTITUTION: A manufacturing method of a fingerprint-proof film(100) is as follows. A transparent film(1) is prepared(ST1). Pre-set patterns are formed in one surface of a transparent film with a recessed groove of 0.1 to 1micron meter depth(ST2). A concave groove(G) is formed in the transparent film by one among a nano imprint, a stepper lithography, and a soft lithography.
Abstract:
본 발명의 일 측면은 노광용 필름을 이용하여 투명 기판에 미세 패턴의 격벽을 형성하는 보안 기판 제조방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 보안 기판 제조방법은, 제1 투명 기판에 노광용 필름을 라미네이팅 하는 제1 라미네이팅 단계, 패턴 마스크를 이용하여 상기 노광용 필름을 노광하는 노광 단계, 상기 노광용 필름을 현상하고 노광부를 제거하여 비노광부로 상기 미세 패턴의 격벽을 형성하는 현상/세정 단계, 및 상기 미세 패턴의 격벽들 사이에 투명재를 채우는 충전 단계를 포함한다.
Abstract:
본 발명의 일 측면은 노광용 필름을 이용하여 투명 기판에 미세 패턴의 격벽을 형성하는 보안 기판 제조방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 보안 기판 제조방법은, 제1 투명 기판에 노광용 필름을 라미네이팅 하는 제1 라미네이팅 단계, 패턴 마스크를 이용하여 상기 노광용 필름을 노광하는 노광 단계, 상기 노광용 필름을 현상하고 노광부를 제거하여 비노광부로 상기 미세 패턴의 격벽을 형성하는 현상/세정 단계, 및 상기 미세 패턴의 격벽들 사이에 투명재를 채우는 충전 단계를 포함한다.
Abstract:
An exposure device for non-planar substrate, a non-planar substrate patterning method using the same, and a non-planar substrate patterned by the same method are provided to prevent non-uniformity of patterns due to diffraction of ultraviolet ray by attaching a film mask on a surface of the non-planar substrate. A mask preparation process is performed to prepare a mask(100) having a non-planar substrate and a predetermined pattern(50). The non-planar substrate is coated with photoresist(150). The mask is attached on a surface of the non-planar substrate by using an adhesive, in order to surround the non-planar substrate. The photoresist layer coated on the non-planar substrate is exposed by using a rotary exposure apparatus. The non-planar substrate is a cylinder structure.