플라즈마를 이용한 Si-C 복합체 제조장치 및 이를 이용한 Si-C 복합체 제조방법
    1.
    发明公开
    플라즈마를 이용한 Si-C 복합체 제조장치 및 이를 이용한 Si-C 복합체 제조방법 有权
    使用等离子体源的SI-C的制造装置和使用其的制造方法

    公开(公告)号:KR1020160009817A

    公开(公告)日:2016-01-27

    申请号:KR1020140090084

    申请日:2014-07-16

    CPC classification number: B01J19/08 B01J19/18 C01B32/956

    Abstract: 플라즈마를이용한실리콘-탄소(Si-C) 복합체를제조하는기술에관한것으로, 보다상세하게는플라즈마를이용하여실리콘나노입자를형성하고, 실리콘나노입자와탄소를복합화하는 Si-C 복합체제조장치및 제조방법에관하여개시한다. 본발명은반응공간을제공하는반응챔버; 상기반응챔버의상측에구비되며, 플라즈마를발생시켜실리콘전구체를분해하여 Si 입자를생성하는플라즈마토치부; 상기반응챔버내부에구비되며, 상기반응챔버내부로공급되는 Si 입자를냉각하는냉각부; 및상기반응챔버내부로탄소구조체를공급하는탄소체공급부;를포함하고, 상기반응챔버내부에서상기실리콘입자와상기탄소구조체가복합화되는것을특징으로하는플라즈마를이용한 Si-C 복합체제조장치를제공한다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种通过使用等离子体制造硅 - 碳(Si-C)络合物的技术,更具体地说,涉及用于通过使用等离子体形成硅纳米颗粒并用于使硅复合的Si-C复合物的制造装置 纳米颗粒和碳。 本发明包括:用于提供反应空间的反应室; 设置在反应室上侧的等离子体焰炬单元,用于通过产生等离子体并降解硅前体产生Si颗粒; 设置在反应室内的用于冷却供应到反应室内部的Si粒子的冷却单元; 以及用于将碳结构供给到反应室内部的碳体供给单元。 提供了使用等离子体的Si-C复合体的制造装置,其中硅颗粒和碳结构在反应室内络合。

    플라즈마를 이용한 Si-C 복합체 제조장치 및 이를 이용한 Si-C 복합체 제조방법
    6.
    发明授权
    플라즈마를 이용한 Si-C 복합체 제조장치 및 이를 이용한 Si-C 복합체 제조방법 有权
    使用等离子体源的Si-C Si-C制造装置和使用其的制造方法

    公开(公告)号:KR101692443B1

    公开(公告)日:2017-01-04

    申请号:KR1020140090084

    申请日:2014-07-16

    Abstract: 플라즈마를이용한실리콘-탄소(Si-C) 복합체를제조하는기술에관한것으로, 보다상세하게는플라즈마를이용하여실리콘나노입자를형성하고, 실리콘나노입자와탄소를복합화하는 Si-C 복합체제조장치및 제조방법에관하여개시한다.본발명은반응공간을제공하는반응챔버; 상기반응챔버의상측에구비되며, 플라즈마를발생시켜실리콘전구체를분해하여 Si 입자를생성하는플라즈마토치부; 상기반응챔버내부에구비되며, 상기반응챔버내부로공급되는 Si 입자를냉각하는냉각부; 및상기반응챔버내부로탄소구조체를공급하는탄소체공급부;를포함하고, 상기반응챔버내부에서상기 Si 입자와상기탄소구조체가복합화되는것을특징으로하는플라즈마를이용한 Si-C 복합체제조장치를제공한다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种通过使用等离子体制造硅 - 碳(Si-C)络合物的技术,更具体地说,涉及用于通过使用等离子体形成硅纳米颗粒并用于使硅复合的Si-C复合物的制造装置 纳米颗粒和碳。 本发明包括:用于提供反应空间的反应室; 设置在反应室上侧的等离子体焰炬单元,用于通过产生等离子体并降解硅前体产生Si颗粒; 设置在反应室内的用于冷却供应到反应室内部的Si粒子的冷却单元; 以及用于将碳结构供给到反应室内部的碳体供给单元。 提供了使用等离子体的Si-C复合体的制造装置,其中硅颗粒和碳结构在反应室内络合。

    원소 P 또는 B가 과량 함유된 실리콘 나노 입자 및 제조방법
    7.
    发明公开
    원소 P 또는 B가 과량 함유된 실리콘 나노 입자 및 제조방법 有权
    具有超高分子或异丁基的硅烷纳米粒子及其制备方法

    公开(公告)号:KR1020160009807A

    公开(公告)日:2016-01-27

    申请号:KR1020140090047

    申请日:2014-07-16

    CPC classification number: C01B33/02 C01B33/021 C01B33/126 H01M4/38

    Abstract: 본발명은실리콘나노입자및 이의제조방법에관한것으로, 구체적으로는실리콘을유효성분으로포함하는나노입자에있어서, 상기나노입자내/외부에원소 P 또는 B가도핑한계를초과하여존재함으로써상기나노입자가미결정질또는비정질상을갖는것을특징으로하는실리콘나노입자및 이의제조방법에관한것이다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种硅纳米颗粒及其制备方法。 特别地,本发明涉及一种硅纳米颗粒,其包含硅作为活性成分,并且通过在掺杂极限内具有过量的原子P或原子B在纳米颗粒内/外部而具有非晶态或非晶相,并且涉及 制备纳米颗粒的方法。 因此,硅纳米颗粒可以改善使用硅纳米颗粒作为阳极材料的二次电池的充电/放电循环(寿命),该二次电池具有作为关于体积膨胀的减震器的非晶态或无定形相的二阶相 并且在硅的充电/放电期间发生收缩。

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