公开(公告)号：KR101301967B1

公开(公告)日：2013-08-30

申请号：KR1020110048161

申请日：2011-05-20

Applicant: 한국에너지기술연구원

Inventor： 김종휘 ,  이형재 ,  김용일

IPC: C23C4/04

CPC classification number: H05H1/48 ,  B22F1/0018 ,  B22F2999/00 ,  C23C14/22 ,  C23C14/228 ,  C23C14/325 ,  H01J37/32009 ,  H05H1/44 ,  H05H2245/124 ,  B22F9/28 ,  B22F9/24 ,  B22F3/003

Abstract: 본 발명은 플라즈마 나노분말 합성 및 코팅 장치 및 그 방법에 관한 것으로, 플라즈마 나노분말 합성 및 코팅 장치는, 밀폐된 공간을 형성하며, 일측에 마련된 반응부와 타측에 마련된 공정부를 구비한 챔버를 포함하며, 상기 챔버에서 유동되는 기체의 상류측에 마련된 상기 반응부에서는 공급되는 전류에 의해 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 토치에 의해 형성된 고온의 플라즈마 영역이 구비되고, 혼합가스를 상기 반응부로 공급하는 혼합가스 공급부와, 상기 반응부로 분말을 공급하는 분말 공급부가 구비되며, 상기 챔버에서 유동되는 기체의 하류측에 마련된 상기 공정부에는, 소재를 지지하는 지지부를 구비하며, 상기 챔버 내부를 진공으로 형성시키는 진공형성부;를 포함하고, 상기 반응부로 공급된 분말은 상기 반응부의 상기 플라즈마 영역에 서 반응되며, 상기 반응된 분말이 상기 반응부, 상기 공정부 및 상기 지지부 표면에서 합성되며, 상기 지지부의 소재 표면에 코팅되어 코팅층을 형성하며, 상기 플라즈마 토치는 상기 반응부의 상부 중심에서 이격되어 복수로 마련되어 등간격으로 상기 반응기 상부에 배치되어 상기 플라즈마 토치는 상기 반응부의 중앙 영역에서 상기 플라즈마 영역을 합성하여 형성하고, 상기 분말 공급부는 분말을 상기 반응부의 중앙 영역에 형성된 상기 플라즈마 영역으로 공급 가능하게 상기 반응부의 중심에 배치된 것을 특징으로 한다.
이에, 이종 분말을 반응, 합성 및 코팅을 동시에 할 수 있으며, 다양한 반응 조건을 간단하고 편리하게 조절할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020120130039A

公开(公告)日：2012-11-28

申请号：KR1020110048161

申请日：2011-05-20

Applicant: 한국에너지기술연구원

Inventor： 김종휘 ,  이형재 ,  김용일

IPC: C23C4/04

CPC classification number: H05H1/48 ,  B22F1/0018 ,  B22F2999/00 ,  C23C14/22 ,  C23C14/228 ,  C23C14/325 ,  H01J37/32009 ,  H05H1/44 ,  H05H2245/124 ,  B22F9/28 ,  B22F9/24 ,  B22F3/003

Abstract: PURPOSE: A plasma nano-powder synthesizing and coating apparatus and a method thereof are provided to form a coating layer with a low density of pores by controlling the size and density of metal to be coated. CONSTITUTION: A plasma nano-powder synthesizing and coating apparatus(100) comprises a chamber(110) including a reaction part(200) and a processing part(300). The reaction part has a high-temperature plasma region formed by a plasma torch(210) that generates plasma with electric current. The reaction part comprises a mixed gas supply unit(270) which supplies mixed gas to the reaction part and a powder supply unit(290) which supplies powder to the reaction part. The processing part comprises a supporting unit(310) which supports a material(330) and a vacuum forming unit(410) which forms a vacuum in the chamber. The powder supplied to the reaction part reacts in the plasma region and is synthesized on the surfaces of the reaction part, the processing part, and the supporting unit so that the surface of the material in the supporting unit is coated with the powder.

Abstract translation: 目的：提供等离子体纳米粉末合成和涂布装置及其方法，通过控制待涂覆的金属的尺寸和密度来形成具有低密度孔的涂层。 构成：等离子体纳米粉末合成和涂覆装置（100）包括包括反应部分（200）和处理部分（300）的室（110）。 反应部分具有通过等离子体焰炬（210）形成的高温等离子体区域，其通过电流产生等离子体。 反应部分包括向反应部分供应混合气体的混合气体供应单元（270）和向反应部分供应粉末的粉末供应单元（290）。 处理部分包括支撑单元（310），该支撑单元支撑在腔室中形成真空的材料（330）和真空形成单元（410）。 供给到反应部的粉末在等离子体区域中反应，并且在反应部分，处理部分和支撑单元的表面上合成，使得支撑单元中的材料的表面被粉末涂覆。