公开(公告)号：KR1020110117830A

公开(公告)日：2011-10-28

申请号：KR1020100037282

申请日：2010-04-22

Applicant: 한국세라믹기술원

Inventor： 이성민 ,  오윤석 ,  김대민 ,  김형태

IPC: C23C24/08 ,  H01L21/205 ,  H01L21/02

Abstract: 본 발명은, 기판과 상기 기판 상에 형성된 Y
2 O
3 코팅막을 포함하며, 상기 Y
2 O
3 코팅막은 상기 기판의 표면과 수평한 결정면에 기인한 2θ=52.2±0.5°에서의 X-선 회절 피크와 Y
2 O
3 의 (222)면에 기인한 X-선 회절 피크가 존재하는 주상 구조의 막이며, 상기 기판의 표면과 수평한 결정면에 기인한 2θ=52.2±0.5°에서의 X-선 회절 피크의 강도가 상기 Y
2 O
3 의 (222)면에 기인한 X-선 회절 피크의 강도 대비 0.03∼4.7 범위를 이루는 내플라즈마 부재 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 내플라즈마 특성이 우수하고, 오염입자 발생이 억제되며, 균열이 없고, 플라즈마에서 생성되어 가속화된 입자에 의한 선택적 식각이 되지 않도록 충분히 낮은 표면조도를 가지며, 0.1㎛ 이상의 큰 기공이 없고 플라즈마에서 발생한 반응가스가 내부로 유입되지 않는 치밀하고 안정한 세라믹 코팅막이 형성될 수 있다.

公开(公告)号：KR1020100131306A

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：KR1020090050123

申请日：2009-06-05

Applicant: 한국세라믹기술원

Inventor： 오윤석 ,  김대민 ,  이성민 ,  김성원 ,  김형태

IPC: C23C4/10 ,  C23C28/00 ,  H01L21/02

Abstract: PURPOSE: A plasma-resistant electronic-beam depositing ceramic coating member and a manufacturing device thereof are provided to enable a ceramic top coating part to be directly formed on a ceramic substrate and to enhance the adhesive force of the ceramic top coating part. CONSTITUTION: A plasma-resistant electronic-beam depositing ceramic coating member consists of an electronic beam depositing film and a ceramic top coating part(110). The electronic-beam depositing film is formed on the surface of a ceramic substrate(101) and is coated with a ceramic top coating part. The ceramic top coating part is selected from yttrium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide and titanium oxide. The ceramic top coating part is selected from oxides of alloy comprising at least one of yttrium, aluminum, zirconium and titanium.

Abstract translation: 目的：提供等离子体电子束沉积陶瓷涂层构件及其制造装置，以使陶瓷顶涂层部分能够直接形成在陶瓷基板上并增强陶瓷顶涂层部分的粘附力。 构成：等离子体电子束沉积陶瓷涂层构件由电子束沉积膜和陶瓷顶部涂层部分（110）组成。 电子束沉积膜形成在陶瓷基板（101）的表面上，并涂覆有陶瓷顶涂层部分。 陶瓷顶涂层选自氧化钇，氧化铝，氧化锆和氧化钛。 陶瓷顶涂层部分选自包含钇，铝，锆和钛中的至少一种的合金的氧化物。

公开(公告)号：KR101221925B1

公开(公告)日：2013-01-14

申请号：KR1020100037304

申请日：2010-04-22

Applicant: 한국세라믹기술원

Inventor： 오윤석 ,  김대민 ,  김경범 ,  이성민 ,  김성원 ,  김형태

IPC: C23C16/00 ,  C23C28/04

Abstract: 플라즈마 환경에서 내구성이 우수하며, 피코팅물과의 접착력이 우수한 플라즈마 저항성 세라믹 피막 및 그 제조 방법에 대하여 개시한다.
본 발명에 따른 플라즈마 저항성 세라믹 피막 제조 방법은 (a) 고분자 기판이나 박판형 금속 기판과 같은 플렉서블(flexible) 기판을 마련하는 단계; (b) 전자빔 증착, 스퍼터링, 이온플레이팅, CVD, 저압식 에어로졸 증착 등과 같은 진공 증착공정을 이용하여 상기 플렉서블 기판 상에 세라믹 막을 형성하는 단계; 및 (c) 상기 형성된 세라믹 막을 정전 척, 히터, 챔버 라이너, 샤워헤드, CVD용 보트, 포커스링, 월 라이너 등과 같은 피코팅물 표면에 코팅하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR101322783B1

公开(公告)日：2013-10-29

申请号：KR1020120048374

申请日：2012-05-08

Applicant: 한국세라믹기술원

Inventor： 이성민 ,  오윤석 ,  김대민

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/02

Abstract: PURPOSE: A ceramic protection layer with excellent resistibility against high density plasma etching and a method for coating the same are provided to prevent the deterioration of a base material by performing a plasma etching process. CONSTITUTION: An anodizing process is performed on a base material under a plasma etching atmosphere using a fluoride process gas in order to form the base material made of anodized aluminum (140). A ceramic protection layer (120) is formed on the surface of the base material. The ceramic protection layer prevents the deterioration of the base material. The thickness of the ceramic protection layer is 0.1 to 10 μm.

Abstract translation: 目的：提供对高密度等离子体蚀刻具有优异的电阻率的陶瓷保护层及其涂覆方法，以通过进行等离子体蚀刻工艺来防止基材的劣化。 构成：使用氟化处理气体在等离子体蚀刻气氛下对基材进行阳极氧化处理，以形成由阳极化铝（140）制成的基材。 陶瓷保护层（120）形成在基材的表面上。 陶瓷保护层防止基材的劣化。 陶瓷保护层的厚度为0.1〜10μm。

公开(公告)号：KR1020110117845A

公开(公告)日：2011-10-28

申请号：KR1020100037304

申请日：2010-04-22

Applicant: 한국세라믹기술원

Inventor： 오윤석 ,  김대민 ,  김경범 ,  이성민 ,  김성원 ,  김형태

IPC: C23C16/00 ,  C23C28/04

Abstract: 플라즈마 환경에서 내구성이 우수하며, 피코팅물과의 접착력이 우수한 플라즈마 저항성 세라믹 피막 및 그 제조 방법에 대하여 개시한다.
본 발명에 따른 플라즈마 저항성 세라믹 피막 제조 방법은 (a) 고분자 기판이나 박판형 금속 기판과 같은 플렉서블(flexible) 기판을 마련하는 단계; (b) 전자빔 증착, 스퍼터링, 이온플레이팅, CVD, 저압식 에어로졸 증착 등과 같은 진공 증착공정을 이용하여 상기 플렉서블 기판 상에 세라믹 막을 형성하는 단계; 및 (c) 상기 형성된 세라믹 막을 정전 척, 히터, 챔버 라이너, 샤워헤드, CVD용 보트, 포커스링, 월 라이너 등과 같은 피코팅물 표면에 코팅하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR101183021B1

公开(公告)日：2012-09-14

申请号：KR1020100037282

申请日：2010-04-22

Applicant: 한국세라믹기술원

Inventor： 이성민 ,  오윤석 ,  김대민 ,  김형태

IPC: C23C24/08 ,  H01L21/205 ,  H01L21/02

Abstract: 본 발명은, 기판과 상기 기판 상에 형성된 Y
2 O
3 코팅막을 포함하며, 상기 Y
2 O
3 코팅막은 상기 기판의 표면과 수평한 결정면에 기인한 2θ=52.2±0.5°에서의 X-선 회절 피크와 Y
2 O
3 의 (222)면에 기인한 X-선 회절 피크가 존재하는 주상 구조의 막이며, 상기 기판의 표면과 수평한 결정면에 기인한 2θ=52.2±0.5°에서의 X-선 회절 피크의 강도가 상기 Y
2 O
3 의 (222)면에 기인한 X-선 회절 피크의 강도 대비 0.03～4.7 범위를 이루는 내플라즈마 부재 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 내플라즈마 특성이 우수하고, 오염입자 발생이 억제되며, 균열이 없고, 플라즈마에서 생성되어 가속화된 입자에 의한 선택적 식각이 되지 않도록 충분히 낮은 표면조도를 가지며, 0.1㎛ 이상의 큰 기공이 없고 플라즈마에서 발생한 반응가스가 내부로 유입되지 않는 치밀하고 안정한 세라믹 코팅막이 형성될 수 있다.

公开(公告)号：KR101123719B1

公开(公告)日：2012-03-15

申请号：KR1020090050123

申请日：2009-06-05

Applicant: 한국세라믹기술원

Inventor： 오윤석 ,  김대민 ,  이성민 ,  김성원 ,  김형태

IPC: C23C4/10 ,  C23C28/00 ,  H01L21/02

Abstract: 고밀도 플라즈마 환경에서 탑 코트의 박리 현상을 방지하여 내구성을 향상시킬 수 있는 전자빔증착 세라믹 피막 부재에 대하여 개시한다.
본 발명에 따른 전자빔증착 세라믹 피막 부재는 세라믹 기재 표면에 세라믹 소재의 전자빔 증착막(electron-beam deposition film)이 세라믹 탑 코트(ceramics top coat)로서 피복되어 있는 것을 특징으로 한다. 이때, 세라믹 탑 코트 하부에는 세라믹 탑 코트와 세라믹 기재와의 열팽창 계수 차이를 완화하기 위하여, 교대형 또는 농도 구배형으로 형성된 중간층이 형성되어 있다.